专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]非易失性半导体存储装置-CN200780003089.5有效
  • 细井康成;粟屋信义;井上公 - 夏普株式会社;独立行政法人产业技术综合研究所
  • 2007-01-09 - 2009-02-18 - G11C13/00
  • 提供一种非易失性半导体存储装置,能进行针对电阻特性根据电压施加而变化的可变电阻元件的稳定高速的切换动作。用于向可变电阻元件施加电压的负载电路以能与可变电阻元件串联电连接的方式设置,以负载电路的负载电阻特性可在两种不同特性间切换的方式构成,在可变电阻元件的电阻特性从低电阻状态转移到高电阻状态的情况和从高电阻状态转移到低电阻状态的情况下,选择性地切换负载电路的两种负载电阻特性,根据施加到可变电阻元件和负载电路的串联电路上的改写用电压,对可变电阻元件施加从两种电阻特性的一种向另一种转移所需的电压,可变电阻元件的电阻特性从一种转移到另一种后,施加到可变电阻元件上的电压成为不能根据选择的负载电阻特性从另一种电阻特性向一种电阻特性返回的电压。
  • 非易失性半导体存储装置
  • [发明专利]光控场效应晶体管和使用它的集成光电检测器-CN200780001295.2有效
  • 小仓睦郎 - 独立行政法人产业技术综合研究所
  • 2007-02-13 - 2009-01-28 - H01L31/10
  • 本发明的光控FET具有:衬底侧耗尽层生成层兼背栅层(13;13a,13b),设置于衬底(10)和沟道层之间,形成对沟道层(10)的同质结或异质结,使衬底侧耗尽层(22)从衬底(10)一侧向沟道层(15)延伸,并通过利用对沟道层(15)照射光而光产生的载流子对背栅施加偏置。在沟道层(15)的表面侧设置有势垒层(16),其带隙比沟道层(15)的宽,使得光产生的载流子中的一种在沟道层(15)中运动,而光产生的载流子中的另一种停滞或者被阻挡。在沟道层(15)表面侧设有表面侧耗尽层生成层(17),使表面侧耗尽层(21)从该表面侧延伸进沟道层(15),当无光照时使表面侧耗尽层(21)与衬底侧耗尽层(22)相接触以关闭沟道层(15)中的电流通路,从而使元件为截止状态。
  • 光控场效应晶体管使用集成光电检测器

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