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[发明专利]研磨垫及研磨加工物的制造方法-CN202180094402.0在审
发明人：立野哲平;松冈立马;栗原浩;山口早月;高见泽大和 -专利权人：富士纺控股株式会社
申请日： 2021-03-22 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： B24B37/24 文献下载
摘要：研磨垫，其具备聚氨酯片材作为研磨层，该聚氨酯片材的、在频率1.6Hz的弯曲模式条件下进行的动态粘弹性测定中的40℃的储能模量E’B40相对于在频率1.6Hz的拉伸模式条件下进行的动态粘弹性测定中的40℃的储能模量E’T40之比(E’B40/E’T40)为0.60～1.60。
研磨加工制造方法

[发明专利]研磨垫及研磨垫的制造方法-CN202280015018.1在审
发明人：立野哲平;栗原浩;山口早月;高见沢大和 -专利权人：富士纺控股株式会社
申请日： 2022-03-23 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： B24B37/20 文献下载
摘要：一种研磨垫，包括研磨层，所述研磨层具有用于对被研磨物进行研磨加工的研磨面，所述研磨垫中，所述研磨层包含在所述研磨层内形成中空体的中空微小球体，所述研磨层的剖面具有10μm～14μm的平均开孔径，在将1μm的范围表示为1级的所述研磨层的剖面的开孔径直方图中，25μm以上的开孔数的总和相对于所述剖面的总开孔数而为5％以下，25μm以上的各级的开孔面积的总和相对于所述剖面的合计开孔面积而为20％以下。
研磨制造方法

[发明专利]研磨垫及研磨垫的制造方法-CN202280015335.3在审
发明人：川村佳秀;立野哲平;栗原浩;山口早月;高见沢大和;越智恵介;川崎哲明 -专利权人：富士纺控股株式会社
申请日： 2022-03-18 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： B24B37/24 文献下载
摘要：一种研磨垫，具有包含聚氨基甲酸酯树脂发泡体的研磨层，所述聚氨基甲酸酯树脂发泡体包含异氰酸酯末端预聚物与硬化剂，所述研磨垫中，通过脉冲NMR法在80℃下所测定的所述研磨层中的非晶相的含有重量比例(NC80)相对于通过脉冲NMR法在40℃下所测定的所述研磨层中的非晶相的含有重量比例(NC40)的比(NC80/NC40)为1.5～2.5。
研磨制造方法

[发明专利]研磨垫及研磨垫的制造方法-CN202280015279.3在审
发明人：立野哲平;栗原浩;山口早月;高见沢大和;越智恵介;川崎哲明 -专利权人：富士纺控股株式会社
申请日： 2022-03-29 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： B24B37/24 文献下载
摘要：一种研磨垫，具有包含聚氨基甲酸酯树脂发泡体的研磨层，所述聚氨基甲酸酯树脂发泡体源自异氰酸酯末端预聚物及硬化剂，所述研磨垫中，通过X射线小角散射法测定的所述研磨层中的硬链段间的距离为9.5nm以下，或者，通过脉冲NMR法在80℃下所测定的所述研磨层中的非晶相的含有重量比例(NC80)相对于通过脉冲NMR法在80℃下所测定的所述研磨层中的结晶相的含有重量比例(CC80)的比(NC80/CC80)为2.6～3.1，通过脉冲NMR法在40℃下所测定的所述研磨层中的非晶相的含有重量比例(NC40)相对于通过脉冲NMR法在40℃下所测定的所述研磨层中的结晶相的含有重量比例(CC40)的比(NC40/CC40)为0.5～0.9。
研磨制造方法

[发明专利]研磨垫、研磨垫的制造方法、以及对光学材料或半导体材料的表面进行研磨的方法-CN202280010154.1在审
发明人：川村佳秀;立野哲平;栗原浩;鸣岛早月;高见泽大和;越智惠介;川崎哲明 -专利权人：富士纺控股股份有限公司
申请日： 2022-01-11 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： B24B37/24 文献下载
摘要：本发明的目的在于，提供使用与以往采用的PTMG等不同的多元醇作为形成研磨层的异氰酸酯末端氨基甲酸酯预聚物的高分子量多元醇而得到的研磨垫、该研磨垫的制造方法、以及对使用该研磨垫得到的光学材料或半导体材料的表面进行研磨的方法。一种研磨垫，其具有包含聚氨酯树脂的研磨层，前述聚氨酯树脂为包含异氰酸酯末端氨基甲酸酯预聚物和固化剂的固化性树脂组合物的固化物，前述异氰酸酯末端氨基甲酸酯预聚物为多元醇成分与多异氰酸酯成分的反应产物，前述多元醇成分包含在分子内具有碳酸酯基的多元醇。
研磨制造方法以及光学材料半导体材料表面进行

