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[发明专利]全息记录材料及其制造方法以及全息记录媒体-CN200810095702.7有效
发明人：小须田敦子;林田直树;吉成次郎 -专利权人： TDK株式会社
申请日： 2008-04-24 - 公布日： 2008-10-29 - 主分类号： G03F7/075 文献下载
摘要：本发明提供一种全息记录材料、其制造方法及全息记录媒体，所述全息记录材料不仅在使用绿色激光而且在使用了蓝色激光的全息存储记录中，也能够实现高的折射率变化、柔软性、高灵敏度、低散射、耐环境性、耐久性、低尺寸变化(低收缩性)及高多重性。一种全息记录材料，其包含金属氧化物和光聚合性化合物，所述金属氧化物至少含有Si和Zr作为金属，并且在Zr上配位有芳香族羧酸化合物。所述芳香族羧酸化合物可以使用甲苯酸。一种全息记录媒体(11)，其具有全息记录材料层(21)。
全息记录材料及其制造方法以及媒体

[发明专利]全息记录材料、其制造方法及全息记录介质-CN200810009097.7有效
发明人：小须田敦子;林田直树;吉成次郎 -专利权人： TDK株式会社
申请日： 2008-02-13 - 公布日： 2008-08-13 - 主分类号： G03F7/075 文献下载
摘要：本发明提供一种全息记录材料，其不仅在使用绿色激光器的全息照相存储器记录中，而且在使用青色激光器的全息照相存储器记录中，都能实现高折射率变化、柔软性、高灵敏度、低散射、耐环境性、耐久性、低收缩性及高多重度，适于体积型全息记录，本发明还提供上述全息记录材料的制造方法以及具有全息记录材料层(21)的全息记录介质(11)。本发明的全息记录材料含有金属氧化物和光聚合性化合物，其中的金属氧化物作为金属至少含有Si和Zr，并且在Zr上配位有β－二羰基化合物，在金属氧化物中，β－二羰基化合物与Zr原子的摩尔比(β－二羰基化合物/Zr)在2/1以上3/1以下，并且Si原子与Zr原子的摩尔比(Si/Zr)大于1/1而在1.15/1以下。
全息记录材料制造方法介质

[发明专利]含钛金属氧化物的制造方法、全息记录材料、其制造方法及全息记录介质-CN200710199487.0有效
发明人：小须田敦子;林田直树;吉成次郎 -专利权人： TDK株式会社
申请日： 2007-12-13 - 公布日： 2008-06-25 - 主分类号： C01G23/047 文献下载
摘要：本发明提供一种着色减少的含钛金属氧化物的制造方法。提供将着色减少的含钛金属氧化物用作金属氧化物基质，还适合用于利用蓝色激光器的全息照相存储器记录的全息记录材料、其制造方法以及全息记录介质。一种金属氧化物的制造方法，所述金属氧化物中作为金属元素至少包含Ti，所述制造方法包括：准备配位有偕二元醇及连位二元醇以外的二元醇的Ti的烷氧基化合物的工序；使配位有所述二元醇的Ti的烷氧基化合物水解，得到金属氧化物的前驱体的工序；使所述金属氧化物前驱体进行缩聚反应，形成金属氧化物的工序。
金属氧化物制造方法全息记录材料介质

[发明专利]全息记录材料及全息记录介质-CN200710154389.5有效
发明人： 林田直树;小须田敦子;吉成次郎 -专利权人： TDK株式会社
申请日： 2007-09-26 - 公布日： 2008-04-02 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明提供一种在不仅使用绿色激光器还使用了蓝色激光器的全息照相存储器记录中，也实现高折射率变化、柔软性、高灵敏度、低散射、耐环境性、耐久性、低尺寸变化(低收缩性)及高多重性的适于体积型全息记录的全息记录材料及全息记录介质。一种全息记录材料，包含金属氧化物基质和光聚合型化合物，其中，金属氧化物基质至少将Si及Ti作为金属元素含有，Ti来源于含钛氧化物微粒。全息记录介质(11)具有由全息记录材料构成的全息记录层(21)。
全息记录材料介质

[发明专利]全息记录介质-CN200710148362.5有效
发明人：吉成次郎;小须田敦子;林田直树 -专利权人： TDK株式会社
申请日： 2007-08-31 - 公布日： 2008-03-05 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明提供一种在使用了蓝色激光的全息照相存储器记录中，实现了高折射率变化、柔软性、高灵敏度、低散射、耐环境性、耐久性、低尺寸变化(低收缩性)及高多重性的全息记录介质。在至少包含全息记录材料层的全息记录介质中，全息记录材料层(21)至少包含：金属氧化物、和光聚合性化合物；记录介质为在波长405nm具有50％以上的透光率或者在波长405nm具有25％以上的光反射率的全息记录介质(11)。
全息记录介质

