专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]后处理装置及液体喷出装置-CN202111138908.5有效
  • 宫川正好;足立裕尚 - 精工爱普生株式会社
  • 2021-09-27 - 2023-10-03 - B26D5/00
  • 本发明提供后处理装置及液体喷出装置。在对被喷出了液体的介质进行穿孔的情况下,降低穿孔屑残留的穿孔不良。后处理装置具备:承载台(9),承载被喷出了液体(3)的介质(P);穿孔部件(11),通过对承载于承载台(9)的介质赋予剪切力来进行穿孔;冲模孔(13),设置于承载台(9);穿孔部件移动部(15),使穿孔部件(11)在比冲模孔(13)靠向上方的待机位置和进入到冲模孔(13)的穿孔位置之间移动;以及控制部(17),控制穿孔部件移动部(15)的动作,控制部在穿孔部件从所述待机位置开始移动并经过所述穿孔位置而移动到所述待机位置的穿孔动作时得到穿孔不良信息的情况下,控制穿孔部件移动部,以对介质赋予再次的剪切力。
  • 处理装置液体喷出
  • [发明专利]片材输送装置及片材输送装置的控制方法-CN202310119195.0在审
  • 内堀宪治;宫泽正树;足立裕尚;原俊 - 精工爱普生株式会社
  • 2023-01-31 - 2023-08-04 - B65H1/04
  • 本发明提供片材输送装置及片材输送装置的控制方法。在片材(S)的装载张数少的状态与多的状态之间,输送部(22)的输送力会发生改变。因此,有时会发生片材输送不良。一种片材输送装置(1),具备:装载部(7),传送来的片材(S)装载于装载部(7);输送部(22),对装载于装载部(7)的片材装载面(21)的片材(S)赋予朝向整合部(9)输送的输送力(P2);以及调整部(23),调整输送力(P2),调整部(23)具有:可动装载部(24),形成为使片材装载面(21)的至少一部分能够朝向输送部(22)突出;以及驱动部(25),使可动装载部(24)向突出的方向和退避的方向位移。
  • 输送装置控制方法
  • [发明专利]记录系统及记录系统的控制方法-CN202211674340.3在审
  • 足立裕尚;宫泽正树;内堀宪治 - 精工爱普生株式会社
  • 2022-12-26 - 2023-06-30 - B41J2/01
  • 本发明提供记录系统及记录系统的控制方法,通过维护动作能够在不降低记录质量的情况下提高处理速度。在以盖从维护位置向分离位置的位移为基准而测量的时间超过了规定时间时,能够通过液体的喷出来执行维护动作。在记录作业中的记录动作开始前,使第一张介质在液体喷头的上游的介质能够待机的待机位置待机。盖在记录作业中的第一张介质在待机位置待机时位于分离位置。在初始控制期间,能够在维护动作的同时执行对比第一张数少的第二张数的介质的后处理动作,在初始控制期间结束后,能够在维护动作的同时执行对第一张数的介质的后处理动作。
  • 记录系统控制方法
  • [发明专利]输送装置以及处理装置-CN202011048470.7有效
  • 儿玉秀俊;足立裕尚;桥口波辉 - 精工爱普生株式会社
  • 2020-09-29 - 2023-03-21 - B65H29/52
  • 本发明公开了输送装置以及处理装置,不受介质的种类影响,能够良好地矫正记录后的介质的偏斜。该输送装置具备向输送方向输送通过记录部进行记录后的介质(12)的输送路(17)以及与输送路(17)中输送的介质(12)的前端接触来调整介质的输送状态的接触部(41)。输送路(17)具有将输送的介质(12)向接触部(41)引导的引导部(47),引导部(47)具有能够摆动的第一引导部(43)以及与第一引导部(43)对置且能够摆动的第二引导部(44),第一引导部(43)和第二引导部(44)被设置成在输送路(17)中未输送介质(12)时配置于待机位置,且能够从待机位置向彼此远离对方侧的方向移动。
  • 输送装置以及处理
  • [发明专利]记录系统-CN202210880102.1在审
