专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]阻气性膜和柔性电子设备-CN201880058700.2有效
  • 李冠;大关美保;山下恭弘;花冈秀典 - 住友化学株式会社
  • 2018-09-10 - 2022-09-13 - B32B9/00
  • 本发明的目的在于,提供阻气性和柔性优异,且尤其是在高湿条件下的层间密合性的降低和光学特性的降低得到抑制的阻气性膜。一种阻气性膜,其是依次至少具有至少包含挠性基材的基材层、底涂层和无机薄膜层的阻气性膜,该阻气性膜在23℃、50%RH下的水蒸气透过度为0.001g/m2/day以下,对于该阻气性膜的无机薄膜层侧的最外表面,使用#0000号的钢丝棉,在载荷为50gf/cm2、速度为60rpm/min、单程距离为3cm的条件下进行钢丝棉试验而测得的耐久次数N满足式(1):N≤200(1)。
  • 气性柔性电子设备
  • [发明专利]光学膜-CN201910851905.2有效
  • 池内淳一;花冈秀典;宫本皓史;增井希望;杉山纮子 - 住友化学株式会社
  • 2019-08-26 - 2022-08-19 - C08G73/10
  • 本发明的课题在于提供局部的厚度的偏差小、膜表面的平坦性优异的光学膜。本发明的解决手段为一种光学膜,其包含选自由具有式(A)表示的结构的聚酰亚胺系树脂及聚酰胺系树脂组成的组中的至少1种树脂,该树脂满足式(X)。A/B×100≥0.03(%) (X)。式(A)中,*表示化学键。式(X)中,A表示该树脂的1H‑NMR波谱中的、来自式(A)表示的结构中的键合于氮原子的氢原子的峰面积,B表示该树脂的1H‑NMR波谱中的、化学位移值在6.5~11.5ppm的范围内的峰面积。
  • 光学
  • [发明专利]固化性组合物-CN201880059385.5有效
  • 安井未央;望月胜纪;花冈秀典 - 住友化学株式会社
  • 2018-09-12 - 2022-07-15 - C08G59/18
  • 固化性组合物,其含有多官能(甲基)丙烯酸酯单体(A)和阳离子聚合性单体(B),所述多官能(甲基)丙烯酸酯单体(A)包含选自由3官能(甲基)丙烯酸酯单体、4官能(甲基)丙烯酸酯单体及8官能(甲基)丙烯酸酯单体组成的组中的至少两种,其中,相对于多官能(甲基)丙烯酸酯单体(A)100质量份而言,3官能(甲基)丙烯酸酯单体、4官能(甲基)丙烯酸酯单体及8官能(甲基)丙烯酸酯单体的总质量为50质量份以上。
  • 固化组合
  • [发明专利]层叠膜-CN201880054096.6有效
  • 牧寺雅巳;有村孝;山下恭弘;花冈秀典 - 住友化学株式会社
  • 2018-08-21 - 2022-06-17 - B32B9/00
  • 本发明提供一种层叠膜,其具有基材、和层叠于该基材的至少一个面的薄膜层,该薄膜层含有硅原子、氧原子及碳原子,在表示该薄膜层的膜厚方向上的自薄膜层的表面起的距离、与位于该距离的点的薄膜层中所含的碳原子数相对于所含的硅原子、氧原子及碳原子的合计数而言的比率(碳原子比率)的关系的碳分布曲线中,具有至少3个极值,极大值的最大值与极大值的最小值的差为14at%以下,并且具有至少1个满足式(1)~(3)的关系的不连续区域:3at%≤a-b(1)3at%≤b-c(2)0.5<(a-c)/dx(3)。
  • 层叠
  • [发明专利]层叠膜-CN201880054102.8有效
  • 牧寺雅巳;有村孝;山下恭弘;花冈秀典 - 住友化学株式会社
  • 2018-08-21 - 2021-12-24 - B32B9/00
  • 本发明提供一种层叠膜,其具有基材、和层叠于该基材的至少一个面的薄膜层,该薄膜层含有硅原子、氧原子及碳原子,在表示该薄膜层的膜厚方向上的自薄膜层的表面起的距离、与位于该距离的点的薄膜层中所含的碳原子数相对于所含的硅原子、氧原子及碳原子的合计数而言的比率(碳原子比率)的关系的碳分布曲线中,具有至少3个极值,极大值的最大值与极大值的最小值的差为14at%以下,最大值为23at%~33at%,并且具有至少1个满足式(1)~(3)的关系的不连续区域:3at%≤a-b(1)3at%≤b-c(2)0.5<(a-c)/dx(3)。