[发明专利]全息记录材料、其制造方法及全息记录介质-CN200710148363.X有效
发明人：小须田敦子;林田直树;吉成次郎 -专利权人： TDK株式会社
申请日： 2007-08-31 - 公布日： 2008-03-05 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明提供在不仅使用绿色激光器还使用了蓝色激光器的全息照相存储器记录中，也实现高折射率变化、柔软性、高灵敏度、低散射、耐环境性、耐久性、低收缩性及高多重性的适于体积型全息记录的全息记录材料、其制造方法、及全息记录介质。包含作为金属含有Si、和选自Ta及Zr构成的组中的至少一种且在Ta及/或Zr上配位有配位物形成配位基的金属氧化物、和光聚合性化合物的全息记录材料。配位物形成配位基从β－二羰基化合物、聚羟基化配位基及α－或β－羟基酸选择。具有全息记录材料层(21)的全息记录介质(11)。
全息记录材料制造方法介质

[发明专利]全息记录介质-CN200710147129.5无效
发明人： 林田直树;小须田敦子;吉成次郎 -专利权人： TDK株式会社
申请日： 2007-08-30 - 公布日： 2008-03-05 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明提供一种在使用了蓝色激光的全息照相存储器记录中，实现了高折射率变化、柔软性、高灵敏度、低散射、耐环境性、耐久性、低尺寸变化(低收缩性)及高多重性的全息记录介质。在至少包含全息记录材料层的全息记录介质中，全息记录材料层(21)至少包含：至少具有Ti－O键的有机金属化合物、和光聚合型化合物；记录介质为在波长405nm具有50％以上的透光率或者在波长405nm具有25％以上的光反射率的全息记录介质(11)。有机金属化合物优选是将对应的金属的烷氧化物在不含有环状醚骨架及碳酰氧的任意种的有机溶剂中进行水解及聚合反应而得到。
全息记录介质

[发明专利]全息照相记录材料及全息照相记录介质-CN200610146400.9有效
发明人：吉成次郎;林田直树 -专利权人： TDK株式会社
申请日： 2006-11-13 - 公布日： 2007-05-16 - 主分类号： G03F7/075 文献下载
摘要：本发明提供一种全息照相记录材料及全息照相记录介质，该全息照相记录材料实现高的折射率变化、柔软性、高灵敏度、低散射、耐环境性、耐久性、低收缩性及高多重性，适用于体积型全息照相记录。一种全息照相记录材料，其包含有机金属化合物和光聚合性化合物，其中，所述有机金属化合物至少具有至少2种金属、氧及芳香族基团、且具有2个芳香族基团直接键合在1个金属上的有机金属单元；所述光聚合性化合物至少含有分子内具有1个聚合性官能团的单官能化合物(A)。光聚合性化合物也可以含有分子内具有2个以上聚合性官能团的多官能化合物(B)。一种全息照相记录介质(11)，其具有全息照相记录材料层(21)。
全息照相记录材料介质

[发明专利]全息照相记录材料及全息照相记录介质-CN200610146409.X有效
发明人： 林田直树;吉成次郎 -专利权人： TDK株式会社
申请日： 2006-11-13 - 公布日： 2007-05-16 - 主分类号： G03F7/075 文献下载
摘要：本发明提供一种全息照相记录材料及全息照相记录介质，所述全息照相记录材料实现高的折射率变化、柔软性、高灵敏度、低散射、耐环境性、耐久性、低收缩性及高多重性，适用于体积型全息照相记录。一种全息照相记录材料，其包含有机金属化合物、金属氧化物微粒及光聚合性化合物，其中，所述有机金属化合物至少具有至少2种金属、氧及芳香族基团、且具有2个芳香族基团直接键合在1个金属上的有机金属单元。金属氧化物微粒选自由例如二氧化硅微粒、氧化铝微粒、二氧化钛微粒、氧化锆微粒及包含构成所述4种金属氧化物的金属原子的1种以上的复合氧化物微粒构成的群组。一种全息照相记录介质(11)，其具有全息照相记录材料层(21)。
全息照相记录材料介质

[发明专利]信息记录介质的评价方法和信息记录介质评价装置-CN200480036722.7有效
发明人： 林田直树;伊藤秀毅;米山健司;田中和志 -专利权人： TDK株式会社
申请日： 2004-12-07 - 公布日： 2007-01-03 - 主分类号： G11B7/26 文献下载
摘要：本发明提供一种根据附着在光入射面上的指纹对信号特性的影响评价信息记录介质的信息记录介质的评价方法。执行以下步骤：使信息记录介质的光入射面上附着人工指纹的步骤(步骤S12)；重放记录在附着有人工指纹的附着区域中的信号的步骤(步骤S13)；根据重放信号的信号质量判断信息记录介质的好坏的步骤(步骤S14)。由此，将由于在光入射面上附着指纹而造成重放信号的信号质量显著恶化的信息记录介质作为不合格品，能够避免这样的信息记录介质在市场上流通的情况。由此，能够特别充分地确保以在裸盘状态下使用为前提的信息记录介质的可靠性。
信息记录介质评价方法装置

