专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]光干涉测距传感器-CN202310168387.0在审
  • 早川雅之;木村和哉 - 欧姆龙株式会社
  • 2023-02-24 - 2023-09-12 - G01S17/36
  • 本发明提供能够根据传感器头适当地调整光量的光干涉测距传感器。光干涉测距传感器(100)具备:光源(110),在改变波长的同时投射光;光分叉部(120),将从光源投射的光以向多个光点照射的方式进行分叉;干涉仪(130),针对与多个光点对应地分叉的各个光,根据测定光和参考光生成各干涉光,测定光是通过传感器头向测量对象物(T)照射并被反射的光,参考光是沿至少一部分与该测定光不同的光路前进的光;受光部(140a~140c),接收各干涉光并转换为电信号;处理部(150),根据该电信号算出从传感器头至测量对象物的距离;判别单元(160),根据干涉仪中生成的差拍信号判别传感器头;及光调整单元(170),根据传感器头调整向测量对象物照射的光的光量。
  • 干涉测距传感器
  • [发明专利]光干涉测距传感器-CN202310159937.2在审
  • 长崎裕介;早川雅之;木村和哉 - 欧姆龙株式会社
  • 2023-02-14 - 2023-09-12 - G01S17/08
  • 本发明公开了光干涉测距传感器,在预先将一定程度弱的干涉光排除的基础上进行测距的光干涉测距传感器中,提高相对于测量对象物的倾斜校正的精度。本发明一方式涉及的光干涉测距传感器具备的处理部具备:转换部,将第一电信号转换为表示干涉仪至测量对象物的距离的第一距离值;倾斜值计算部,根据第一距离值计算倾斜值;第一距离值校正部,根据倾斜值对第一距离值进行校正;第二距离值计算部,根据通过第一距离值校正部校正后的第一距离值计算表示光干涉测距传感器至测量对象物的距离的第二距离值,当检测到第一电信号的次数小于第二阈值时,第一距离值校正部将第一距离值根据存储部中顺序比与该第一距离值相对应的倾斜值更靠前的倾斜值进行校正。
  • 干涉测距传感器
  • [发明专利]光干涉测距传感器-CN202310198621.4在审
  • 木村和哉;早川雅之;长崎裕介;儿岛清志朗 - 欧姆龙株式会社
  • 2023-02-27 - 2023-09-12 - G01S17/08
  • 本发明提供能够根据到测量对象物的测量距离设定适当的测量条件的光干涉测距传感器。光干涉测距传感器(100)具备:光源(110),边改变波长边投射光;干涉仪(130),被供给从光源投射的光,并生成基于测定光和参照光的干涉光,测定光是通过传感头(131)照射到测量对象物(T)并被反射的光,参照光是沿至少一部分与测定光不同的光路行进的光;受光部(140),接收来自干涉仪的干涉光并转换为电信号;处理部(150),基于经受光部转换后的电信号,算出从传感头至测量对象物的距离;辨别单元(160),基于以干涉仪生成的差拍信号辨别传感头;以及设定单元(170),设定与通过辨别单元辨别出的传感头对应的测量条件。
  • 干涉测距传感器
  • [发明专利]光干涉测距传感器-CN202310193331.0在审
  • 木村和哉;长崎裕介;早川雅之 - 欧姆龙株式会社
  • 2023-02-28 - 2023-09-12 - G01B9/02002
  • 本发明提供的光干涉测距传感器,通过由受光部以适当的信号强度接收来自各干涉仪的返回光,从而能够高精度地进行测距。光干涉测距传感器(100)具备:光源(110),在改变波长的同时投射光;多个干涉仪(130a~130c),生成基于测定光和参考光的干涉光;多级的光耦合器(120a~120c);受光部(140a~140c),接收各干涉光并转换为电信号;以及处理部(150),根据通过受光部转换的电信号算出到测量对象物为止的距离,向多级的光耦合器(120a~120c)供给的光按照朝向分别对应的干涉仪的第一分支比和朝向该光耦合器的后级的第二分支比分支,这些分支比至少根据该光耦合器的第一分支比及该光耦合器的后级的光耦合器的第一分支比与第二分支比之积进行设定。
