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- [发明专利]光学构件及其制造方法-CN201710167451.8有效
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寺本洋二
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佳能株式会社
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2017-03-21
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2019-12-20
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G02B3/00
- 公开了光学构件及其制造方法。该光学构件包括光透射基板,该光透射基板具有包括光学有效区域和光学无效区域的表面,光学有效区域和光学无效区域彼此相邻,光学有效区域和光学无效区域在其边界上形成不小于45度且不大于90度的角度。光学构件具有纹理化结构,该纹理化结构具有不大于使用波长的面内尺寸,该结构连续形成在沿着光学有效区域和光学无效区域的边界延伸的边界区域中,并且遮光膜形成在基板的表面上的光学无效区域的包括至少边界区域在内的区域中。
- 光学构件及其制造方法
- [发明专利]电子发射元件、电子源和图像显示装置的制造方法-CN200410001835.5无效
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寺本洋二
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佳能株式会社
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2004-01-14
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2005-02-02
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H01J9/02
- 提供制造工艺是容易的、电子束直径的控制性是良好的电子发射元件的制造方法。上述电子发射元件的制造方法具有下述工序:(A)在基板上配置由覆盖上述基板的第1导电层、覆盖上述第1导电层并包含构成电子发射体的材料的至少一部分的层、覆盖上述包含构成电子发射体的材料的至少一部分的层的保护层、覆盖上述保护层的第2导电层、覆盖上述第2导电层的绝缘层和覆盖上述绝缘层的第3导电层构成的构件的工序;(B)利用干法刻蚀形成从上述第3导电层的表面延伸到上述保护层的开口的工序;以及(C)通过经上述开口对上述保护层进行湿法刻蚀,使上述包含构成电子发射体的材料的至少一部分的层的一部分在上述开口部内露出的工序。
- 电子发射元件图像显示装置制造方法
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