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- [发明专利]三氯氢硅(SiHCl3)的制备-CN87100535.2无效
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张崇玖
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张崇玖
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1987-01-24
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1991-03-06
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C01B33/107
- SiHCl3(三氯氢硅)是制备高纯多晶硅的主要原料。以往SiHCl3的合成是采用HCl气体通入到加热的硅粉中来制备,用固定床反应时SiHCl3的产率只有60-70%。用沸腾床反应时可使SiHCl3的产率提高到80-90%,其余主要为SiCl4副产物。由于用SiCl4氢还原制备高纯多晶硅时耗能较多,一般硅材料厂将SiCl4作为废物排出,这除了使硅粉和HCl气体的利用率低外,还严重地污染环境。本发明就是利用反应时排出的废物SiCl4作为原料,再与HCl一起通入到加热的硅粉中,通过调节SiCl4通入量的大小,来控制SiHCl3的收率,直至达到100%。本发明提出的方法简单易行,凡生产硅材料的工厂或其它有SiCl4副产物排出的工厂均可利用。
- 三氯氢硅sihcl3制备
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