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[发明专利]用于处理基板的设备和方法-CN201910665823.9有效
发明人： 徐泰雄;李泰林;严永堤 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2019-07-23 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及用于处理基板的设备和方法。基板处理设备包括：工艺模块，该工艺模块包括多个工艺单元，该多个工艺单元执行包括在基板处理工艺中的多个步骤并且基于用于顺序地放置在工艺单元中的基板的工艺配方对基板执行基板处理工艺；调度器，该调度器控制工艺模块和工艺模块中包括的工艺单元的操作；存储器，该存储器存储基板的传送路径信息；以及选择模块，该选择模块通过向调度器反馈存储在存储器中的传送路径信息的结果来选择要继续执行的工艺单元。该基板处理设备可以还包括测量仪器，该测量仪器测量沿其传送基板的传送路径信息的缺陷值。存储器可以存储由测量仪器根据基板的传送路径信息测量的缺陷值。
用于处理设备方法

[发明专利]用于处理基板的设备和用于处理基板的方法-CN202111271107.6在审
发明人：姜虎信;徐泰雄;赵诚敏 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2021-10-29 - 公布日： 2022-05-03 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：公开了一种基板处理设备，其包括涂覆模块、曝光模块、多个显影模块以及传送单元，所述传送单元在所述模块之间执行基板的传送。所述多个显影模块包括多个曝光后烘烤单元，所述曝光后烘烤单元对在所述曝光模块中被完全执行了曝光过程的基板执行烘烤过程。所述基板处理设备还包括控制器，所述控制器控制由所述传送单元进行的所述基板的传送。当将基板从所述曝光模块传送到所述多个曝光后烘烤单元时，所述控制器执行控制以在所述多个曝光后烘烤单元中选择出现最小延迟时间的曝光后烘烤单元，并将所述基板传送到所选择的曝光后烘烤单元。
用于处理设备方法