“麦斯克电子材料有限公司”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果161个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[实用新型]一种用于清洗单晶硅抛光片的湿法进料升降台-CN201520250194.0有效
发明人：邵奇;赵文龙;熊诚雷;吴跃峰;史舸;魏海霞 -专利权人： 麦斯克电子材料有限公司
申请日： 2015-04-23 - 公布日： 2015-08-26 - 主分类号： B08B13/00 文献下载
摘要：本实用新型公开一种用于清洗单晶硅抛光片的湿法进料升降台，升降台设置在清洗水槽正上方并能上下移动，升降台包括呈“L”形设置的侧壁和底壁，所述侧壁上部设有用于将升降台固定在升降电机上的螺孔，侧壁的下部沿竖直方向设有长条形的传感通孔，所述底壁上均匀分布有通水孔，底壁的上端还固定设有片盒定位卡槽；所述升降台还包括片盒光电对射传感器，片盒光电对射传感器的发射端和接收端分别设置在清洗水槽的两侧，片盒光电对射传感器的接收端可通过传感通孔接收发射端发出的光电信号。本实用新型所用的各种组件安装操作方便，有效地解决操作者放片盒困难，洁净度差，片盒光电对射传感器给出错误信号的问题，大大提高了生产效率。
一种用于清洗单晶硅抛光湿法进料升降台

[实用新型]一种用于硅片清洗的组合式装载片盒-CN201520250092.9有效
发明人：熊诚雷;邵奇;吴跃峰 -专利权人： 麦斯克电子材料有限公司
申请日： 2015-04-23 - 公布日： 2015-08-26 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种用于硅片清洗的组合式装载片盒，属于硅单晶片的生产领域，由外套片盒和装载4英寸硅片的内置片盒构成，且内置片盒以可拆卸方式嵌套在外套片盒内。本实用新型通过在外套片盒内设置内置片盒，将4英寸硅片装载在内置片盒内实现了清洗机对4英寸硅片的兼容，实现了清洗机对三种尺寸硅片的兼容，制作简单，使用方便，避免了额外购置清洗机来清洗不同尺寸硅片导致的成本提升。
一种用于硅片清洗组合式装载

[实用新型]一种具有加热及隔断功能的片盒清洗机纯水槽-CN201520249898.6有效
发明人：吴跃峰;熊诚雷;邵奇 -专利权人： 麦斯克电子材料有限公司
申请日： 2015-04-23 - 公布日： 2015-08-26 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本实用新型公开一种具有加热及隔断功能的片盒清洗机纯水槽，所述纯水槽通过隔断分为两个分槽槽A和槽B，两个分槽通过循环水管相互连通，分槽的内部均设有电加热器，每个分槽的侧边均从低到高依次设有低液位传感器、满液位传感器和溢流液位传感器，设置在两个分槽外部的循环水管上设有两个循环气动阀，两个循环气动阀之间的循环水管上设有循环泵，循环泵通过出水管连接清洗机的清洗腔，出水管上设有抽水气动阀；所述槽A通过进水管与纯水水源连接，纯水管上设有注水气动阀。本实用新型可实现片盒清洗机连续、高效、安全运行，解决原有工艺的清洗效果不彻底，不连续，工艺周期长，生产成本高，存在安全隐患等问题。
一种具有加热隔断功能清洗水槽

[实用新型]一种用于硅晶片表面研磨的研磨液供应装置-CN201520250038.4有效
发明人：李战国;史舸;孙智武;魏海霞 -专利权人： 麦斯克电子材料有限公司
申请日： 2015-04-23 - 公布日： 2015-08-26 - 主分类号： B24B37/34 文献下载
摘要：一种用于硅晶片表面研磨的研磨液供应装置，属于半导体材料硅晶片制造领域，包括纯水管、配液罐、循环供应罐、隔膜泵Ⅰ、隔膜泵Ⅱ和带有阀门Ⅱ的循环供应管道，纯水管向配液罐内输送纯水，配液罐通过隔膜泵Ⅰ和输送管道将配制好的研磨液送入循环供应罐内，循环供应罐再通过隔膜泵Ⅱ和循环供应管道将研磨液根据需要送到若干个双面研磨工艺机台，从而实现了多台双面研磨工艺机台公用一套研磨液供应装置，这样解决了因频繁配制研磨液而造成无谓停机、生产效率低下的问题，还解决了生产现场脏乱差的问题，具有结构简单、环保卫生、使用方便、便于清洗、安全可靠等的优点。
一种用于晶片表面研磨供应装置

