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[发明专利]等离子体显示器复位期的斜坡上升波形驱动方法-CN201410123778.1无效
发明人：杨正军;虞尚友;陈修强;周超;卫伟 -专利权人：四川虹欧显示器件有限公司
申请日： 2014-03-31 - 公布日： 2014-07-02 - 主分类号： G09G3/291 文献下载
摘要：本申请属于等离子显示器驱动技术领域，尤其是涉及一种等离子体显示器复位期的斜坡上升波形驱动方法。本发明针对现有技术存在的问题，提供一种等等离子体显示器复位期的斜坡上升波形驱动方法，本发明为在目前常用的Ramp Up波形内，穿插一个或多个水平（level）波形，该设计能够降低单元内priming（空间电荷）离子数，有利于复位期壁电荷积累，提高等离子显示器单元放电一致性，可以有效避免复位期强放电和寻址器误放电的发生。本发明通过用红外探测器连接示波器测试等离子体显示器复位期的斜坡上升波形驱动波形放电情况；复位期内，在斜坡上升波形的基础上，穿插至少一个水平波形。
等离子体显示器复位斜坡上升波形驱动方法

[发明专利]一种等离子显示器驱动方法-CN201410094043.0无效
发明人：周超;虞尚友;陈修强;卫伟;杨发明 -专利权人：四川虹欧显示器件有限公司
申请日： 2014-03-14 - 公布日： 2014-07-02 - 主分类号： G09G3/28 文献下载
摘要：本发明提供了一种等离子显示器驱动方法，具体方法为：对输入LVDS信号的处理，增加寻址开关数的计算，并通过寻址开关数控制X/Y电极输出波形的时序，调整最后一个维持脉冲长度。可有效调整寻址放电强度，避免因寻址放电过强或过弱导致的放电问题。
一种等离子显示器驱动方法

[发明专利]一种等离子显示设备-CN201410079382.1无效
发明人：张宏元;虞尚友;陈修强;高响;周超;王爽 -专利权人：四川虹欧显示器件有限公司
申请日： 2014-03-06 - 公布日： 2014-06-11 - 主分类号： G09G3/293 文献下载
摘要：本发明公开了一种等离子显示设备，包括等离子显示屏、扫描电极、寻址电极、维持电极、控制电路、与控制电路连接的高压驱动电路，其中高压驱动电路在控制电路的作用下向各电极施加如下的驱动波形：包括复位期、寻址期、维持期，其中复位期包括最后持续期、上升斜坡电压期、下降斜坡电压期，高压驱动电路在所述复位期非下降斜坡电压阶段向寻址电极施加一个电压为40V至60V、宽度大于4us的脉冲波形。本发明效果显著，保证产品不受影响，具有极大的经济价值。
一种等离子显示设备

[发明专利]等离子显示屏制造过程数据挖掘系统-CN201310161147.4有效
发明人：李涛;郑理;王鹏年;贾建军;虞尚友;雷鸣;段冰;顾尚林;王军;张春 -专利权人：四川虹欧显示器件有限公司
申请日： 2013-05-04 - 公布日： 2013-08-28 - 主分类号： G06F17/30 文献下载
摘要：本发明公开了一种等离子显示屏制造过程数据挖掘系统，包括数据探索模块、数据挖掘模块、分布特性量化模块、结果显示存储模块和系统调度管理模块。本发明的积极效果是：本系统不但能有效挖掘出等离子显示屏制造过程制造工序BR,PH设备环境参数与良率的关系；还能挖掘出等离子显示屏制造过程制造全工序数据中与主要工序不良类型相关的重要参数；以及挖掘出等离子显示屏制造过程制造BR工序中不良代码与点灯不良类型的关系。
等离子显示屏制造过程数据挖掘系统

[发明专利]等离子显示屏制造过程中动力参数的确定与优化方法-CN201310161161.4有效
发明人：李涛;郑理;王鹏年;贾建军;雷鸣;虞尚友;施伟 -专利权人：四川虹欧显示器件有限公司
申请日： 2013-05-04 - 公布日： 2013-08-07 - 主分类号： H01J9/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种等离子显示屏制造过程中动力参数的确定与优化方法，通过利用制造过程历史数据，建立等离子显示屏制造过程中重要动力参数与良率的回归关系模型，利用回归系数来反映影响等离子显示屏产品品质的重要程度，从而确定重要的需要重点加强管控的动力参数项目，并找到提升总体良率或单工序良率的动力参数调控策略。本发明的积极效果是：节约通过反复试验设计与验证的方式所耗费时间和资源成本，提升了在动力参数控制项目及控制范围方面的方向准确性；并且能持续螺旋式提升等离子显示屏良品率的目的，间接降低制造过程的废品率。同时，本发明方法不会涉及生产线的中断生产，从而实现制造过程动力参数的在线动态确定与调整管理。
等离子显示屏制造过程动力参数确定优化方法

[实用新型]ITO刻蚀机摇摆喷射排管端盖结构-CN201020260994.8有效
发明人： 虞尚友;郭志勇 -专利权人：四川虹欧显示器件有限公司
申请日： 2010-07-16 - 公布日： 2011-02-09 - 主分类号： C03C15/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种ITO刻蚀机摇摆喷射排管端盖结构，包括端盖主体，所述端盖主体的截面呈凹字形，所述端盖主体底部设置有通孔，在所述端盖主体内侧设置有螺纹，所述通孔的孔径大于设置在排管上卡套的直径，在所述端盖主体内设置有两个半圆卡环，所述两个半圆卡环形成的圆环外径大于通孔的孔径，其内径小于所述排管上卡套的直径。本实用新型将现有端盖结构变为分体式结构，将端盖主体的通孔扩大，使其能穿过排管端部设置的卡套，然后再配合两个半圆的卡环，利用卡环将端盖主体卡在卡套处，从而将排管固定在药液总管上。这样在出现问题时可以随时更换端盖，而且排管总成和总管螺纹的固定也更好，在摇摆时不会从接头处喷射药液出来。
ito 刻蚀摇摆喷射排管端盖结构

[发明专利]用于基板制造的曝光方法及其对位装置-CN200910171618.3有效
发明人：何斌;虞尚友;徐家舒 -专利权人：四川虹欧显示器件有限公司
申请日： 2009-08-31 - 公布日： 2010-06-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于基板制造的曝光方法，包括以下步骤：将掩模上的两个掩模对位码与基板上的两个基板对位码精确对位，所述两个掩模对位码和所述两个基板对位码对应于所述基板上的两个用于曝光的区域，使用所述掩模对所述两个区域进行曝光。本发明还公开了一种用于基板制造的曝光的对位装置，包括：摄像模块、画像处理模块、指令模块以及执行模块。上述曝光方法及其对位装置在保证曝光图形一致性良好的同时，也保证了曝光后上述基板上曝光图形的平行度。
用于制造曝光方法及其对位装置