  • 宫泽正树;远藤千秋;足立裕尚 - 精工爱普生株式会社
  • 2022-07-25 - 2023-02-03 - B41J13/10
  • 本发明涉及记录系统。在后处理装置大型化的情况下,难以支承后处理装置,在将后处理装置伸到下方的情况下,可能难以操作处理部。记录系统(1)具备打印机(10)、后处理装置(60)以及设置于打印机(10)的设置区域(S1)的外侧的地板部(2)的第一支承部(102)。打印机(10)具有通过从装置主体(12)向外侧移动而能够进行处理的手动托盘(18)及开闭部(34)。后处理装置(60)相对于移动后的手动托盘(18)及开闭部(34)位于Z方向的上方。第一支承部(102)形成使手动托盘(18)及开闭部(34)能够移动的空间部(103)并且支承后处理装置(60)。
  • 记录系统
  • [发明专利]记录装置及记录装置附近的密集度计算方法-CN202210528856.0在审
  • 足立裕尚;小口武;小菅启之 - 精工爱普生株式会社
  • 2022-05-16 - 2022-11-22 - G06F3/12
  • 本申请涉及记录装置及记录装置附近的密集度计算方法,可以在去记录装置取记录后的介质时减少与人接触或接近的频率。记录装置(11)具备:接收部(31),接收从用户发送来的记录数据;记录部(20),根据记录数据在介质上进行记录;保存部(33),在进行记录之前暂时保存记录数据;以及排出托盘(17),供进行记录后的介质排出。记录装置(11)具有控制记录装置(11)的控制部(30),在将表示被预测为聚集在记录装置(11)附近的人数的值的大小的指标设为记录装置(11)附近的密集度的情况下,控制部(30)根据与保存于保存部(33)的记录数据相关的信息计算密集度,并使密集度成为能够参照的状态。
  • 记录装置附近密集计算方法
  • [发明专利]液体喷出装置及其控制方法、存储介质-CN202111082729.4在审
  • 足立裕尚;牧阳一郎 - 精工爱普生株式会社
  • 2021-09-15 - 2022-03-18 - B41J2/01
  • 本发明公开了液体喷出装置及其控制方法、存储介质。记录系统(1)具备喷出部(22)、打孔部(40)以及控制部(24)。喷出部通过向由输送部(28)输送的纸张(P)喷出墨(Q)来形成图像(G)。打孔部对被从喷出部(22)喷出墨(Q)的纸张(P)形成多个贯通孔(A)。控制部基于图像数据(DG)控制喷出部(22)中的墨(Q)的每单位面积的喷出量。控制部将区域(S)划分为不包括贯通孔(A)的第一区域(S1)和包括贯通孔(A)的第二区域(S2),并以使在第二区域(S2)形成图像(G)时的每单位面积的第二喷出量(d2)比在第一区域(S1)形成图像(G)时的每单位面积的第一喷出量(d1)少的方式控制喷出部(22)中的墨(Q)的喷出量。
  • 液体喷出装置及其控制方法存储介质
  • [发明专利]介质处理装置、记录系统以及装置单元-CN201911088518.4有效
  • 塩原浩;足立裕尚;上野幸平;大桥一顺 - 精工爱普生株式会社
  • 2019-11-08 - 2021-07-23 - B65H37/06
  • 公开了一种介质处理装置、记录系统以及装置单元。在具备第一处理部的介质处理装置上以简单结构且保养性良好地追加第二处理部。此外,避免了追加的第二处理部妨碍从第一托盘上取出介质,第一托盘载置经第一处理部处理后的介质。介质处理装置具备:第一单元,具备对从第一接收部接收的介质进行第一处理的第一处理部以及将从第一接收部接收的介质不经由第一处理部而送出的送出部;以及第一托盘,设置在第一单元的外侧,接受从第一单元排出的第一处理后的介质;第一单元构成为在第一托盘的下方可拆装第二单元,第二单元具备接收从送出部送出的介质的第二接收部以及对从第二接收部收到的介质进行第二处理的第二处理部。
  • 介质处理装置记录系统以及单元

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