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[发明专利]半导体封装及其制造方法-CN202280009620.4在审
发明人：崔太燮;姜云;尹镇镐 -专利权人： LG 伊诺特有限公司
申请日： 2022-01-18 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： H01L23/00 文献下载
摘要：一种半导体封装,包括：印刷电路板，该印刷电路板包括连接部；IC芯片，该IC芯片布置在所述印刷电路板上；焊料部，该焊料部布置在所述IC芯片的下表面上并且联接到所述连接部；粘合层，该粘合层布置在所述焊料部与所述连接部之间；以及底部填充胶，该底部填充胶布置在所述IC芯片与所述印刷电路板之间，其中,所述粘合层包括热固性树脂，并且所述底部填充胶包括热塑性树脂。
半导体封装及其制造方法

[发明专利]用于车辆的通信装置及其控制方法-CN202080091026.5在审
发明人： 尹镇镐;梁承贤;崔太燮 -专利权人： LG伊诺特有限公司
申请日： 2020-12-31 - 公布日： 2022-08-12 - 主分类号： H01Q1/32 文献下载
摘要：公开了根据实施方式的用于车辆的通信装置及其控制方法。用于车辆的通信装置包括：天线单元，该天线单元包括第一天线和多个第二天线；第一开关，该第一开关用于切换到第一天线的第一路径和到多个第二天线中的每一个第二天线的第二路径；第二开关，该第二开关用于将第二路径切换到多个第二天线中的任意一个第二天线；长度调整单元，该长度调整单元连接至到与第二开关连接的一个第二天线的第二路径，并且调整所连接的第二天线的谐振长度；以及通信控制单元，该通信控制单元根据第一天线的状态生成用于连接至多个第二天线中的任意一个第二天线的开关信号。
用于车辆通信装置及其控制方法

[发明专利]一种薄膜图案化的方法-CN201410776113.0有效
发明人：张磊;罗祝义;孟祥明;尹镇镐;郭建强;廖洪林 -专利权人：合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2014-12-15 - 公布日： 2018-06-15 - 主分类号： G03F1/76 文献下载
摘要：本发明实施例提供一种薄膜图案化的方法，涉及显示技术领域，能够解决制作线宽较小的薄膜层图案时，由于掩膜版开口区域较小，使得曝光不足，而引起的成膜缺陷。所述方法包括在基板的表面依次形成薄膜层和光刻胶；通过掩膜版对光刻胶进行第一次曝光，形成第一半固化区，第一半固化区光刻胶的曝光的能量小于光刻胶的感光阈值；通过掩膜版对光刻胶进行第二次曝光，在第一半固化区上形成固化区；其中，固化区的宽度小于第一半固化区的宽度，固化区光刻胶的曝光的能量大于等于光刻胶的感光阈值；将光刻胶进行显影；对未被光刻胶覆盖的薄膜层刻蚀；将固化区的光刻胶剥离。 1
光刻胶半固化固化区掩膜版曝光薄膜图案薄膜层感光薄膜层图案光刻胶剥离成膜缺陷开口区域曝光不足基板刻蚀显影线宽覆盖制作

[发明专利]一种定位缺陷亚像素位置的方法-CN201310682600.6有效
发明人：张力舟;尹镇镐;孟祥明;张磊;张畅;郭建强 -专利权人：合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2013-12-12 - 公布日： 2017-02-15 - 主分类号： G02F1/13 文献下载
摘要：本发明提供一种定位缺陷亚像素位置的方法及定位缺陷亚像素位置的装置，属于显示装置制造技术领域，其可解决现有的缺陷亚像素位置不能准确定位的问题。本发明的定位缺陷亚像素位置的方法，其中，基板包括复数个亚像素，复数个亚像素划分为多个像素周期，每个像素周期包括至少两个亚像素，包括对各像素周期进行对比，确定缺陷亚像素所在的像素周期的位置；对含有缺陷亚像素的像素周期内的各亚像素与其他亚像素进行对比，确定缺陷亚像素的位置。定位缺陷亚像素位置的装置包括比较单元，用于对像素周期进行比较，确定缺陷亚像素所在的像素周期的位置，并对含有缺陷亚像素所在的像素周期内的各亚像素与其他亚像素进行对比，确定缺陷亚像素的位置。
一种定位缺陷像素位置方法

[实用新型]一种用于狭缝喷嘴内外壁一体式清洁的装置-CN201320829060.5有效
发明人：陈中明;尹镇镐;孟祥明;李康;罗祝义;吴利峰;张磊 -专利权人：合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2013-12-13 - 公布日： 2014-05-14 - 主分类号： B05B15/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于狭缝喷嘴内外壁一体式清洁的装置，包括：支撑主体；喷嘴内壁清洁元件及其夹持部；设于支撑主体内的V型喷嘴外壁清洁部；位于V型喷嘴外壁清洁部正下方以供喷嘴内壁清洁元件插入的狭缝通道。清洁狭缝喷嘴时，先将清洁装置贴合到狭缝喷嘴上，V型外壁清洁元件贴紧喷嘴外壁，将喷嘴内壁清洁元件插入狭缝通道进入喷嘴内部后，移动清洁装置对狭缝喷嘴内壁及外壁同时进行清洁。本实用新型将喷嘴内壁清洁元件和V型外壁清洁元件合成为一体，可同时对狭缝喷嘴的内外壁清洁，既省时且方便。并且避免手部接触到喷嘴，同时可以对喷嘴外壁也进行清洁。清洁更方便省时，不会造成二次污染，清洁效果更好。
一种用于狭缝喷嘴外壁体式清洁装置

[发明专利]一种彩膜黑矩阵曝光机及其调节方法-CN201310683800.3有效
发明人：张力舟;尹镇镐;孟祥明;张磊;张畅;郭建强 -专利权人：合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2013-12-12 - 公布日： 2014-04-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种彩膜黑矩阵曝光机及其调节方法，属于液晶显示器制造技术领域，其可解决现有的机台上的反射平面镜条的平坦度调节花费时间较长且调节精度较低的问题。本发明的曝光机包括机台、反射平面镜条和激光干涉计，机台用于承载待曝光基板，激光干涉计包括参考光平面镜，参考光平面镜设于曝光区的固定主体横梁上，反射平面镜条设于机台上，反射平面镜条和参考光平面镜用于对激光干涉计发出的激光光束进行接收和反射，激光干涉计用于根据接收的反射激光计算机台的实际移动距离，曝光机还包括反射平面镜条平坦度的自动校准装置，用于校准反射平面镜条的平坦度。调节方法包括应用上述自动校准装置校准反射平面镜条的平坦度。
一种彩膜黑矩阵曝光及其调节方法

[实用新型]一种基板异物检测装置及曝光机-CN201220669395.0有效
发明人：吴琪;张力舟;尹镇镐;孟祥明;张磊 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
申请日： 2012-12-06 - 公布日： 2013-05-22 - 主分类号： G01B21/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及基板检测领域，特别涉及一种基板异物检测装置及曝光机，用于快速地、准确地检测基板上异物高度是否异常，进而减少基板上异物划伤掩模板的风险。本实用新型公开了一种基板异物检测装置，包括：平行设置的第一导轨和第二导轨；滑动装配在第一导轨上的信号发射器；滑动装配在第二导轨上且与信号发射器位置相对的信号接收器；传动连接所述信号发射器的第一马达；传动连接信号接收器的第二马达；信号连接信号发射器、信号接收器、第一马达和第二马达的控制装置，当信号接收器没有接收到扫描信号时，控制装置发出基板上异物高度异常的警报信息。
一种异物检测装置曝光

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