专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]高强高模有机硅改性PI/SiO2杂化薄膜的制备方法-CN201310419719.4有效
  • 石光;陈银珊;黄雨鸣;陈建平 - 华南师范大学
  • 2013-09-13 - 2014-01-01 - C08G73/10
  • 本发明公开了一种高强高模有机硅改性PI/SiO2杂化薄膜的制备方法,包括以下步骤:1)将氨基硅烷偶联剂与芳香族二酐在溶剂中进行充分的反应;2)将芳香族二胺溶于溶剂中制成溶液,向此溶液中加入步骤1)的体系、芳香族二酐、正硅酸乙酯进行聚合反应得到有机硅改性聚酰胺酸溶液;3)将上步得到的有机硅改性聚酰胺酸溶液稀释,再涂覆到支撑体上,烘烤得到薄膜;4)将薄膜升温脱水交联,制得产物。本发明制得的杂化膜具有较高的拉伸强度与弹性模量,避免了常规加入溶胶-凝胶状态二氧化硅给体系带来大量水的弊端,本发明提出的制备方法能很好地控制反应的均匀性和准确性,实验周期短,工艺简单,适合工业化生产。
  • 高强有机硅改性pisiosub薄膜制备方法

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