专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]阵列基板和制造方法、液晶面板、液晶显示器和驱动方法-CN201010245690.9有效
  • 秦纬;朴云峰;彭志龙 - 北京京东方光电科技有限公司
  • 2010-08-04 - 2012-02-08 - G02F1/1362
  • 本发明公开了一种阵列基板和制造方法、液晶面板、液晶显示器和驱动方法。阵列基板,包括形成在衬底基板上的栅线、数据线和公共电极线,栅线和数据线限定的像素区域内形成像素电极和薄膜晶体管,还包括:第一栅线和与数据线中的多个数据线对分别对应的开关元件,数据线对由电压反转极性相反的两条数据线组成且数据线对的个数等于数据线条数的一半,第一栅线设置在衬底基板上下两侧中至少一侧,开关原件与数据线对以及第一栅线连接,开关元件用于在第一栅线的控制下,将与开关元件对应的数据线对导通。本发明通过驱动第一栅线,中和电压反转极性相反的数据线的像素电极的电荷,在关闭第一栅线采用数据线对像素电极进行充电时,可以显著降低功耗。
  • 阵列制造方法液晶面板液晶显示器驱动
  • [发明专利]掩模板及其制造方法-CN200810118177.6有效
  • 朴云峰;朴春培;秦纬;王威 - 北京京东方光电科技有限公司
  • 2008-08-13 - 2010-02-17 - G03F1/14
  • 本发明公开了一种掩模板及其制造方法。掩模板包括基板,所述基板上形成有完全透光区域、非透光区域和半透光区域,所述半透光区域内设置有使所述半透光区域均匀透光的半透膜。本发明的技术方案中在掩模板的半透光区域采用厚度不均匀的半透膜,利用该掩模板进行沟道区域掩模曝光时,可以使沟道区域处的光刻胶曝光均匀,解决了现有技术灰色调掩模技术中曝光的光刻胶高低不平的问题,使沟道区域处曝光的光刻胶相对平坦,提高了曝光的光刻胶的平整度,从而降低了沟道桥或沟道开路的发生率;本发明还解决了现有技术半色调掩模技术中沟道处曝光的光刻胶倾角过小的问题,增大了曝光的光刻胶的倾角,提高了TFT沟道的充电特性。
  • 模板及其制造方法
  • [发明专利]一种薄膜晶体管液晶显示面板像素结构及制造方法-CN200810117085.6有效
  • 申伟;朴云峰;权基瑛;权南仁 - 北京京东方光电科技有限公司
  • 2008-07-23 - 2010-01-27 - G02F1/1362
  • 本发明公开了一种薄膜晶体管液晶显示面板像素结构,包括:基板;栅极扫描线及栅电极,形成于基板之上;栅极绝缘层,形成于栅极扫描线及栅电极之上;有源层,形成于栅极绝缘层之上;源漏电极以及数据扫描线,其中源漏电极形成于有源层之上,数据扫描线形成于栅极绝缘层之上,并且源漏电极之下的有源层互不相连;半导体层,形成于源漏电极、以及栅极绝缘层之上,且半导体层覆盖部分漏电极、以及部分栅极绝缘层;钝化层,形成于半导体层之上;像素电极,形成于钝化层、漏电极、栅极绝缘层之上。本发明同时公开了一种薄膜晶体管液晶显示面板像素结构的制造方法,该像素结构和制造方法能够避免源漏电极短路、沟道开路等问题,提高阵列基板的良品率。
  • 一种薄膜晶体管液晶显示面板像素结构制造方法
  • [发明专利]LCD基板的制造方法-CN200810101546.0无效
  • 朴云峰 - 北京京东方光电科技有限公司
  • 2008-03-07 - 2009-09-09 - G02F1/1333
  • 本发明涉及一种LCD基板的制造方法,包括:将掩模板与基板贴合在一起;在完成前一步骤的基板上沉积薄膜;在完成前一步骤的基板上移开所述掩模板,在所述基板上形成薄膜图形。本发明提出了一种全新的薄膜工艺,将传统光刻工艺的清洗、沉积膜、曝光、显影、刻蚀和剥离等步骤简化为清洗、成膜、少量干刻等步骤,最大限度地简化了制造设备和工艺,缩短了工艺时间,提高了产能,有效避免了基板不良,同时节省了设备投资,降低了设备维护费用,最大限度地降低了生产成本。
  • lcd制造方法
  • [发明专利]光刻胶掩模方法-CN200710177425.X有效
  • 朴云峰;朴春培 - 北京京东方光电科技有限公司
  • 2007-11-15 - 2009-05-20 - G03F7/00
  • 本发明涉及一种光刻胶掩模方法,包括:将敷掩板与基板贴合在一起;在所述敷掩板的敷掩图案上涂敷光刻胶;从基板一侧对所述光刻胶进行烘烤;从基板上移开敷掩板,形成所需的光刻胶图案。本发明通过采用敷掩板的光刻工艺,将现有光刻工艺的涂敷光刻胶、前烘、曝光、显影和后烘五个步骤简化为光刻胶涂敷和后烘二个步骤,最大限度地简化了光刻工艺,缩短了工艺时间,提高了产能,同时节省了设备投资,降低了设备维护、使用费用,降低了生产成本。
  • 光刻胶掩模方法

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