  • 层叠
  • [发明专利]组合物-CN201780025504.0有效
  • 樱井彩香;花冈秀典 - 住友化学株式会社
  • 2017-04-26 - 2021-09-21 - C08G77/24
  • 本发明的目的在于提供一种不仅能同时实现被膜的疏水性和疏油性、而且还能提高制膜性的组合物。本发明的涂覆组合物包含在硅原子上键合有至少1个含有三烷基甲硅烷基的分子链和至少1个水解性基团的有机硅化合物(a)、金属醇盐(b)及在硅原子上键合有含氟基团和水解性基团的含氟有机硅化合物(f)。化合物(a)可以是式(I)表示的化合物。
  • 组合
  • [发明专利]层叠体、柔性电子器件及层叠体的制造方法-CN201980069503.5在审
  • 山川胜平;山下恭弘;大关美保;花冈秀典;有村孝 - 住友化学株式会社
  • 2019-10-18 - 2021-06-04 - B32B9/00
  • 本公开涉及一种层叠体,是至少具有基材层和无机薄膜层的层叠体,所述基材层至少包含挠曲性基材,在从该层叠体的无机薄膜层侧的表面沿厚度方向使用飞行时间型二次离子质谱仪(TOF‑SIMS)测定而得的深度剖析中,将Si、C及O2的离子强度分别设为ISi、IC及IO2,在C的离子强度曲线中,将基材层侧的离子强度值的变异系数的绝对值为5%以内的区域A1的平均离子强度设为ICA1,将相对于该区域A1在无机薄膜层表面侧且最接近该区域A1的、显示ICA1的0.5倍以下的离子强度的深度设为A2,将相对于A2在无机薄膜层表面侧且最接近A2的、显示极小值的深度设为A3,在C的离子强度的一次微分曲线中,将相对于A3在无机薄膜层表面侧且最接近A3的、微分值为0以上的深度设为B,将相对于A3在基材层侧且最接近A3的、显示微分分布值的极大值d(IC)max的深度设为C,将相对于C在基材层侧且最接近C的、微分值的绝对值为d(IC)max的0.01倍以下的深度设为D,则IO2/ISi的分布曲线在深度B与深度D之间的区域BD中具有至少1个极大值(IO2/ISi)maxBD
  • 层叠柔性电子器件制造方法
  • [发明专利]被膜-CN201780025511.0有效
  • 樱井彩香;花冈秀典;岛崎泰治 - 住友化学株式会社
  • 2017-04-26 - 2021-05-25 - C09D183/04
  • 本发明的课题在于提供相对于温水的耐久性优异的含有聚二烷基硅氧烷骨架的被膜。本发明的被膜包含聚二烷基硅氧烷骨架,碳原子与硅原子的比率(C/Si)以摩尔基准计为0.93以上且小于1.38。对于该被膜而言,将水的初始接触角记为θ0、将在70℃的离子交换水中浸渍24小时后的水的接触角记为θW时,由特定的式表示的接触角变化率dW的大小可以为‑10%以上。
  • 被膜
  • [发明专利]层叠膜-CN201980021892.4在审
  • 山下恭弘;花冈秀典;山川胜平 - 住友化学株式会社
  • 2019-03-22 - 2020-11-06 - B32B9/00
  • 本发明的目的在于,提供一种耐热性优异的层叠膜。本发明涉及一种层叠膜,是依次具有第2底漆层、挠曲性基材、第1底漆层、第1有机层、以及第1无机薄膜层的层叠膜,第1底漆层及第2底漆层各自具有130℃以上的软化温度,在将热膨胀位移量设为A(μm)、将加热温度设为T(℃)时,在T为50~200℃的范围中,总是满足dA/dT>0的关系,其中,热膨胀位移量为一边在拉伸负荷29.4mN及升温速度20℃/分钟的条件下拉伸该层叠膜一边加热时的MD方向的热膨胀位移量;将该层叠膜从25℃加热到200℃、并在200℃放置20分钟后、冷却到25℃时的MD方向的尺寸变化率为-0.3~0.5%。
  • 层叠

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