[发明专利]研磨垫和研磨垫的制造方法-CN202180067394.0在审
发明人：立野哲平;田中启介;喜乐香枝;小池坚一;栗原浩;宫内庆树 -专利权人：富士纺控股株式会社
申请日： 2021-09-16 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： B24B37/013 文献下载
摘要：根据本发明，提供能够抑制光透过率的不均的研磨垫或者能够减少研磨屑向透光性树脂构件(窗构件)的研磨面侧的表面的附着、固着的研磨垫。
研磨制造方法

[发明专利]研磨垫、及研磨加工物的制造方法-CN202180065924.8在审
发明人：立野哲平;松冈立马;栗原浩;鸣岛早月;高见泽大和 -专利权人：富士纺控股株式会社
申请日： 2021-09-27 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： B24B37/22 文献下载
摘要：本发明涉及具备研磨层和缓冲层的研磨垫，在干燥状态、频率10rad/s、20～100℃的弯曲模式条件下进行的动态粘弹性测定的40℃时的储能模量E’B40相对在干燥状态、频率10rad/s、20～100℃的压缩模式条件下进行的动态粘弹性测定的40℃时的储能模量E’C40之比E’B40/E’C40为3.0以上15.0以下，在前述弯曲模式条件下进行的动态粘弹性测定中的损耗因子tanδ在40℃以上70℃以下的范围内为0.10以上0.30以下。
研磨加工制造方法

[发明专利]研磨垫-CN202180064768.3在审
发明人：川村佳秀;立野哲平;松冈立马;栗原浩;鸣岛早月;高见沢大和;越智惠介;川崎哲明 -专利权人：富士纺控股株式会社
申请日： 2021-09-29 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： B24B37/24 文献下载
摘要：本发明的目的在于，提供无需变更研磨层的物性、气泡结构就能够实现端部塌边的改善和/或台阶消除性能的提高的研磨垫。一种研磨垫，其具备：研磨层，该研磨层具有用于对被研磨物进行研磨加工的研磨面；以及缓冲层，该缓冲层配置于所述研磨层的与研磨面相反一侧，关于通过以弯曲模式利用于25℃的频散进行的动态粘弹性试验得到的、研磨垫整体的储能弹性模量E’和损耗弹性模量E”之比(tanδ)，以100～1000rad/s测得的tanδ的最大值(tanδmax100‑1000)相对于以1～10rad/s测得的tanδ的最大值(tanδmax1‑10)的比值为0.75～1.30。
研磨

[发明专利]抛光垫、抛光单元、抛光装置、及抛光垫的制造方法-CN202180023262.8在审
发明人：立野哲平;松冈立马;栗原浩;鸣岛早月;高见沢大和 -专利权人：富士纺控股株式会社
申请日： 2021-03-19 - 公布日： 2022-11-25 - 主分类号： B24B37/22 文献下载
摘要：提供能够减少抛光浆料向基材层的渗透且能够防止抛光性能降低的抛光单元。本发明的第一方面的抛光单元(10a)具备：具有抛光层(101)及基材层(103)的抛光垫(100a)、以及定盘(150)，其中，基材层(103)的直径小于抛光层(101)的直径且大于定盘(150)的直径。
抛光单元装置制造方法

[发明专利]研磨垫及其制造方法-CN201980023988.4有效
发明人：松冈立马;栗原浩;鸣岛早月;高见沢大和 -专利权人：富士纺控股株式会社
申请日： 2019-03-19 - 公布日： 2022-11-08 - 主分类号： B24B37/24 文献下载
摘要：本发明提供一种经时研磨速率的稳定性高的研磨垫及其制造方法。研磨垫，包括具有聚氨基甲酸酯片的研磨层，其中在水浴中浸泡3天的湿润状态的所述聚氨基甲酸酯片在初始负荷148g、应变范围0.1％、测定频率1.6Hz、拉伸模式下的20℃～100℃的温度范围内的损耗角正切tanδ峰值wet与未浸泡在水浴中的干燥状态的所述聚氨基甲酸酯片的初始负荷148g、应变范围0.1％、测定频率1.6Hz、拉伸模式下的20℃～100℃的温度范围内的损耗角正切tanδ峰值dry之间的tanδ峰值变化率为15％以下。tanδ峰值变化率＝|tanδ峰值wet‑tanδ峰值dry|/tanδ峰值dry×100。
研磨及其制造方法