[实用新型]一种单晶硅片研磨用磨板的平整度测量装置-CN201520250039.9有效
发明人：孙智武;杨波;史舸;李战国;崔小换 -专利权人： 麦斯克电子材料有限公司
申请日： 2015-04-23 - 公布日： 2015-08-26 - 主分类号： G01B5/28 文献下载
摘要：一种单晶硅片研磨用磨板的平整度测量装置，属于半导体材料单晶硅的生产领域，包括标准平板、条形的测量架和七个依次排列设置在测量架上的千分表，测量架底部的两端分别设有支脚，其侧部设置有两个手柄，七个依次排列的千分表呈一定规则排布，以保证测量架沿中心齿圈相切的方向放置在磨板表面时，七个千分表的探针均分布于磨板表面的凸台上。本实用新型通过在测量架上有规律的排布七个千分表，并利用标准平板对各千分表校核，然后将测量架转移到待测磨板表面，通过记录观察各千分表的读数变化，从而简单直观的得出待测磨板的平整度变化，具有结构简单、测量方法简单易行、精确度高的优点。
一种单晶硅研磨用磨板平整测量装置

[实用新型]一种新型多线切割机晶托防护栏-CN201520191699.4有效
发明人：寇文杰;崔小换;魏海霞 -专利权人： 麦斯克电子材料有限公司
申请日： 2015-04-01 - 公布日： 2015-08-19 - 主分类号： B28D5/04 文献下载
摘要：一种新型多线切割机晶托防护栏，适用于硅片生产加工过程中硅材料四周边皮向外倾倒所产生的不安全隐患。本实用新型采取在多线切割机晶托（1）上的每一块外边缘矩形底块（2）表面中心位置加工圆孔（3），在圆孔（3）内插入不锈钢圆棒（4），构成在晶托（1）四周的防护栏。防止加工硅材料时产生的边皮倾倒的不安全隐患问题。本实用新型加工工艺简单，操作方便，成本低。采用不锈钢圆棒（4）替代防护板，在使用中不易损坏且随时可以更换，提高了工作效率，降低了生产成本。
一种新型切割机晶托防护栏

[实用新型]一种抛光液配制系统-CN201520191650.9有效
发明人：胡晓亮;赵文龙;高烨;崔小换 -专利权人： 麦斯克电子材料有限公司
申请日： 2015-04-01 - 公布日： 2015-08-19 - 主分类号： B01F7/02 文献下载
摘要：一种抛光液配制系统，用于单晶硅衬底片化学机械抛光生产技术领域。本实用新型通过双桶、双泵和过滤器的配合切换使用可实现大容量配制、搅拌、持续循环供给生产现场的功能，解决了搅拌不够均匀、配制次数频繁、配制中产生的颗粒供给生产现场的缺点。本实用新型的第一供给球阀（4）和第三供给球阀（5）、第一供给泵（3）、第一回流球阀（8）和过滤系统（15）通过管道连接构成1号配置桶（1）的循环供应回流系统；由第四供给球阀（12）和第二供给球阀（14）、第二供给泵（13）、第二回流球阀（9）、过滤系统（15）通过管道连接构成2号配置桶（11）的循环供应回流系统。本实用新型的1号配置桶（1）和2号配置桶（11）可相互切换使用，操作方便，安全可靠，可满足大规模生产使用的抛光液配制。
一种抛光配制系统

