专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]光学信息记录介质及其制造方法-CN02119213.8无效
  • 美浓规央;大野锐二;矶村秀己 - 松下电器产业株式会社
  • 2002-03-23 - 2002-12-11 - G11B7/24
  • 本发明提供的是在光盘表面上形成防污染膜、难以污染、即使污染易于去除的光信息记录介质及其制造方法。一种光记录介质,在光信息记录介质的基体(11)上至少具有反射膜(17)、记录膜(14)和保护膜(16),保护膜(16)在与基体(11)相对侧表面上形成,在基体(11)和保护膜(16)中至少一个的外层上形成硬涂敷树脂层(17),在硬涂敷树脂层(17)的外层上,形成由以一般式R4-m-nSiR’mZn-(其中R是含有3~25个碳原子碳链基的基,Z为O、N或S,n为1、2或3,R’是氢原子或1~3个碳原子的烷基,m为0、1或2)表示有机硅烷分子形成的化学吸附膜(18)、其与硬涂层(17)形成共价键。
  • 光学信息记录介质及其制造方法

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