  • 干涉测距传感器
  • [发明专利]波长检测装置及共焦点测量装置-CN201980011576.9有效
  • 木村和哉;早川雅之 - 欧姆龙株式会社
  • 2019-03-12 - 2023-07-28 - G01J3/51
  • 本发明提供一种在利用了使用光学滤波片的分光方式的波长检测装置及共焦点测量装置中,能够在将作为测定对象的波长范围维持得宽的同时提高波长检测精度的技术。波长检测装置(10)包括:多个光学滤波片(12a、12b);分割部件(11),将光分割后使其通过多个光学滤波片(12a、12b);多个受光元件(13a、13b),对多个光学滤波片中的各者中通过的光的强度进行检测;运算部(16),根据多个受光元件的输出,导出与多个光学滤波片的透过率相关的物理量,并且基于透过率特性,导出通过多个光学滤波片的光的波长,多个光学滤波片中的各者的透过率特性在作为测定对象的波长范围中的不同波长范围内具有倾斜部分。
  • 波长检测装置焦点测量
  • [发明专利]光干涉测距传感器-CN202210946006.2在审
  • 木村和哉;早川雅之;长崎裕介 - 欧姆龙株式会社
  • 2022-08-08 - 2023-03-17 - G01S7/481
  • 本发明公开了即便在计测对象物包含粗糙面及镜面的情况下也能适当地测距的光干涉测距传感器。光干涉测距传感器具备:波长扫描光源;干涉仪,包括使从波长扫描光源投射的光分支的分支部,针对该分支出的各个光,基于照射于计测对象物并由计测对象物反射的测定光和沿着与该测定光至少一部分不同的光路的参照光而产生各干涉光;受光部,接受各干涉光;处理部,根据镜面模式或粗糙面模式,使检测出的峰值与斑点相对应而计算出至计测对象物为止的距离,针对被分支出的各个光,设定为光路长度差不同,在镜面模式的情况下,处理部将基于与光路长度差为最短的斑点对应的峰值而计算出的距离作为至计测对象物为止的测距结果。
  • 干涉测距传感器
  • [发明专利]光干涉测距传感器-CN202211052119.4在审
  • 早川雅之;木村和哉;长崎裕介 - 欧姆龙株式会社
  • 2022-08-29 - 2023-03-17 - G01S7/481
  • 本发明提供光干涉测距传感器,通过抑制光耦合器间的返回光而提高了计测精度。本发明的一方式所涉及的光干涉测距传感器具备:光源,其一边使波长连续地变化一边投射光;多个干涉仪,其基于通过将供给的光引导至计测对象物而从计测对象物反射的测定光和至少一部分沿着与测定光不同的光路的参照光而生成干涉光;多级光耦合器,其为串联连接的多级光耦合器,且从前级接受来自光源的光并使光分支于多个干涉仪中的对应的干涉仪和后级而供给;抑制机构,其抑制光从多级光耦合器的后级向前级的供给;以及处理部,其基于多个干涉仪生成的多个干涉光,计算至计测对象物为止的距离。
  • 干涉测距传感器
  • [发明专利]光干涉测距传感器-CN202211035321.6在审
  • 木村和哉;早川雅之;长崎裕介 - 欧姆龙株式会社
  • 2022-08-26 - 2023-03-17 - G01S17/08
  • 一种光干涉测距传感器,能够排除对计测对象物的计测产生影响的噪声,并能够高精度地测距。光干涉测距传感器具备波长扫描光源、光耦合器、干涉仪、受光部、处理部,并且具备反射点,该反射点使从波长扫描光源投射而输入至光耦合器的第1端口的光中的被分支至光耦合器的第4端口的光反射。此时,在从光耦合器的第3端口至参照面为止的光路长度为L1、从光耦合器的第4端口至反射点为止的光路长度为L2、从参照面至对计测对象物照射测定光的传感器头的前端为止的光路长度为LH以及计测对象物的计测范围为R的情况下,满足L1‑L2>(LH+R)*2或者L1‑L2<LH*2。
