专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]掩模干燥装置-CN202110634856.4在审
  • 姜爀;金栽豊;安昶昱 - 三星显示有限公司
  • 2021-06-08 - 2022-02-18 - H01J37/32
  • 公开了一种掩模干燥装置。所述掩模干燥装置包括:腔室;等离子体产生部件,连接于腔室的一侧壁;第一干燥部件,布置在垂直于一侧壁的腔室的下部壁;掩模固定部件,固定掩模;以及旋转部件,连接于掩模固定部件,其中,掩模固定部件能够借由旋转部件而在等离子体产生部件与第一干燥部件之间旋转。
  • 干燥装置
  • [发明专利]掩模组件的清洁装置-CN202011145129.3在审
  • 金栽豊;姜爀 - 三星显示有限公司
  • 2020-10-23 - 2021-06-18 - B08B3/08
  • 本发明公开了掩模组件的清洁装置。掩模组件的清洁装置包括有机溶剂清洁部、第一超纯水清洁部、电解质清洁部、第二超纯水清洁部和等离子体供给部,其中,所述有机溶剂清洁部用有机溶剂对掩模组件的异物进行清洁,所述第一超纯水清洁部用超纯水对在所述有机溶剂清洁部中清洁的所述掩模组件进行清洁,所述电解质清洁部用电解质对在所述第一超纯水清洁部中清洁的所述掩模组件进行清洁,所述第二超纯水清洁部用超纯水对在所述电解质清洁部中清洁的所述掩模组件进行清洁,并且所述等离子体供给部用等离子气体对用超纯水清洁的所述掩模组件进行干燥并且用等离子气体去除所述掩模组件的异物。
  • 模组清洁装置

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