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[发明专利]沸石分离膜构件、其制造方法、混合流体的分离方法以及混合流体分离装置-CN201080012623.0有效
发明人：河合应明;富田俊弘;森伸彦;佐藤绫 -专利权人：日本碍子株式会社
申请日： 2010-02-23 - 公布日： 2012-02-08 - 主分类号： B01D71/02 文献下载
摘要：提供沸石分离膜构件、其制造方法、混合流体的分离方法、以及混合流体分离装置，该沸石分离膜构件具有大于沸石晶体的固有细孔、控制在适当范围的间隙或细孔，对于吸附性差较小的成分或分子径小于该细孔的成分，可兼备高透过性和高分离性。沸石分离膜构件包括沸石膜，该沸石分离膜构件在室温下的N2气体的透过速度为1.0×10-6mol·m-2·s-1·Pa-1以上，且室温下的1，3，5-三甲苯/N2的透过速度比为0.17以上，且不会出现由于罗丹明B的渗透引起的染色。
分离构件制造方法混合流体以及装置

[发明专利]DDR型沸石膜结构体的制造方法-CN200910253517.0无效
发明人：内川哲哉;谷岛健二;野中久义;富田俊弘 -专利权人：日本碍子株式会社
申请日： 2009-12-08 - 公布日： 2010-06-23 - 主分类号： B01D71/02 文献下载
摘要：本发明提供一种DDR型沸石膜结构体的制造方法，可减少DDR型沸石膜开裂的产生、减少DDR型沸石膜内1-金刚烷胺残存。该DDR型沸石膜结构体的制造方法，包括：在含有1-金刚烷胺、二氧化硅(SiO2)和水的原料溶液中，使在表面附着有DDR型沸石膜种晶的多孔质基体浸渍来进行DDR型沸石的水热合成，由该水热合成在多孔质基体表面形成含有1-金刚烷胺的DDR型沸石膜，来制作DDR型沸石膜结构体的母体的膜形成工序，和通过在400℃以上550℃以下加热母体，燃烧除去含在DDR型沸石膜内的1-金刚烷胺的燃烧工序。
ddr 型沸石膜结构制造方法

[发明专利]分离膜复合体和分离膜复合体的制造方法-CN200880021720.9有效
发明人：市川明昌;野中久义;富田俊弘 -专利权人：日本碍子株式会社
申请日： 2008-06-27 - 公布日： 2010-03-31 - 主分类号： B01D69/12 文献下载
摘要：本发明提供一种分离膜复合体和分离膜复合体的制造方法。在多孔质体(61)(表面层(64))上直接形成碳膜(66)，且中间层(63)的厚度为10～100μm的分离膜复合体(1)，能够作为比以往提高了通量和选择性的过滤膜而利用。
分离复合体制造方法

[发明专利]陶瓷过滤器-CN200780001018.1有效
发明人：市川明昌;富田俊弘 -专利权人：日本碍子株式会社
申请日： 2007-07-06 - 公布日： 2009-01-21 - 主分类号： B01D71/02 文献下载
摘要：本发明提供形成在多孔质基材上、具有良好的透过量以及选择性的陶瓷过滤器。陶瓷过滤器具有：在平均细孔径为1～30μm的氧化铝多孔质基材(2)上具有平均细孔径为0.1～3μm的第一表面致密层(3)；在第一表面致密层(3)上具有平均细孔径为0.01～0.5μm的第二表面致密层(4)；在第二表面致密层(4)上具有由二氧化钛溶胶所形成的平均细孔径为0.3～20nm的第三表面致密层(5)。并且，在第三表面致密层(5)上，形成作为分子筛碳素膜的碳素膜层(6)。
陶瓷过滤器

[发明专利]DDR型沸石膜复合物及其制造方法-CN200810087032.4有效
发明人：中山邦雄;铃木宪次;吉田学;谷岛健二;富田俊弘 -专利权人：日本碍子株式会社
申请日： 2002-09-17 - 公布日： 2008-11-12 - 主分类号： B01D71/02 文献下载
摘要：本发明提供DDR型沸石膜复合物，其特征在于：所述DDR型沸石膜复合物具备多孔基质和沉积于基质微孔内的DDR型沸石层，该DDR型沸石层的厚度为所述多孔基质的平均微孔径的5－50倍；所述DDR型沸石层由DDR型沸石构成，沉积于所述多孔基质的至少一侧表面的微孔内。
ddr 型沸石膜复合物及其制造方法