  • 干涉测距传感器
  • [发明专利]光干涉测距传感器-CN202211027257.7在审
  • 长崎裕介;早川雅之;木村和哉;森野久康 - 欧姆龙株式会社
  • 2022-08-25 - 2023-03-17 - G01S7/4913
  • 本发明提供适当地识别各干涉光的峰值并能够高精度地测距的光干涉测距传感器。光干涉测距传感器(100)具备:波长扫描光源(110),其一边使波长连续地变化一边投射光;干涉仪(120),其包括分支部(121),该分支部使从波长扫描光源投射的光以照射于计测对象物中的多个斑点的方式分支,针对该分支出的各个光,基于照射于该计测对象物并由该计测对象物反射的测定光和至少一部分沿着与该测定光不同的光路的参照光而产生各干涉光;受光部(130),其接受各干涉光;以及处理部(140),其使各干涉光中的检测出的峰值与斑点建立对应并计算出至计测对象物为止的距离,针对与多个斑点对应地被分支出的各个光,设定为测定光与参照光之间的光路长度差不同。
  • 干涉测距传感器
  • [发明专利]光干涉测量装置-CN202110178051.3在审
  • 木村和哉;早川雅之 - 欧姆龙株式会社
  • 2021-02-08 - 2021-09-14 - G01B9/02
  • 一种光干涉测量装置,在不导致装置大型化的情况下以低成本提供引导光照射功能。光干涉测量装置具备:第1光源,其输出具有红外区域的波长的测量光;第2光源,其输出具有可见区域的波长的引导光;光纤耦合器,其至少具有输入上述测量光的第1端口、输入上述引导光的第2端口以及输出上述测量光和上述引导光耦合得到的耦合光的第3端口;测量部,其向测量对象照射上述耦合光,接收由上述测量对象反射的返回光;以及处理部,其根据上述返回光和参照光的干涉信号,计算与上述测量对象的距离、速度或振动有关的信息。上述光纤耦合器由截止波长比上述测量光的波长短且比上述引导光的波长长的单模光纤构成。
  • 干涉测量装置
  • [发明专利]光干涉测量装置-CN202110180753.5在审
  • 木村和哉;早川雅之;森野久康;长崎裕介 - 欧姆龙株式会社
  • 2021-02-08 - 2021-09-14 - G01D5/353
  • 提供一种多通道的光干涉测量装置,其不会导致装置大型化且低成本。由第1测量头接收的第1返回光经由第1光路和光纤耦合器被引导到检测器,由第2测量头接收的第2返回光经由第2光路和光纤耦合器被引导到检测器。从光纤耦合器到第1测量头的末端的光路长度D1、从光纤耦合器到第2测量头的末端的光路长度D2、第1测量头的测量范围的最大光路长度R1max、与第1返回光干涉的第1参照光的光路长度S1、与第2返回光干涉的第2参照光的光路长度S2被设定为满足D1+R1max‑S1D2‑S2的关系。
  • 干涉测量装置
  • [发明专利]三维形状测量系统以及测量时间设定方法-CN201910267790.2有效
  • 和澄南;木村和哉;早川雅之 - 欧姆龙株式会社
  • 2019-04-03 - 2021-03-19 - G01B11/00
  • 本发明提供即使探头发生位置偏移也能够高精度地测量被测量对象的三维形状的技术。设定曝光时间(步骤11),多次进行探头的位置测量(步骤12)。计算多个形态的平均次数的位置测量误差(步骤13)。计算测量时间与所计算出的定位误差的对应表(步骤14)。使用所准备的测量时间与手抖误差的对应表,计算设定曝光时间与测量时间(手抖误差+定位误差)的对应表(步骤15)。针对作为设定候补的所有曝光时间来重复步骤11~15,计算测量时间与位置测量误差的对应表(步骤16)。设定可使位置测量误差最小的曝光时间和平均次数(步骤17)。
  • 三维形状测量系统以及时间设定方法

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