“松本朋之”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果7个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]镀敷造型物的制造方法-CN201880015558.3有效
发明人：榊原宏和;伊东宏和;松本朋之;渡部和人 -专利权人： JSR株式会社
申请日： 2018-01-16 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种能够抑制镀敷处理时的镀敷的渗入的镀敷造型物的制造方法，以及用于所述镀敷造型物的制造方法中、可在基板上形成抑制了镀敷的渗入的抗蚀剂的镀敷造型物制造用感光性树脂组合物。本发明的镀敷造型物的制造方法包括：在基材上形成感光性树脂组合物的感光性树脂涂膜的工序(1)，所述感光性树脂组合物含有因酸的作用而对碱的溶解性增大的树脂(A)、光酸产生剂(B)、及因酸的作用而分解并生成伯胺或仲胺的化合物(C)；对感光性树脂涂膜进行曝光的工序(2)；对曝光后的感光性树脂涂膜进行显影而形成抗蚀剂图案的工序(3)；以及将抗蚀剂图案作为掩模进行镀敷处理的工序(4)。
造型制造方法

[发明专利]含有螯合剂的水玻璃及硅溶胶的制造方法-CN202080046166.0在审
发明人：大岩本雅纪;小山欣也;铃木睦子;敷井和彰;松本朋之 -专利权人：日产化学株式会社
申请日： 2020-06-23 - 公布日： 2022-02-01 - 主分类号： C01B33/32 文献下载
摘要：本发明的课题是提供将无水硅酸钠(碎玻璃)、螯合剂和水加热而获得硅酸钠水溶液的方法、和使用了该硅酸钠水溶液(水玻璃)的高纯度硅溶胶的制造方法。解决手段是一种硅酸钠水溶液的制造方法，将无水硅酸钠、螯合剂、和水在100～270℃下加热混合。一种硅酸钠水溶液的制造方法，将无水硅酸钠、和含有螯合剂的水溶液在100～270℃下加热混合。一种硅酸钠水溶液的制造方法，螯合剂相对于SiO2为0.1～3000ppm。一种硅溶胶的制造方法，其包含下述工序：(a)工序：使通过上述制造方法而获得的硅酸钠水溶液、与阳离子交换树脂接触而获得活性硅酸水溶液的工序；(b)工序：将在(a)工序中获得的活性硅酸水溶液加热而获得硅溶胶的工序；(c)工序：将在(b)工序中获得的硅溶胶超滤的工序。
含有螯合剂水玻璃硅溶胶制造方法

[发明专利]感光性树脂组合物、抗蚀剂图案膜的制造方法、及镀敷造形物的制造方法-CN202080017960.2在审
发明人：佐野有香;松本朋之;榊原宏和 -专利权人： JSR株式会社
申请日： 2020-04-13 - 公布日： 2021-10-15 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种感光性树脂组合物，用于形成驻波轨迹得到抑制且剖面为矩形的抗蚀剂图案膜。本发明的感光性树脂组合物含有：具有酸解离性基的聚合物(A)；光酸产生剂(B)；具有羟基的氨基甲酸酯(C)；以及溶剂(D)，所述溶剂(D)含有：选自丙二醇单甲醚乙酸酯等中的至少一种溶剂(D1)；以及选自二丙二醇二甲醚等中的至少一种溶剂(D2)。
感光性树脂组合抗蚀剂图案制造方法造形

