专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]含改性多孔二氧化硅的抗反射涂料、制备方法及抗反射膜-CN202010264701.1在审
  • 刘新;刘奕燎;方彬宗 - 广州四面体新材料科技有限公司
  • 2020-04-07 - 2020-06-09 - C09D175/14
  • 本发明公开一种含改性多孔二氧化硅的抗反射涂料、制备方法及抗反射膜,抗反射涂料包括有以下重量份组分:12‑20重量份聚氨酯丙烯酸酯,15‑25重量份活性单体,1‑7重量份氟改性多孔二氧化硅,2‑4.5重量份光引发剂,50‑70重量份有机溶剂。本发明采用氟改性的多孔二氧化硅,减少多孔二氧化硅的团聚,同时也提供了多孔二氧化硅和树脂体系的润湿相容性,并且利用氟元素的表面定向迁移能力,在溶剂挥发产生的气流中,氟改性的多孔二氧化硅可以快速地覆盖在涂层表面,形成一层低折射率层。本发明通过低折射率的氟改性多孔二氧化硅定向覆盖涂层表面,1道精密涂布实现高折射率涂层和低折射率涂层设计,不需要工艺复杂和良率低的多道涂布。
  • 改性多孔二氧化硅反射涂料制备方法

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