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[发明专利]一种侧提拉式单面涂膜机-CN201810283579.5有效
发明人：刘太祥;晏良宏;严鸿维;杨科;李合阳;张卓;袁晓东 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2018-04-02 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： B05C3/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种侧提拉式单面涂膜机，包括：支撑架，其侧面设置有垂直导轨；支撑架的底部连接有底板；底板上设置有底板导轨；横臂梁，其可滑动连接在垂直导轨上；第一提拉臂，其设置在横臂梁上且远离横臂梁的自由端；第一提拉臂上可伸缩连接有硬质连杆；第二提拉臂，其可滑动连接在横臂梁的平行导轨上且靠近横臂梁的自由端；第二提拉臂上可伸缩连接有柔性连接件；涂膜液储液槽，其设置有可锁止的万向轮；万向轮可滑动连接在底板导轨上；待涂膜样件的一端连接在硬质连杆上，另一端连接在柔性连接件上；并通过第一提拉臂和第二提拉臂将待涂膜样件与涂膜液液面接触，然后通过第二提拉臂对柔性连接件的向上提拉，实现待涂膜样件的侧提拉单面涂膜。
一种侧提拉式单面涂膜机

[发明专利]一种控制熔石英静态酸蚀刻沉积物的方法-CN201810798186.8有效
发明人：杨科;严鸿维;刘太祥;晏良宏;陈静;贾宝申;李合阳;张卓;黄贝聪;吕海兵;蒋晓东 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2018-07-19 - 公布日： 2021-06-08 - 主分类号： C03C15/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种控制熔石英静态酸蚀刻沉积物的方法，该方法利用短时间酸蚀刻过程六氟硅酸根的浓度扩散，酸蚀刻后把熔石英元件进行喷淋和超声清洗去除残留离子，再多次重复酸蚀刻、喷淋、超声漂洗此过程，实现一定深度的熔石英的蚀刻，不仅避免沉积物的出现，保持了面形，而且提高了激光损伤阈值，实现了熔石英抛光层和缺陷层有效完全去除，并且无沉积物产生；该方法具有操作简单、可控制、不破坏光学元件面形和粗糙度、经济等优点。
一种控制石英静态蚀刻沉积物方法

[实用新型]一种侧提拉式单面涂膜机-CN201820453618.7有效
发明人：刘太祥;晏良宏;严鸿维;杨科;李合阳;张卓;袁晓东 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2018-04-02 - 公布日： 2018-11-27 - 主分类号： B05C3/18 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种侧提拉式单面涂膜机，包括：支撑架，其侧面设置有垂直导轨；支撑架的底部连接有底板；底板上设置有底板导轨；横臂梁，其可滑动连接在垂直导轨上；第一提拉臂，其设置在横臂梁上且远离横臂梁的自由端；第一提拉臂上可伸缩连接有硬质连杆；第二提拉臂，其可滑动连接在横臂梁的平行导轨上且靠近横臂梁的自由端；第二提拉臂上可伸缩连接有柔性连接件；涂膜液储液槽，其设置有可锁止的万向轮；万向轮可滑动连接在底板导轨上；待涂膜样件的一端连接在硬质连杆上，另一端连接在柔性连接件上；通过第一提拉臂和第二提拉臂将待涂膜样件与涂膜液液面接触，然后通过第二提拉臂对柔性连接件的向上提拉，实现待涂膜样件的侧提拉单面涂膜。
提拉臂横臂梁可滑动连接柔性连接件单面涂膜涂膜样件底板可伸缩连接垂直导轨底板导轨一端连接硬质连杆提拉式涂膜液万向轮支撑架自由端提拉本实用新型侧面设置底部连接平行导轨液面接触储液槽锁止

