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[发明专利]凹槽的形成方法以及在位形成凹槽和填充外延层的方法-CN202011056640.6在审
发明人：王耀增;郑印呈;聂望欣;涂火金;刘厥扬;胡展源 -专利权人：上海华力集成电路制造有限公司
申请日： 2020-09-30 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： H01L21/336 文献下载
摘要：本发明公开了一种凹槽的形成方法，包括步骤：步骤一、对硅衬底进行采用干法刻蚀工艺的第一次刻蚀形成呈U型或球型的凹槽；步骤二、在外延工艺腔中采用HCl和GeH4两种反应气体对凹槽进行第二次刻蚀使凹槽呈钻石型。本发明还公开了一种在位形成凹槽和填充外延层的方法。本发明能在外延工艺腔中对U型或球型进行反应气体的刻蚀形成钻石型凹槽，有利于在位实现凹槽的刻蚀和外延填充工艺，从而能减少嵌入式外延层的工艺环中的工艺步骤，并进而减少由工艺步骤所产生的缺陷。
凹槽形成方法以及在位填充外延

[发明专利]一种二氧化碳甲烷化Ni/Ce_xZr_1-xO₂催化剂及其制备方法-CN201510739501.6在审
发明人：尚兴付;汪学广;聂望欣;邓蒂固;丁伟中 -专利权人：上海大学
申请日： 2015-11-04 - 公布日： 2016-02-03 - 主分类号： B01J23/755 文献下载
摘要：本发明公开了一种二氧化碳甲烷化催化剂(Ni/Ce_xZr_1-xO₂)及其制备方法，其步骤：a.将一定量的硝酸镍、硝酸铈、硝酸锆分别加入到50ml去离子水中，配制成在催化剂（Ni/Ce_xZr_1-xO₂）中Ni的含量为10～40wt.%的混合溶液；b.将配制的混合溶液移入80℃恒温水浴锅，均匀搅拌，将100ml浓度为2mol/L的碳酸铵溶液迅速倒入混合溶液中，继续搅拌加热，恒温烘干后，得到粉体；c.将烘干后的粉体在马弗炉中，从室温以2℃/min升温速率升至500℃焙烧5h；然后将焙烧后的粉体置于钢模中挤压成型；随后经破碎、过筛，得到粒径为40～60目的颗粒，d.在氢气气氛中，温度为400℃下还原2h，制得Ni/Ce_xZr_1-xO₂催化剂。该方法制备的催化剂在250^oC～400^oC具有较高的催化活性、选择性、稳定性，其制备方法简单、易操作、成本较低。
一种二氧化碳甲烷 ni ce sub zr 催化剂及其制备方法

[发明专利]低温制备高比表面介孔γ-Al₂O₃纳米材料的方法-CN201210120770.0有效
发明人：汪学广;尚兴付;丁伟中;聂望欣;陆东亮 -专利权人：上海大学
申请日： 2012-04-24 - 公布日： 2012-08-01 - 主分类号： C01F7/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种低温合成有高比表面介孔γ-Al2O3材料的制备方法，属于无机纳米材料技术领域。其步骤是首先将铝盐溶解在一定量的去离子水中，配成储备溶液。在30~90℃，向储备液中逐滴滴入浓度为1~2mol/L碳酸铵溶液，控制碳酸铵滴定速度，到恰好形成凝胶时停止滴定；将滴定后形成的胶体转入烘箱80℃干燥12小时；以5℃/min的升温速率在200℃焙烧10小时，300℃焙烧10小时。研磨后得到表面积为350~400m2/g,孔径分布2~4nm的介孔γ-Al2O3。本发明工艺简单，成本低廉，纯度高，制备的介孔γ-Al2O3具有高的比表面积和规则的孔径分布，易于控制，易于工业化。产品可用作催化材料、吸附材料、发光材料、磁性材料、分离材料和耐高温等高性能复合材料等领域。
低温制备比表面 al sub 纳米材料方法

[发明专利]有狭窄孔径分布虫孔状介孔γ-Al₂O₃的制备方法-CN201110301175.2无效
发明人：丁伟中;尚兴付;汪学广;聂望欣;黄学敏;鲁雄刚 -专利权人：上海大学
申请日： 2011-10-09 - 公布日： 2012-06-27 - 主分类号： C01F7/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种有狭窄孔径分布的虫孔状介孔γ-Al2O3材料的制备方法，属于无机纳米材料技术领域。其步骤是首先将铝盐溶解在一定量的去离子水中，配成储备溶液。在30~90℃，向储备液中逐滴滴入浓度为1mol/L碳酸铵溶液，将滴定后形成的胶体在30℃陈化24小时，转入烘箱110℃干燥12小时；以10℃/min的升温速率在700℃~900℃焙烧10小时。研磨后得到表面积为150~230m2/g,孔径分布5~15nm,具有虫孔状介孔γ-Al2O3材料。本发明工艺简单，成本低廉，纯度高，具有高的比表面积，易于控制，易于工业化。产品可用作催化材料、吸附材料、发光材料、磁性材料、分离材料和耐高温等高性能复合材料等领域。
狭窄孔径分布虫孔状介孔 al sub 制备方法