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[发明专利]蒸镀掩模中间体-CN202310870828.1在审
发明人：新纳干大;寺田玲尔;武田宪太;小林昭彦 -专利权人：凸版印刷株式会社
申请日： 2020-03-13 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种蒸镀掩模中间体，具备：铁‑镍系合金制的多个掩模板，包括多个掩模孔，具有第1面以及第2面，该第2面是与上述第1面相反侧的面，用于与蒸镀对象接触；掩模框架，具有比上述掩模板高的刚性，且具有多个开口，该掩模框架以各掩模板覆盖1个上述开口的方式与上述掩模板的上述第1面接合；多个树脂层，各一个树脂层与上述掩模板的上述第2面接合；以及多个玻璃基板，各一个玻璃基板与各树脂层接合，在25℃以上100℃以下的温度范围内，各玻璃基板的线膨胀系数小于层叠于该玻璃基板的上述掩模板的线膨胀系数，且各玻璃基板的线膨胀系数与层叠于该玻璃基板的上述掩模板的线膨胀系数之差的绝对值为1.3×10‑6/℃以下。
蒸镀掩模中间体

[发明专利]蒸镀掩模的制造方法、显示装置的制造方法及蒸镀掩模中间体-CN202080021375.X有效
发明人：新纳干大;寺田玲尔;武田宪太;小林昭彦 -专利权人：凸版印刷株式会社
申请日： 2020-03-13 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：蒸镀掩模的制造方法包括：准备金属板以及玻璃基板的工序，在25℃以上100℃以下的温度范围内，玻璃基板的线膨胀系数与金属板的线膨胀系数之差的绝对值为1.3×10‑6/℃以下；经由树脂层将玻璃基板与金属板接合的工序；通过在与玻璃基板接合后的金属板形成多个掩模孔而从金属板形成掩模板的工序；将掩模板中的与树脂层所接触的面相反侧的面与掩模框架接合的工序，该掩模框架具有比掩模板高的刚性，且具有将多个掩模孔的整体包围的形状；以及从与掩模框架接合后的掩模板取下树脂层以及玻璃基板的工序。
蒸镀掩模制造方法显示装置中间体

[发明专利]蒸镀掩模用基材、蒸镀掩模用基材的制造方法及蒸镀掩模的制造方法-CN201910237719.X有效
发明人：新纳干大;寺田玲尔;西辻清明;仓田真嗣;武田宪太;三上菜穗子;秋山纯香 -专利权人：凸版印刷株式会社
申请日： 2017-04-14 - 公布日： 2021-06-01 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及蒸镀领域中使用的蒸镀掩模用基材、蒸镀掩模用基材的制造方法及蒸镀掩模的制造方法。金属板的表面上的长边方向的长度为表面距离(L)，金属板的宽度方向(DW)的各位置处的表面距离(L)中的最小值为最小表面距离(Lm)，金属板的宽度方向的各位置处的表面距离(L)与最小表面距离(Lm)之间的差分相对于最小表面距离(Lm)的比率为伸长差率，金属板的宽度方向(DW)的中央部的伸长差率为3×10‑5以下，金属板的宽度方向(DW)的两个端部的伸长差率为15×10‑5以下，金属板的宽度方向(DW)的两个端部中的至少一方的伸长差率小于金属板的宽度方向的中央部的伸长差率。
蒸镀掩模用基材制造方法蒸镀掩模

[发明专利]蒸镀掩模用基材、蒸镀掩模用基材的制造方法及蒸镀掩模的制造方法-CN201780002450.6有效
发明人：新纳干大;寺田玲尔;西辻清明;仓田真嗣;武田宪太;三上菜穗子;秋山纯香 -专利权人：凸版印刷株式会社
申请日： 2017-04-14 - 公布日： 2019-04-19 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：金属板的表面上的长边方向的长度为表面距离(L)，金属板的宽度方向(DW)的各位置处的表面距离(L)中的最小值为最小表面距离(Lm)，金属板的宽度方向的各位置处的表面距离(L)与最小表面距离(Lm)之间的差分相对于最小表面距离(Lm)的比率为伸长差率，金属板的宽度方向(DW)的中央部的伸长差率为3×10^‑5以下，金属板的宽度方向(DW)的两个端部的伸长差率为15×10^‑5以下，金属板的宽度方向(DW)的两个端部中的至少一方的伸长差率小于金属板的宽度方向的中央部的伸长差率。
蒸镀掩模用基材制造方法蒸镀掩模

[发明专利]蒸镀用金属掩模、蒸镀用金属掩模的制造方法及蒸镀用金属掩模形成基材-CN201780002966.0有效
发明人：阿部裕一郎;出町泰之;武田宪太 -专利权人：凸版印刷株式会社
申请日： 2017-05-23 - 公布日： 2019-04-02 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：一种电铸制的蒸镀用金属掩模，具备孔内周面(321S)，该孔内周面(321S)划分出以大开口(322F)为底部并具有锥台状的掩模孔(321H)。在与表面正交的截面中，将大开口(322F)和小开口(322B)连结的虚拟直线Li与背面所成的倾斜角度(θ)为50°以上且85°以下，表面与背面的距离为厚度(H)，在与背面平行且与背面之间的距离为(2/3)×H的基准面(Pi)中，孔内周面(321S)与虚拟直线的距离为凹陷量(A)，满足0＜[(3×tanθ)×A]/H≤0.3。
蒸镀用金属制造方法形成基材

[发明专利]蒸镀用金属掩模以及蒸镀用金属掩模的制造方法-CN201610561108.7在审
发明人：田村纯香;新纳干大;藤户大生;西辻清明;西刚广;三上菜穗子;仓田真嗣;武田宪太 -专利权人：凸版印刷株式会社
申请日： 2016-07-15 - 公布日： 2017-01-25 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供能够将通过蒸镀形成的图案的构造上的精度的提高以及蒸镀用金属掩模的操作性的提高这两者兼顾的蒸镀用金属掩模以及蒸镀用金属掩模的制造方法。具备掩模部(32)，具备用于与蒸镀对象接触的接触面以及与上述接触面相反侧的非接触面，形成为片形状，而且，该掩模部具有分别从位于上述接触面的第一开口贯通到位于上述非接触面的第二开口的多个掩模孔，上述第一开口的大小小于上述第二开口的大小；以及掩模框架(31)，具有比上述掩模部高的刚性，并且形成为将上述多个掩模孔包围的框状。上述掩模部(32)在上述非接触面中具有将上述多个掩模孔包围的部分，在该部分通过接合部与掩模框架接合。
蒸镀用金属以及制造方法