专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果5个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]功率元件及其制造方法-CN202110422918.5有效
  • 普佳·瑞凡卓·戴许曼;陈柏安 - 新唐科技股份有限公司
  • 2021-04-20 - 2023-09-29 - H01L29/06
  • 一种功率元件及其制造方法,所述功率元件包括:外延层,具有沟渠,所述沟渠自所述外延层的第一表面向第二表面延伸;漏极掺杂层,位于所述外延层的所述第二表面上;第一基体区与第二基体区,位于所述沟渠两侧的所述外延层中;第一源极掺杂区与第二源极掺杂区,分别位于所述第一基体区与所述第二基体区中;隔离场板,位于所述沟渠中;绝缘填充层,位于所述沟渠中,环绕所述隔离场板的下部的侧壁与底部;第一栅极与第二栅极,位于所述沟渠中且位于所述绝缘填充层上;以及介电层,环绕所述第一栅极与所述第二栅极的侧壁,其中所述第一栅极与所述第二栅极的底角为钝角。本申请可以提升元件的崩溃电压,降低导通电阻,改善品质因素,提升元件的效能。
  • 功率元件及其制造方法
  • [发明专利]结型场效应晶体管及其制造方法-CN202010337743.3有效
  • 普佳·瑞凡卓·戴许曼;陈柏安 - 新唐科技股份有限公司
  • 2020-04-26 - 2023-07-28 - H01L29/808
  • 本发明提供了一种结型场效应晶体管及其制造方法,适用于高电压操作。其中,结型场效应晶体管包括衬底层,掺杂有第一导电型掺质。基部井区形成在该衬底层上,掺杂有第二导电型掺质。阻挡层位于该衬底层与该基部井区的界面上,掺杂有该第一导电型掺质。栅极区在该基部井区的表面部,掺杂有该第一导电型掺质。源极区与漏极区在该基部井区的该表面部,位于该栅极区的两侧,掺杂有该第二导电型掺质。隔离结构在该基部井区的该表面部,隔离该栅极区。该栅极区包含往该漏极区延伸的一凸出部,该凸出部在该隔离结构下,该凸出部的深度比该栅极区的其他区域浅。
  • 场效应晶体管及其制造方法
  • [发明专利]高压集成电路结构-CN202110134046.2有效
  • 普佳·瑞凡卓·戴许曼;陈柏安 - 新唐科技股份有限公司
  • 2021-02-01 - 2023-05-19 - H01L29/06
  • 本发明提供了一种高压集成电路结构,包括:衬底,具有第一导电类型;外延层设置于衬底上,其中外延层具有与第一导电类型不同的第二导电类型;源极区和漏极区,设置于外延层中,且具有第二导电类型;第一隔离结构和第二隔离结构,设置于外延层上,并分别位于漏极区的相对两侧,其中第一隔离结构位于源极区与漏极区之间;第一导电类型隔离区,位于第二隔离结构下的外延层中,包括:空槽区,设置于第一导电类型隔离区的中心区,且由外延层所构成;以及第一导电类型高压阱区,设置于空槽区的相对两侧。
  • 高压集成电路结构
  • [发明专利]功率元件-CN202110480080.5有效
  • 普佳·瑞凡卓·戴许曼;陈柏安 - 新唐科技股份有限公司
  • 2021-04-30 - 2023-05-05 - H01L29/423
  • 本发明提供了一种功率元件,包括:外延层,具有沟渠,自所述外延层的第一表面向第二表面延伸;隔离场板,位于所述沟渠中;绝缘填充层,位于所述沟渠中,环绕所述隔离场板的下部的侧壁与底部;第一栅极与第二栅极,位于所述沟渠中且位于所述绝缘填充层上;以及介电层,环绕所述第一栅极与所述第二栅极的侧壁,其中所述介电层的下部具有所述介电层的最大宽度,且其中所述隔离场板包括第一部分与第二部分,所述第一部分与所述介电层的所述下部相邻,且其掺杂浓度大于第二部分。
  • 功率元件

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top