[实用新型]一种有蜡贴片台用甩蜡罩驱动装置-CN201520191341.1有效
发明人：胡晓亮;赵文龙;高烨;崔小换 -专利权人： 麦斯克电子材料有限公司
申请日： 2015-04-01 - 公布日： 2015-08-19 - 主分类号： B24B37/34 文献下载
摘要：一种有蜡贴片台用甩蜡罩驱动装置，适用于单晶硅衬底片抛光生产过程中，有蜡贴片台回收和防止多余蜡外溅。本实用新型通过压空进口调节阀（8）和压空出口调节阀（10）控制气缸（9）上下运行速度，气缸（9）上升时驱动连接在气缸（9）上的圆柱轴（3）和安装在法兰式直线轴承固定支架（5）上并可在法兰式直线轴承（1）中上下移动的圆柱轴（3）均速向上移动的同时带动甩蜡罩（6）向上移动，将硅片（4）置于甩蜡罩腔体内，以防止在高速运转时硅片（4）上的液体蜡（2）向外飞溅并回收液体蜡（2）。本实用新型采用由一个气缸（9）牵引驱动甩蜡罩（6）上下移动的结构设计使甩蜡罩上下运行均速、顺畅，解决了因双气缸驱动产生的运行速度不一致而造成的气缸损坏问题，本实用新型结构简单，使用方便。
一种有蜡贴片台用甩蜡罩驱动装置

[实用新型]一种两槽手动清洗机片盒挂件-CN201520191609.1有效
发明人：胡晓亮;赵文龙;高烨;崔小换 -专利权人： 麦斯克电子材料有限公司
申请日： 2015-04-01 - 公布日： 2015-08-19 - 主分类号： B08B13/00 文献下载
摘要：一种两槽手动清洗机片盒挂件，适用于单晶硅清洗机在清洗单晶硅片时将装有硅片的片盒在两个槽体间移动。本实用新型采取在侧挡板（1）顶部增加手柄（2）的设计方便现场搬运，在两块侧挡板（1）之间的中间位置及靠近侧挡板（1）内侧位置上焊有四根固定横梁（5），并在固定横梁（5）上分别开有与硅片片盒宽度尺寸相同的4英寸硅片卡槽（6）、5英寸硅片卡槽（7）的技术方案，通过可移动挡板（4）完成不同规格尺寸的硅片清洗过程，不需要频繁更换不同规格尺寸的片盒挂件。本实用新型所用组件数量少，加工工艺简单，安装操做方便，有效解决了因清洗的硅片规格尺寸不同而频繁更换片盒挂件问题。
一种手动清洗机片盒挂件

[实用新型]一种氩气填充稳流装置-CN201520049236.4有效
发明人：韩子萌;司鹏辉 -专利权人： 麦斯克电子材料有限公司
申请日： 2015-01-26 - 公布日： 2015-07-15 - 主分类号： C30B15/00 文献下载
摘要：一种氩气填充稳流装置，适用于直拉法硅单晶生产过程中向单晶炉体内填充氩气。本实用新型的氩气填充稳流装置通过由初级分流层（6）、二级分流层（5）、三级分流层（4）、末级分流层（3）构成的逐级倍增的四级分气孔流的前级整流体和后级稳流体以及稳流体导流沟槽（11）的共同作用，可使填充到单晶炉内的氩气流量分配平稳有序，偏流小并使炉室内氩气分布均匀，有效解决了由于氩气填充造成的晶棒摆动和晶棒氧碳含量超标的问题，明显提高了成晶率。本实用新型设计结构简单，组装定位可靠，安装和维修方便。
一种填充装置

[发明专利]抛光粘片用液态蜡及其制备方法和抛光粘片的工艺-CN200710055082.X无效
发明人：陈兴邦;史舸;王文卫;王文;郭体强;李科技 -专利权人： 麦斯克电子材料有限公司
申请日： 2007-08-29 - 公布日： 2009-03-04 - 主分类号： C09G1/08 文献下载
摘要：本发明公开一种抛光粘片用液态蜡及其制备方法和抛光粘片的工艺，液态蜡含有的组份(按1万克重量比)：662.3～665.7的聚乙烯二醇、198.5～201.5的漆片、548.7～551.2的异丙醇、307.0～309.7的25％的氨水、2347.8～2353.4的18兆去离子水、5913.1～5940.8的8030树脂；将各组份依次按顺序和重量比，倒入配蜡桶之中，通过磁力搅拌使配料慢慢混匀即可制得；该液态蜡能够保证蜡液的均匀，粘度一致性，抛光速率高，适宜大批量生产需求，而且抛光片表面质量好。
抛光粘片用液态及其制备方法工艺

首页
«上一页
1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
共 161 条