专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]磁场传感器、系统和斜入射沉积制造方法-CN202010695571.7在审
  • 斯特凡·马劳斯卡;约尔格·科克 - 恩智浦有限公司
  • 2020-07-16 - 2021-02-02 - G01R33/09
  • 一种磁场传感器,所述磁场传感器包括以半桥配置布置的至少两个磁阻(MR)传感器元件。所述MR传感器元件中的每一个包括具有磁各向异性与复合磁化的磁区。使用斜入射沉积(OID)技术产生所述磁各向异性,其中相对于与所述磁场传感器的表面垂直朝向的参考线以非零沉积角沉积所述磁区。一种系统,所述系统包括编码器以及半桥配置的传感器元件。所述编码器响应于所述编码器的活动而产生具有预定磁变的外部磁场,通过所述传感器元件检测所述磁场。所述传感器元件的所述复合磁化在垂直于所述外部磁场的方向的优选方向上通过OID对齐,而不是利用提供偏置磁场的永久磁体结构。
  • 磁场传感器系统入射沉积制造方法
  • [发明专利]用于速度测量的磁场传感器、系统和方法-CN202010293008.7在审
  • 克劳斯·莱曼;哈特穆特·马茨;马克·艾斯勒;约尔格·科克 - 恩智浦有限公司
  • 2020-04-14 - 2020-10-27 - G01P3/49
  • 一种传感器包括第一磁阻传感器元件和第二磁阻传感器元件,所述第一磁阻传感器元件和第二磁阻传感器元件被配置成响应于外部磁场而产生对应的第一输出信号和第二输出信号。所述第一磁阻传感器元件和所述第二磁阻传感器元件形成梯度单元,所述磁阻传感器元件中的每个磁阻传感器元件包括具有涡旋磁化图案的感测层。处理电路耦接到所述传感器元件并且被配置成产生作为所述梯度单元的所述第一磁阻传感器元件和所述第二磁阻传感器元件的所述第一输出信号与所述第二输出信号之间的差的差分输出信号。系统包括产生外部磁场的编码器和具有一个或多个梯度单元的传感器,其中所述梯度单元可以以二阶梯度感测配置布置。
  • 用于速度测量磁场传感器系统方法

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