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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]清洁方法-CN201680064740.9有效
发明人：彼得·斯通;克里斯托弗·S·奥尔森;郭塘坊;谢平汉;丁震文 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-12-12 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：本公开内容的实现方式一般地涉及用于在基板表面上外延沉积的方法和设备。更具体言之，本公开内容的实现方式一般地涉及用于在外延沉积之前作表面预备(preparation)的方法和设备。在一个实现方式中，提供了一种处理基板的方法。该方法包括以下步骤：通过使用等离子体蚀刻处理来蚀刻含硅基板的表面以形成该含硅基板的经蚀刻的表面，及在该含硅基板的经蚀刻的表面上形成外延层。该等离子体蚀刻处理包括以下步骤：将包含含氟前驱物和含氢前驱物的蚀刻剂气体混合物流入第一处理腔室的基板处理区域，及由流入基板处理区域的该蚀刻剂气体混合物形成等离子体。
清洁方法

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