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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]一种高折射率斜齿光栅的制造方法-CN202211386284.3在审
发明人：崔波;严正;李金涛;潘艾希 -专利权人： 杭州探真纳米科技有限公司
申请日： 2022-11-07 - 公布日： 2023-01-13 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明提供一种高折射率斜齿光栅的制造方法，包括：S1，在光栅衬底上形成种子层图案，种子层图案图案为若干周期性间隔设置的线条；S2，在种子层图案上利用掠射角沉积技术沉积一层斜齿光栅结构材料。本发明将掠射角沉积技术（GLAD）用于高折射率斜齿光栅的制造。
一种折射率光栅制造方法

[发明专利]闪耀光栅的制造方法-CN202210861036.3在审
发明人：崔波;严正;朱效立;潘艾希 -专利权人： 杭州探真纳米科技有限公司
申请日： 2022-07-22 - 公布日： 2022-11-08 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明提供一种闪耀光栅的制造方法，包括以下步骤：在光栅基底上形成图案；采用掩膜材料在所述光栅基底上形成刻蚀掩膜，所述掩膜材料填充满所述光栅基底图案中的空隙；去除所述光栅基底表面的刻蚀掩膜，直至所述光栅基底的图案被露出，填充在所述光栅基底图案空隙中的的掩膜材料不会被去除；对所述光栅基底进行倾斜角度刻蚀，得到需要的闪耀光栅结构；去除剩余的掩膜材料。通过本发明的方法可以实现纳米尺寸光栅的制造，形成的图案具有更高精确度；本方法重复性高，光栅高度可确定或者可由刻蚀速率与时间控制，宽度由两侧掩膜材料的距离确定。
闪耀光栅制造方法

[发明专利]法拉第笼刻蚀法大批量制备倾角补偿AFM探针的方法-CN202110589264.5在审
发明人：李金涛;朱效立;贾宪生;崔波 -专利权人： 杭州探真纳米科技有限公司
申请日： 2021-05-28 - 公布日： 2021-09-10 - 主分类号： B81C1/00 文献下载
摘要：本发明针对现有普通AFM探针在测量时存在的固有缺陷，提供了一种法拉第笼刻蚀法大批量制备倾角补偿AFM探针的方法，该技术方案利用法拉第笼在等离子体环境中形成等电位，引导等离子体以垂直于法拉第笼表面的方向进入法拉第笼的特性，进而以Cr2O3为硬掩膜，进行倾斜刻蚀，从而得到倾角补偿AFM针尖；同时利用电子束曝光，UV曝光及Bosch工艺，得到探针悬臂梁及探针基底。本发明能够以耗时短且成本低的工艺实现在整片SOI片上大批量生产倾角补偿探针，并改良AFM探针，提高AFM探针测量的精准度。
法拉第刻蚀大批量制备倾角补偿 afm 探针方法

[发明专利]尺寸、倾斜角可控的超大高宽比倾斜AFM探针针尖制备方法-CN202110273278.6在审
发明人：贾宪生;崔波;朱效立 -专利权人： 杭州探真纳米科技有限公司
申请日： 2021-03-15 - 公布日： 2021-06-29 - 主分类号： G01Q60/38 文献下载
摘要：本发明提供了一种尺寸、倾斜角可控的超大高宽比倾斜AFM探针针尖制备方法。该技术方案利用聚焦离子束辐照悬空微纳米金属结构会使微纳米金属结构向上折叠，且折叠家角度和辐照能量相关的特点，在悬臂梁顶端沉积金属薄膜，选择不同聚焦离子束参数辐照悬臂梁外金属结构悬空部位，制备倾斜角度可控的超大高宽比倾斜AFM探针针尖。作为一种全新的大高宽比AFM探针制造方法，本发明一致性可控，适用于多种材料，且方法简单适于大批量生产。作为原子力显微镜的核心构件，本发明产品具有更高的探测精度。
尺寸倾斜角可控超大倾斜 afm 探针针尖制备方法

[发明专利]一种采用等离子体刻蚀制备原子力显微镜探针阶梯型基底的方法-CN202010921867.6在审
发明人：崔波;朱晨旭;朱效立 -专利权人： 杭州探真纳米科技有限公司
申请日： 2020-09-04 - 公布日： 2021-01-01 - 主分类号： B81C1/00 文献下载
摘要：一种采用等离子体刻蚀制备原子力显微镜探针阶梯型基底的方法，属于微纳机械传感器技术领域。包括以下步骤：1）选用SOI晶片作为原料；2）掩模旋涂完成后，利用光刻机进行曝光，曝光完成后在室温下将样品于专用显影剂下显影，然后将样品坚膜；3）分四步进行反应离子刻蚀。上述一种采用等离子体刻蚀制备原子力显微镜探针阶梯型基底的方法，利用刻蚀图形的不同大小得到不同刻蚀深度，从而通过等离子体刻蚀制造阶梯型结构，实现了等离子体刻蚀的三阶梯AFM探针基底，并且可通过调节曝光图形矩形阵列的边长调控阶梯深度；具有此种阶梯型基底的AFM探针不会阻挡反射激光的光路。
一种采用等离子体刻蚀制备原子显微镜探针阶梯基底方法

[发明专利]一种大高宽比金刚石针尖AFM探针的制造方法-CN202010921910.9在审
发明人：崔波;朱效立;潘艾希;巴巴克·巴拉达兰·修库尔 -专利权人： 杭州探真纳米科技有限公司
申请日： 2020-09-04 - 公布日： 2021-01-01 - 主分类号： G01Q60/24 文献下载
摘要：一种大高宽比金刚石针尖AFM探针的制造方法，属于微纳机械传感器技术领域。选用SOI晶片作为原料，沉积纳米金刚石，再依次沉积Cr2O3、涂PMMA、金属Al、聚苯乙烯层；对聚苯乙烯层显影；刻蚀将聚苯乙烯层、PMMA层中的图形转移，刻蚀得到针尖金刚石部分和针尖硅部分；刻蚀使硅层暴露，清除残留Cr2O3，衬底涂光刻胶；对光刻胶进行显影，刻蚀直至硅层完全暴露；清洗残留，去除硅层；按照上述步骤制成AFM探针。上述一种大高宽比金刚石针尖AFM探针的制造方法，可实现探针的批量制造，简化工艺的同时大大降低制造成本。
一种大高宽金刚石针尖 afm 探针制造方法

[实用新型]一种悬臂末端纳米探针-CN201720217707.7有效
发明人：郑烁;巴巴克·巴拉达兰·修库尔;邓萌萌;崔波 -专利权人： 杭州探真纳米科技有限公司
申请日： 2017-02-27 - 公布日： 2018-05-22 - 主分类号： G01Q60/38 文献下载
摘要：本实用新型公布了一种悬臂末端纳米探针，每个纳米探针在悬臂上一体成型，每个纳米探针包括：与悬臂相距的针尖，在悬臂上一体成型的针头，针头均存在一个或多个侧壁，其中，所述针头的轴纵横比大于所述基座的纵横比。本实用新型通过批量处理的方法在悬臂末端制造各个纳米探针，使得制造出的纳米探针具有相同的特性；在降低了制造成本的同时，可使整个制造过程规模化和可重复化；由于针尖结构处于悬臂的末端，可以非常直接有效的判断针尖所在部位，从而进行快速的扫描测试。
一种悬臂末端纳米探针

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