专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]折返式补锂设备-CN202020432869.4有效
  • 谭志;张艳芳;虞文韬 - 维达力实业(深圳)有限公司
  • 2020-03-30 - 2020-12-29 - C23C14/56
  • 本实用新型涉及一种折返式补锂设备,包括补锂腔室及设于其内的放卷装置、收卷装置、导向轮组、至少两个靶材安装机构组及基片加热机构;导向轮组包括第一、第二导向轮,第一导向轮用于导向且使基片上第一侧表面的第一区域和第二区域相对设置,第二导向轮用于导向且使基片上第二侧表面的第三区域和第四区域相对设置;各组内的靶材安装机构的数量均为多个且沿基片的传输方向设置;其中有两个靶材安装机构组分别设于基片的第一区域和第二区域之间的位置、第三区域和第四区域之间的位置;基片加热机构包括加热安装机构及设于其上的加热片,加热安装机构设于各组内的相邻两个靶材安装机构之间,加热片用于对基片加热。
  • 折返式补锂设备
  • [实用新型]直线型补锂设备-CN202020434374.5有效
  • 谭志;张艳芳;虞文韬 - 维达力实业(深圳)有限公司
  • 2020-03-30 - 2020-12-25 - C23C14/56
  • 本实用新型涉及一种直线型补锂设备,包括补锂腔室及设于其内的放卷装置、收卷装置、至少两个靶材安装机构组及基片加热机构;放卷装置、收卷装置用于对待补锂的基片放卷、收卷;至少两个靶材安装机构组用于安装补锂的靶材且设于放卷装置与收卷装置之间,至少两个靶材安装机构组分别用于与放卷装置与收卷装置之间的基片的两个侧表面对应设置;各组内的靶材安装机构的数量均为多个,且同一组内的多个靶材安装机构在自放卷装置至收卷装置的方向上依次呈直线分布;基片加热机构包括加热安装机构及设于加热安装机构上的加热片,加热安装机构设于各组内的相邻两个靶材安装机构之间,加热片用于对放卷装置与收卷装置之间的基片加热。
  • 线型设备
  • [实用新型]多基片补锂设备-CN202020723739.6有效
  • 虞文韬;张艳芳;谭志 - 维达力实业(深圳)有限公司
  • 2020-05-06 - 2020-11-27 - H01M4/1395
  • 本实用新型涉及一种多基片补锂设备,包括补锂腔室和设于所述补锂腔室内的多基片放卷装置、多基片收卷装置、多基片引带装置、靶材安装机构组及遮蔽装置。上述多基片补锂设备在使用时,只需将多卷基片安装于多基片放卷装置上,将多卷基片的一端固定于引带轴,然后通过引带驱动件驱动引带轴从多基片放卷装置运动至多基片收卷装置处,再将多卷基片的一端固定于多基片收卷装置上,便可完成多卷基片同时补锂的准备工作。如此,有利于快速高效地实施多卷基片的同时补锂,提高了补锂的效率。
  • 多基片补锂设备
  • [发明专利]含硅负极材料的折返式补锂方法及负极片、电池-CN202010237328.0在审
  • 谭志;张艳芳;虞文韬 - 维达力实业(深圳)有限公司
  • 2020-03-30 - 2020-08-21 - C23C14/56
  • 本发明涉及一种含硅负极材料的折返式补锂方法及负极片、电池,该方法包括如下步骤:将含硅负极材料形成于集流体上制得基片;将基片进行预加热,并将基片在真空条件的氛围下采用真空溅射的方式进行补锂;其中预加热的温度高于氛围的温度且低于补锂的靶材的熔点,氛围的温度为30℃~130℃;在真空溅射的步骤中,基片上第一侧表面的第一、第二区域相对设置,基片上第二侧表面的第三、第四区域相对设置;补锂的靶材的数量为多个且为双向溅射靶材,其中有部分靶材同时对基片的第一区域和第二区域进行补锂,还有部分靶材同时对基片的第三区域和第四区域进行补锂;补锂的靶材的材质为金属锂、锂硅合金、锂硼合金、锂硫合金、氧化锂、氮化锂或碳化锂中的一种。
  • 负极材料折返式补锂方法电池
  • [发明专利]含硅负极材料的补锂方法及负极片、电池-CN202010238490.4在审
  • 张艳芳;谭志;虞文韬 - 维达力实业(深圳)有限公司
  • 2020-03-30 - 2020-08-11 - H01M4/1391
  • 本发明涉及一种含硅负极材料的补锂方法及负极片、电池,该方法包括如下步骤:将含硅负极材料形成于集流体上,制得基片;将所述基片进行预加热,并将所述基片在真空条件的氛围下采用真空溅射的方式进行补锂;其中所述预加热的温度高于所述氛围的温度且低于所述补锂的靶材的熔点。上述含硅负极材料的补锂方法,通过对补锂腔室的氛围加热并控制温度不会超过靶材的熔点,避免靶材熔化导致靶材失效;通过对基片进行预加热以使靶材上的材料镀到基片上处于微熔状态,如此可以加速靶源粒子在薄膜表面的扩散,从而提高薄膜的均匀性和致密性。
  • 负极材料方法电池
  • [发明专利]遮蔽装置及补锂设备-CN202010237337.X在审
  • 虞文韬;谭志;张艳芳 - 维达力实业(深圳)有限公司
  • 2020-03-30 - 2020-08-11 - C23C14/04
  • 本发明涉及一种遮蔽装置及补锂设备,遮蔽装置包括驱动组件和环形遮蔽片,环形遮蔽片包括遮蔽片主体和遮蔽部,遮蔽片主体设有补锂开口,遮蔽部位于补锂开口内;环形遮蔽片与驱动组件连接,驱动组件用于驱动环形遮蔽片运动,以使遮蔽部在靶材安装机构与基片之间的区域与基片同步运动,且遮蔽部的正投影至少部分位于基片上,以用于在补锂时使基片上形成电极区和留白区。该遮蔽装置在使用时,环形遮蔽片可与基片的收放卷装置同步运转,使遮蔽部在靶材安装机构与基片之间的区域与基片同步运动,遮蔽部与基片相对静止,从而在补锂区间内持续对基片上的特定区域进行遮蔽,确保基片的电极区可以有效进行溅射,而防止被遮蔽的区域镀膜,从而形成留白区。
  • 遮蔽装置设备
  • [发明专利]磁控电极装置及包含磁控电极装置的等离子处理系统-CN201210199908.0有效
  • 虞文韬;张艳芳;薛涛;刘阳 - 永恒科技有限公司
  • 2012-06-14 - 2014-01-15 - C23C14/35
  • 本发明涉及一种磁控电极装置及包含磁控电极装置的等离子处理系统。所述磁控电极装置包含:第一电极组件;第一磁性体组,具有复数个第一磁性体;第二电极组件;以及第二磁性体组,具有复数个第二磁性体;其中,所述第一磁性体组中相邻的所述第一磁性体的磁极性彼此相异,所述第二磁性体组中相邻的所述第二磁性体的磁极性彼此相异,且所述第一磁性体组中所述第一磁性体的磁极性与相邻之所述第二磁性体组中所述第二磁性体的磁极性彼此相异。本发明可大幅提升等离子密度,以达到高沉积速率同时改善沉积制程的可控制性与稳定性。
  • 电极装置包含等离子处理系统

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