专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]在晶片级生产光学传感器的方法以及光学传感器-CN201780042495.6有效
  • 格雷戈尔·托施科夫;托马斯·博德纳;弗朗兹·施兰克 - AMS有限公司
  • 2017-08-08 - 2023-07-21 - H01L27/146
  • 提出了一种在晶片级生产光学传感器的方法,该方法包括以下步骤。提供具有主上表面(11)和主背表面(12)的晶片(10)。具有光敏部件(21)的至少一个集成电路(20)布置在晶片的上表面处或附近。第一模制工具(1)设置在至少一个集成电路上方,使得在第一模制工具(1)和上表面(11)之间保留至少一个通道(37),以输入第一模制材料。通过经由至少一个通道(37)晶片级模制第一模制材料来形成第一模制结构(30)。第一模制材料产生至少一个流道结构(35)。第二模制工具(2)设置在第一模制结构(30)上方,并借助于第二模制工具(2)通过晶片级模制第二模制材料来形成第二模制结构(40)。在上表面(11)上布置光路阻挡结构(50),以阻挡光经由至少一个流道结构(35)进入。
  • 晶片生产光学传感器方法以及
  • [发明专利]光学传感器的制造方法及光学传感器-CN201880066940.7在审
  • 格雷戈尔·托施科夫;托马斯·博德纳;弗朗兹·施兰克;米克洛斯·洛博迪;耶格·西格特;马丁·施雷姆斯 - AMS有限公司
  • 2018-10-15 - 2020-08-21 - H01L27/146
  • 提供了一种用于制造光学传感器(10)的方法。所述方法包括:提供光学传感器装置(11),所述装置包括在载体(13)上的至少两个光学传感器元件(12),其中光学传感器装置(11)包括在光学传感器元件(12)的背离载体(13)的一侧的光入射表面(14)。所述方法还包括:沿垂直于载体(13)的延伸主平面的垂直方向(z)在两个光学传感器元件(12)之间形成沟槽(15),其中,所述沟槽(15)从传感器装置(11)的光入射表面(14)至少延伸到载体(13)。此外,所述方法包括:使用不透明材料(16)涂覆所述沟槽(15);在载体(13)的背离光学传感器元件(12)的背侧(18)上形成用于至少两个光学传感器元件(12)的电接触(17);以及沿着沟槽(15)切割光学传感器装置(11)形成至少一个光学传感器(10)。每个光学传感器(10)包括光学传感器元件(12),光入射表面(14)没有电接触(17),并且在光学传感器元件(12)上方至少部分地没有不透明材料(16)。此外,提供了一种光学传感器(10)。
  • 光学传感器制造方法

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