[发明专利]碳膜叠层体及其制造方法以及VOC除去装置-CN200580007611.8有效
发明人：海川和之;富田俊弘;吉田学;小畑政道 -专利权人：日本碍子株式会社
申请日： 2005-03-11 - 公布日： 2007-05-02 - 主分类号： B01D69/12 文献下载
摘要：一种碳膜叠层体(1)，其具有由大量颗粒构成的多孔性基材(6)以及设置在多孔性基材(6)表面上的碳膜(2)，其中多孔性基材(6)具有与碳膜(2)相接且由平均粒径为0.01～0.11μm的颗粒(3a)构成的表面层(3)以及由平均粒径与构成表面层(3)的颗粒(3a)的平均粒径不同的颗粒构成的多孔体(5)。本发明提供了一种抑制碳膜叠层体(1)中龟裂和针孔的产生并适于薄膜化的碳膜叠层体。
碳膜叠层体及其制造方法以及 voc 除去装置

[发明专利]气体分离体及其制造方法-CN200480031568.4有效
发明人：铃木宪次;谷岛健二;中山邦雄;富田俊弘 -专利权人：日本碍子株式会社
申请日： 2004-08-26 - 公布日： 2006-11-29 - 主分类号： B01D71/02 文献下载
摘要：本发明的气体分离体的结构是，设有由第1陶瓷构成的多孔底材和设在其表面上的含有沸石的气体分离层，该气体分离层除沸石外还含有由具有满足规定的关系的线热膨胀系数的第2陶瓷构成的热膨胀率调整材，可以减小其与多孔底材之间的热膨胀率差。本发明的气体分离体特别适用于从天然气等的混合气体中选择性地分离二氧化碳(CO₂)等场合。
气体分离及其制造方法

[发明专利]DDR型沸石膜以及DDR型沸石膜复合物及其制造方法-CN200610005958.5有效
发明人：中山邦雄;铃木宪次;吉田学;谷岛健二;富田俊弘 -专利权人：日本碍子株式会社
申请日： 2002-09-17 - 公布日： 2006-08-30 - 主分类号： B01D71/02 文献下载
摘要：本发明提供DDR型沸石膜，其特征在于：在基质上成膜，膜的主要成分为二氧化硅，同时选自二氧化碳(CO₂)、氢(H₂)、氧(O₂)、氮(N₂)、甲烷(CH₄)、正丁烷(n－C₄H₁₀)、异丁烷(i－C₄H₁₀)、六氟化硫(SF₆)、乙烷(C₂H₆)、乙烯(C₂H₄)、丙烷(C₃H₈)、丙烯(C₃H₆)、一氧化碳(CO)以及一氧化氮(NO)的至少2种气体分别在室温和100℃的单一成分气体透过率在上述至少2种气体间彼此不同。
ddr 型沸石膜以及复合物及其制造方法

[发明专利]沸石成型体的制备方法和沸石层压复合体的制备方法-CN03824091.2有效
发明人：矢吹美由纪;铃木宪次;中村真二;富田俊弘 -专利权人：日本碍子株式会社
申请日： 2003-08-15 - 公布日： 2005-10-26 - 主分类号： C01B37/02 文献下载
摘要：本发明为沸石成型体的制备方法，其特征在于：在硅溶胶中添加氢氧化四丙铵(TPAOH)溶液和溴化四丙铵(TPABr)，将所得制备液于密闭容器中在不使所述制备液中发生结晶和/或沉淀的条件下进行加热处理，将加热处理后的制备液进行干燥，并将所得干燥凝胶进行成型，将成型后的干燥凝胶在水蒸气中进行结晶处理。本发明可有效制备沸石成型体，所制得的沸石成型体可在其上形成并保持沸石膜而不发生龟裂，同时在用作分子筛膜等气体分离膜或浸透蒸发膜时，能满足减少压力损失和维持或提高机械强度的要求。
成型制备方法层压复合体

