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[发明专利]等离子体处理装置及等离子体处理方法-CN201510514504.X有效
发明人：置田尚吾;朝仓浩海;渡边彰三;松原功幸;广岛满;和田年弘 -专利权人：松下知识产权经营株式会社
申请日： 2015-08-20 - 公布日： 2019-10-29 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种等离子体处理装置及等离子体处理方法，对传送载体所保持的基板等离子体处理时，提高产品的成品率。传送载体具备框架和覆盖框架的开口的保持片，基板被保持片保持，该装置具备：传送机构，传送保持有基板的传送载体；位置计测部，计测基板相对于框架的位置；等离子体处理部，具备等离子体处理台和罩体，等离子体处理台载置保持有基板的传送载体，罩体覆盖在等离子体处理台上载置的框架和保持片的至少一部分，且具有使基板的至少一部分露出的窗部；控制部，基于由位置计测部计测的基板相对于框架的位置信息，以使窗部和基板满足预定的位置关系的方式控制传送机构将保持基板的传送载体载置于等离子体处理台。
等离子体处理装置方法

[发明专利]等离子体处理装置-CN200680050274.5有效
发明人：广岛满;朝仓浩海;渡边彰三;奥根充弘;铃木宏之;宝珍隆三 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2006-11-01 - 公布日： 2009-01-21 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：等离子体处理装置具备配置于与基板(2)对置的腔室(3)的上部开口的梁状间隔件(7)。梁状间隔件(7)具备：由腔室(3)支撑其下表面(7d)的环状外周部(7a)；在俯视的情况下位于由外周部(7a)包围的区域的中央的中央部(7b)；从中央部(7b)以放射状延伸至外周部(7a)的多个梁部(7c)。电介体板(8)被梁状间隔件(7)均一地支撑其整体。能够确保将腔室(3)内减压时用于支撑大气压的机械强度，同时，能够薄型化电介体板(8)。
等离子体处理装置