[实用新型]交变电场辅助光学元件表面刻蚀处理装置-CN201820536465.2有效
发明人：刘太祥;严鸿维;杨科;晏良宏;李合阳;张卓;袁晓东 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2018-04-16 - 公布日： 2018-11-16 - 主分类号： C03C15/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种交变电场辅助光学元件表面刻蚀处理装置，包括：支撑架，其底部连接有底板；底板上设置有底板导轨；横臂梁，其连接在支撑架的顶部；横臂梁上设置有导槽，导槽内设置有第一丝杆；提拉臂，其一端连接待处理光学元件，另一端通过升降单元连接在第一丝杠的第一滑块上，第一丝杠上连接第一伺服电机；储液槽，其内放置刻蚀液；储液槽的底部设置有万向轮；万向轮连接在底板导轨上；平行电极板，其通过位置控制单元放置在储液槽内；交变电源，其通过电源开关和导线与平行电极板连接；本实用新型的装置能够对熔石英光学元件蚀刻处理过程中的化学反应进程进行有效控制，装置结构简单、价格便宜，运行时无噪声污染。
储液槽底板辅助光学元件本实用新型平行电极板表面刻蚀处理装置底板导轨交变电场横臂梁万向轮支撑架导槽丝杠熔石英光学元件化学反应进程蚀刻处理过程位置控制单元噪声污染底部连接第一滑块第一丝杆电源开关光学元件交变电源升降单元伺服电机有效控制装置结构刻蚀液提拉臂运行时

[发明专利]交变电场辅助光学元件表面刻蚀处理装置及处理方法-CN201810337980.2在审
发明人：刘太祥;严鸿维;杨科;晏良宏;李合阳;张卓;袁晓东 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2018-04-16 - 公布日： 2018-07-27 - 主分类号： C03C15/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种交变电场辅助光学元件表面刻蚀处理装置及处理方法，通过位置控制单元将平行电极板放置在储液槽内，将提拉臂的一端通过升降单元连接在第一丝杠的第一滑块上，通过控制第一伺服电机使提拉臂沿横臂梁移动至储液槽上方，将连接光学元件连接在提拉臂上，通过升降单元将待处理光学元件移动至储液槽内的平行电极板之间；在储液槽内注入刻蚀液；接通电源开关，通过交变电源使平行电极板间产生交变电场，同时开始光学元件表面蚀刻处理过程。本发明的装置能够对熔石英光学元件蚀刻处理过程中的化学反应进程进行有效控制，装置结构简单、价格便宜，运行时无噪声污染。
储液槽平行电极板交变电场提拉臂辅助光学元件蚀刻处理过程表面刻蚀处理装置升降单元熔石英光学元件光学元件表面光学元件连接光学元件移动化学反应进程接通电源开关位置控制单元第一滑块交变电源伺服电机有效控制噪声污染装置结构横臂梁刻蚀液运行时丝杠移动

[发明专利]折射率渐变宽带增透膜的制备方法-CN201710354590.1在审
发明人：晏良宏;吕海兵;严鸿维;刘太祥;杨科;李好;王韬;李合阳;袁晓东 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2017-05-19 - 公布日： 2017-09-01 - 主分类号： C03C17/30 文献下载
摘要：本发明公开了一种折射率渐变宽带增透膜的制备方法，包括按重量份，取正硅酸乙酯，水，浓盐酸，乙醇，聚乙二醇混合，以200rpm的速度搅拌3小时；密封在常温常压下静止7天，得到溶胶；将熔石英光学元件垂直放在提拉镀膜机上，缓慢将元件浸入溶胶中，静止3～8分钟后，以200～500mm/min的速度提拉镀膜，形成的膜层在空气中干燥5～15分钟；将干燥的膜层浸入50～70℃的水中，浸泡20～60分钟，取出后烘干，得到折射率渐变宽带增透膜。本发明制备的增透光学薄膜透过带宽，透过率高，具有折射率渐变特点；本发明制备方法简单，处理过程快速、工艺简单、易于操作，十分容易实现在工业上大规模应用，制备的增透光学薄膜的透过率高。
折射率渐变宽带增透膜制备方法

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