[发明专利]超声波摄像装置及超声波摄像方法-CN202111408803.7在审
发明人：田中宏树;岩下贵之;网野和宏;栗原浩 -专利权人：富士胶片医疗健康株式会社
申请日： 2021-11-24 - 公布日： 2022-08-16 - 主分类号： A61B8/08 文献下载
摘要：提供一种超声波摄像装置及超声波摄像方法，采用简单结构并且得到短轴方向上的分辨率高的图像。针对在长轴方向和短轴方向上分别排列有振子的探头，依次设定第一发送开口和短轴方向的口径尺寸比第一发送开口大的第二发送开口，分别发送第一发送波束和第二发送波束。通过这些发送而生成第一接收波束信号及第二接收波束信号，在深度方向上进行加权并合成。在深度较浅的第一区域增大第一接收波束信号的权重，在深度比第一区域深的第二区域增大第二接收波束信号的权重。
超声波摄像装置方法

[发明专利]研磨垫及其制造方法-CN202080067955.2在审
发明人：松冈立马;栗原浩;鸣岛早月;高见沢大和 -专利权人：富士纺控股株式会社
申请日： 2020-09-18 - 公布日： 2022-05-06 - 主分类号： B24B37/22 文献下载
摘要：本发明在被研磨物的研磨加工时防止终点检测用窗自研磨层脱落。具有终点检测用窗3B的研磨层3C如以下那样制造。首先，将成为终点检测用窗的聚合物与硬化剂混合后，使两者的混合物流入模具99中来制作柱状原材料100(图4(a))。其次，调整柱状原材料100的外周面的粗糙度，在外周面形成多个凹凸(图4(b))。继而，在将柱状原材料100收容于模框101内的状态下，使将预聚物与硬化剂混合而成的混合物流入模框101中并凝固，而制作聚氨基甲酸酯聚脲树脂成形体102(图4(c))。继而，若将聚氨基甲酸酯聚脲树脂成形体102以成为所需的厚度的方式水平地切断来制作片状构件103，则所述片状构件103成为具有终点检测用窗(3B)的研磨层(3C)(图4(d))。
研磨及其制造方法

[发明专利]研磨垫及其制造方法-CN201880066479.5有效
发明人：宫坂博仁;立野哲平;松冈立马;栗原浩;三国匠 -专利权人：富士纺控股株式会社
申请日： 2018-10-12 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： B24B37/24 文献下载
摘要：本发明提供一种能够在维持高研磨速率的同时减少划痕的产生的研磨垫及其制造方法。所述研磨垫是具备研磨层的研磨垫，所述研磨层具有包含大致球状的气泡的聚氨酯片，在将预先暴露于温度23℃、相对湿度30％环境下的所述聚氨酯片在40℃、初始载荷148g、变形范围0.1％、测定频率1.6Hz、拉伸模式下的储能模量设为E’(90％)，将预先暴露于温度23℃、相对湿度30％环境下的所述聚氨酯片在40℃、初始载荷148g、变形范围0.1％、测定频率1.6Hz、拉伸模式下的储能模量设为E’(30％)时，E’(90％)/E’(30％)在0.4～0.7的范围内。
研磨及其制造方法

[发明专利]超声波摄像装置、治疗辅助系统以及图像处理方法-CN202080005549.3在审
发明人：田中智彦;今井亮;广岛美咲;川畑健一;栗原浩 -专利权人：株式会社日立制作所
申请日： 2020-01-07 - 公布日： 2021-05-18 - 主分类号： A61B8/13 文献下载
摘要：在将搭载了光声技术的导丝和超声波摄像装置相组合的导管治疗辅助技术中，使用到达构成超声波探头的元件阵列的光声波的到达时间差、或取决于距摄像区域的距离的光声信号产生源的图像的变化来推定导丝前端位置，使用该推定结果来掌握摄像位置与导丝前端位置的关系。由此，能在视觉上容易地掌握使用超声波探头通过来自生物体的反射波而能得到图像的区域(摄像区域)与处于该区域外的插入物特别是导丝前端的关系。
超声波摄像装置治疗辅助系统以及图像处理方法

[发明专利]研磨材料及其制造方法、以及研磨物的制造方法-CN201680063033.8有效
发明人：德重伸;中濑惠介;栗原浩;柏田太志;小池坚一 -专利权人：富士纺控股株式会社
申请日： 2016-10-25 - 公布日： 2021-04-09 - 主分类号： B24B37/24 文献下载
摘要：研磨材料，其具有以经编或纬编构成的针织物、和含浸于该针织物中的树脂。
研磨材料及其制造方法以及

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