[发明专利]沸石叠层复合体以及使用该沸石叠层复合体的沸石膜式反应器-CN02822996.7无效
发明人：森伸彦;富田俊弘;酒井均 -专利权人：日本碍子株式会社
申请日： 2002-09-12 - 公布日： 2005-03-02 - 主分类号： B01J19/00 文献下载
摘要：本发明的沸石叠层复合体的特征在于：其由分离膜和多孔基体构成，所述分离膜由沸石构成，所述多孔基体由沸石构成并且具有催化剂功能，在该多孔基体上形成该分离膜，因此，降低了压力损失，即使在高温条件下，仍难以在分离膜上产生裂纹等缺陷。
沸石叠层复合体以及使用沸石膜式反应器

[发明专利]DDR 型沸石膜的制造方法、DDR型沸石膜以及 DDR 型沸石膜复合物及其制造方法-CN02822549.X有效
发明人：中山邦雄;铃木宪次;吉田学;谷岛健二;富田俊弘 -专利权人：日本碍子株式会社
申请日： 2002-09-17 - 公布日： 2005-02-23 - 主分类号： B01D71/02 文献下载
摘要：本发明提供DDR型沸石膜，其特征在于：在基质上成膜，膜的主要成分为二氧化硅，同时选自二氧化碳(CO₂)、氢(H₂)、氧(O₂)、氮(N₂)、甲烷(CH₄)、正丁烷(n－C₄H₁₀)、异丁烷(i－C₄H₁₀)、六氟化硫(SF₆)、乙烷(C₂H₆)、乙烯(C₂H₄)、丙烷(C₃H₈)、丙烯(C₃H₆)、一氧化碳(CO)以及一氧化氮(NO)的至少2种气体分别在室温和100℃的单一成分气体透过率在上述至少2种气体间彼此不同。
ddr 型沸石膜制造方法以及复合物及其

[发明专利]沸石成形体、沸石层叠中间体、沸石层叠复合体及其制法-CN01801151.9无效
发明人： 富田俊弘;中村真二 -专利权人：日本碍子株式会社
申请日： 2001-03-01 - 公布日： 2002-10-02 - 主分类号： C01B39/04 文献下载
摘要：一种用沸石制的多孔沸石成形体,其特征在于,该多孔沸石成形体是用全部结晶的沸石或者仍在结晶中的沸石制成的,并且是由四丙基铵离子(TPA)和硅溶胶以0.015～0.08的摩尔混合比(TPA/SiO2)组成的;一种沸石成形体,它的平均颗粒直径为1.0μm或其以上,它的抗弯曲强度为1.5MPa或其以上,以及当多孔沸石成形体的厚度为1.8mm时、在氦气穿透流率为10ml/cm2·min的条件下,其送气面和透过面之间的压力差为1.0大气压或其以下;以及一种沸石成形体,它具有70%其其以上的完善部分面积,在完善部分中,在观察成形体裂纹表面的显微结构时,在全部裂纹表面面积中,借助于构成成形体的颗粒之间的晶粒边界裂纹可以清晰地观察到各个颗粒。
成形层叠中间体复合体及其制法

[发明专利]分子筛复合膜及其制备方法-CN99814350.2无效
发明人： 富田俊弘;中山邦雄 -专利权人：日本碍子株式会社
申请日： 1999-10-08 - 公布日： 2002-01-16 - 主分类号： C01B39/02 文献下载
摘要：一种由具有与欲在其上形成分子筛膜相同或相似的组成且含有与被涂敷的分子筛含有的相同模板剂的分子筛所制成的多孔基质。将该被涂敷的基质焙烧以同时除去该分子筛涂层和该多孔基质中的模板剂。由此形成由该多孔基质和在其上形成的分子筛膜组成的分子筛复合膜。由于该分子筛膜已被调整,以表现出与该多孔基质几乎相同的热膨胀行为,因此该分子筛膜不产生裂缝。
分子筛复合及其制备方法

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