[发明专利]感光性树脂组合物、抗蚀剂图案的形成方法、以及镀覆造形物的制造方法-CN201980052361.1在审
发明人：木村优;石川弘树;松本朋之;佐藤庆一 -专利权人： JSR株式会社
申请日： 2019-09-11 - 公布日： 2021-03-30 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明是一种感光性树脂组合物，其特征在于含有聚合性化合物(A)、光自由基聚合引发剂(B)、硫醇化合物(C)、以及聚合抑制剂(D)，且所述硫醇化合物(C)的含量相对于所述聚合性化合物(A)100质量份而为5质量份～50质量份，所述聚合抑制剂(D)的含量相对于所述聚合性化合物(A)100质量份而为1质量份～10质量份。本发明可提供一种在明视场与暗视场两者中曝光量宽容度(EL)宽的感光性树脂组合物。可提供一种使用所述感光性树脂组合物能够在明视场与暗视场两者中精度佳地形成微细抗蚀剂图案的抗蚀剂图案的形成方法。可提供一种使用通过所述抗蚀剂图案的形成方法所形成的抗蚀剂图案能够制造精度佳、微细的镀覆造形物的镀覆造形物的制造方法。
感光性树脂组合抗蚀剂图案形成方法以及镀覆造形制造

[发明专利]感光性树脂组合物、抗蚀剂图案的形成方法、镀覆成形物的制造方法及半导体装置-CN201980051416.7在审
发明人：谷口拓弘;西口直希;松本朋之;榊原宏和;广昭人;秋丸尚徳 -专利权人： JSR株式会社
申请日： 2019-07-01 - 公布日： 2021-03-19 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种形成作为镀覆处理的掩模而有用的抗蚀剂图案的感光性树脂组合物、使用了所述感光性树脂组合物的抗蚀剂图案的形成方法、使用了通过所述形成方法所形成的抗蚀剂图案的镀覆成形物的制造方法、以及具有所述镀覆成形物的半导体装置，感光性树脂组合物含有：聚合体(A)，具有下述式(a1)所示的结构单元(a1)、下述式(a2)所示的结构单元(a2)、及下述式(a3)所示的结构单元(a3)；以及光酸产生剂(B)。式(a3)中，R33表示羟基芳基。
感光性树脂组合抗蚀剂图案形成方法镀覆成形制造半导体装置

[发明专利]感光树脂组合物、抗蚀剂图案的形成方法、镀敷造形物的制造方法及半导体装置-CN201980051934.9在审
发明人：榊原宏和;西口直希;谷口拓弘;松本朋之 -专利权人： JSR株式会社
申请日： 2019-06-14 - 公布日： 2021-03-19 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种可形成分辨性优异、且能够应对铜镀敷及镍镀敷的抗蚀剂图案的感光性树脂组合物、使用所述感光性树脂组合物的抗蚀剂图案的形成方法、使用所述抗蚀剂图案的镀敷造形物的制造方法、具有镀敷造形物的半导体装置，本组合物含有聚合物(A)及光酸产生剂(B)，所述聚合物(A)具有下述式(a1)所表示的结构单元(a1)、下述式(a2)所表示的结构单元(a2)、及下述式(a3)所表示的结构单元(a3)。式(a3)中，R33表示羟基芳基。
感光树脂组合抗蚀剂图案形成方法造形制造半导体装置

[发明专利]镀敷造形物的制造方法、电路基板及表面处理剂以及表面处理剂套组-CN201980044459.2在审
发明人：西口直希;桂山真;榊原宏和;松本朋之;远藤彩子 -专利权人： JSR株式会社
申请日： 2019-06-14 - 公布日： 2021-02-12 - 主分类号： G03F7/09 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种无镀敷液的渗入而可制造形状良好的镀敷造形物的镀敷造形物的制造方法。本发明的镀敷造形物的制造方法的特征在于包括：步骤(1)，将表面处理剂暴露于在表面具有含铜膜的基板上，形成表面处理基板，所述表面处理剂含有0.001质量％～2质量％的选自三唑(A1)及苯并三唑系化合物(A2)中的至少一种三唑化合物(A)及90质量％～99.999质量％的有机溶剂(B)；步骤(2)，在所述表面处理基板上形成抗蚀剂组合物的涂膜；步骤(3)，对所述涂膜进行曝光及显影，形成抗蚀剂图案；以及步骤(4)，将所述抗蚀剂图案作为掩模来进行镀敷液处理。
造形制造方法路基表面处理以及剂套组