[发明专利]光信息介质-CN200480031348.1无效
发明人：伊藤秀毅;田中和志;林田直树 -专利权人： TDK株式会社
申请日： 2004-10-20 - 公布日： 2006-11-29 - 主分类号： G11B7/24 文献下载
摘要：提供一种记录和/或再生光束入射侧表面的防污性和润滑性优良、同时耐擦伤性及耐磨性也优良的光信息介质。是在支持基体(20)上具有至少包括记录层(4)或反射层并由一层或多层构成的膜体的光信息介质，支持基体(20)侧表面及上述膜体侧表面中至少一个表面由包含下述的硬涂剂组合物的固化物的硬涂层(8)所形成，其中所述硬涂剂组合物含有含氟嵌段共聚物(A)和活性能量射线固化性化合物(B)。
信息介质

[发明专利]硬涂层剂组合物及由其生产的光学信息介质-CN200480031208.4无效
发明人： 林田直树;井原理惠;伊藤秀毅;田中和志 -专利权人： TDK株式会社
申请日： 2004-10-21 - 公布日： 2006-11-29 - 主分类号： C08G18/67 文献下载
摘要：本发明提供了一种硬涂层剂组合物，其包含：含氟聚醚化合物(A)，该含氟聚醚化合物(A)具有全氟聚醚单元、氨基甲酸酯键和对活性能量射线具有反应性的基团；以及可固化化合物(B)，该可固化化合物(B)在分子中具有至少2个可经活性能量射线聚合的基团。本发明还提供了一种光学信息介质，其在承载基底20上具有由单层或多层组成的膜物质，所述的单层或多层至少包含记录层4或反射层，在该光学信息介质中，至少承载基底20的表面或上述膜物质的表面由包含上述硬涂层剂组合物的可固化物质的硬涂层8形成。
涂层组合生产光学信息介质

[发明专利]硬涂剂组合物和采用其的光信息介质-CN200480028763.1无效
发明人：伊藤秀毅;田中和志;林田直树 -专利权人： TDK株式会社
申请日： 2004-09-24 - 公布日： 2006-11-15 - 主分类号： C09D171/00 文献下载
摘要：提供一种在各种物体的表面上形成防污性和润滑性优良、同时耐擦伤性和耐磨性也优良的硬涂层用硬涂剂组合物。提供一种采用上述硬涂剂组合物的光信息介质。包含具有活性能量射线反应性基团的含氟聚醚化合物(A)，和分子内有两个或三个以上活性能量射线聚合性基团的固化性化合物(B)的硬涂剂组合物。是在支持基体(20)上具有由至少含记录层(4)或反射层的一层或数层构成的膜体的光信息介质，支持基体(20)侧表面及上述膜体侧表面中至少一个表面是由含有上述硬涂剂组合物的固化物的硬涂层(8)形成的光信息介质。
硬涂剂组合采用信息介质

[发明专利]带有复合硬涂层的物体及复合硬涂层的形成方法-CN03810192.0无效
发明人： 林田直树;米山健司;田中和志 -专利权人： TDK株式会社
申请日： 2003-06-23 - 公布日： 2005-08-10 - 主分类号： B32B27/30 文献下载
摘要：本发明廉价地提供具有防污性及润滑性、耐擦伤性及耐磨损性优良的硬涂层的物体，并提供硬涂层的形成方法。在应当进行硬涂层处理的对象物体(1)表面，涂布包含活性能量射线固化性化合物的硬质涂覆剂组合物而形成硬质涂覆剂组合物层，在硬质涂覆剂组合物层表面上，使包含具有氟的多官能(甲基)丙烯酸酯化合物和具有氟的单官能(甲基)丙烯酸酯化合物的表面材料成膜而形成表面材料层，向已形成的硬质涂覆剂组合物层及表面材料层照射活性能量射线，使所述两层同时固化，形成与对象物体(1)表面接触的硬涂层(2)和与硬涂层(2)表面接触的防污表面层(3)。
带有复合涂层物体形成方法

[发明专利]带有复合硬涂层物体及复合硬涂层的形成方法-CN03810186.6无效
发明人： 林田直树;米山健司;田中和志 -专利权人： TDK株式会社
申请日： 2003-06-23 - 公布日： 2005-08-03 - 主分类号： B32B27/30 文献下载
摘要：本发明廉价地提供具有防污性及润滑性、耐擦伤性及耐磨损性优良的硬涂层的物体，并提供硬涂层的形成方法。在应当进行硬涂层处理的对象物体(1)表面，涂布包含活性能量射线固化性化合物的硬质涂覆剂组合物而形成硬质涂覆剂组合物层，在硬质涂覆剂组合物层表面上，使包含具有氟的多官能(甲基)丙烯酸酯化合物的表面材料成膜而形成表面材料层，向已形成的硬质涂覆剂组合物层及表面材料层照射活性能量射线，使所述两层同时固化，形成与对象物体(1)表面接触的硬涂层(2)和与硬涂层(2)表面接触的防污表面层(3)。
带有复合涂层物体形成方法

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