专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]研磨组合物-CN200880104039.0无效
  • 新田浩士;松村义之 - 霓达哈斯股份有限公司
  • 2008-08-25 - 2010-11-03 - H01L21/304
  • 本发明的目的在于提供一种可以抑制凹陷和碟形缺陷的发生、且研磨速度更高的研磨组合物。本发明的研磨组合物是适合于金属膜、特别是铜(Cu)膜的研磨组合物,其含有氨、过氧化氢、氨基酸以及阴离子性表面活性剂,剩余部分为水。通过含有它们,特别是在第2阶段的研磨中使用时,能够抑制凹陷和碟形缺陷的发生。
  • 研磨组合
  • [发明专利]研磨组合物-CN200880100365.4无效
  • 松村义之;新田浩士 - 霓达哈斯股份有限公司
  • 2008-07-24 - 2010-08-25 - H01L21/304
  • 本发明的目的在于提供一种可以实现高速的研磨速度,并且能够提高平坦性的研磨组合物。本发明的研磨组合物是适合于金属膜、特别是铜(Cu)膜的研磨组合物,其含有:含有铵基的碱性化合物、具有碳原子数为9~18的烷基的烷基苯磺酸盐以及过氧化氢,剩余部分为水。可以使用氢氧化铵作为碱性化合物,可以使用十二烷基苯磺酸盐等作为烷基苯磺酸盐。
  • 研磨组合
  • [发明专利]研磨组合物-CN200880104179.8无效
  • 松村义之;新田浩士 - 霓达哈斯股份有限公司
  • 2008-08-25 - 2010-08-11 - H01L21/304
  • 本发明的目的在于提供一种可以实现高速的研磨速度,并且能够提高平坦性的研磨组合物。本发明的研磨组合物是适合于金属膜、特别是铜(Cu)膜的研磨组合物,其含有:含有铵基的碱性化合物、烷基萘磺酸盐以及过氧化氢,剩余部分为水。pH的适应范围是8~12。通过含有它们,能够提供一种可以实现高速的研磨速度,并且能够提高平坦性的研磨组合物。
  • 研磨组合

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