专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]成膜方法-CN201980062919.4在审
  • 小平周司;高桥铁兵;飞石尧大;山村典史;片桐弘明;久保纯也;铃木正明 - 株式会社爱发科
  • 2019-12-11 - 2021-05-07 - C23C14/50
  • 本发明的目的是提供一种可简便地设置与目标薄膜厚度对应的被处理基板的公转角速度和自转角速度的最佳值的成膜方法。本发明的成膜方法,其中在真空室(1)内,在同一平面内使被处理基板(Sw)绕公转轴(22)公转,并使被处理基板以被处理基板中心(Sc)为旋转中心自转,从成膜源(31、32)供给成膜材料在被处理基板表面形成规定的薄膜,所述成膜源配置在与自公转的被处理基板相对的真空室内的规定位置上,所述成膜方法包括设置工序,其中将形成的薄膜的目标薄膜厚度设为T,以一个公转周期中在基板上形成薄膜的薄膜厚度设为D,将基板的自转角速度相对于公转角速度的比α设置为满足式(1)的值(其中呈整数倍和半整数倍的情况除外):α≥6/log10(T/D)(1)。
  • 方法

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