专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]场效应晶体管及其设计方法-CN202110218905.6在审
  • 加濑正史;青木和夫;山腰茂伸;内田悠贵 - 诺维晶科股份有限公司
  • 2021-02-26 - 2021-08-27 - H01L29/10
  • 提供能在高温环境下或被放射线照射环境下使用且实现了常截止动作的通用性高的场效应晶体管及其设计方法。场效应晶体管(1)具备:Ga2O3系半导体层(2);源极区域(3)和漏极区域(4),其形成于Ga2O3系半导体层(2)的内部;栅极电极(7),其隔着栅极绝缘膜(6)形成在沟道区域(5)上,沟道区域(5)是源极区域(3)与漏极区域(4)之间的Ga2O3系半导体层(2);源极电极(8),其连接到源极区域(3);以及漏极电极(9),其连接到漏极区域(4),在场效应晶体管(1)中,在栅极电极(7)与沟道区域(5)之间形成包括负电荷的界面电荷(11),栅极阈值电压为4.5V以上。
  • 场效应晶体管及其设计方法

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