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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]用于处理MEMS晶圆的工艺-CN202080040917.8有效
发明人：尼古拉斯·阿纳尔;特洛伊·帕西奥拉·奎波;安格斯·诺斯 -专利权人：马姆杰特科技有限公司
申请日： 2020-05-11 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： B41J2/16 文献下载
摘要：处理MEMS晶圆的方法包括以下步骤：(i)将第一载体衬底附接到MEMS晶圆的第一侧，第一载体衬底经由第一晶圆键合带和无硅剥离带附接，剥离带接触MEMS晶圆的第一侧；(ii)对MEMS晶圆的相反的第二侧执行晶圆处理步骤；(iii)通过暴露于能量源从MEMS晶圆的第一侧释放第一载体衬底，该能量源选择性地从MEMS晶圆的第一侧释放晶圆键合带；以及(iv)将剥离带从MEMS晶圆的第一侧剥离。
用于处理 mems 工艺

[发明专利]用于形成喷墨喷嘴腔室的方法-CN201880072892.2有效
发明人： 安格斯·诺斯;马修·沃克 -专利权人：马姆杰特科技有限公司
申请日： 2018-11-14 - 公布日： 2022-06-14 - 主分类号： B41J2/16 文献下载
摘要：提供一种用于在晶圆衬底的前侧表面上限定的孔上方形成喷墨腔室的方法。所述方法包括以下步骤：(i)将干膜光致抗蚀剂层叠层到所述前侧表面上；(ii)在所述干膜光致抗蚀剂中限定与腔室壁对应的壁开口；(iii)将腔室材料沉积到所述壁开口中和所述干膜光致抗蚀剂上方，以便形成腔室壁和腔室顶部；(iv)在所述腔室顶部中限定喷嘴开口；以及(v)移除所述干膜光致抗蚀剂，以在所述孔上方形成所述喷墨腔室。
用于形成喷墨喷嘴方法

[发明专利]用于填充蚀刻孔的方法-CN201680010417.3有效
发明人： 安格斯·诺斯;罗南·奥莱利;格雷戈里·麦卡沃伊 -专利权人：马姆杰特科技有限公司
申请日： 2016-02-03 - 公布日： 2019-04-26 - 主分类号： B41J2/16 文献下载
摘要：一种用于填充限定在晶片衬底的前侧表面中的一个或多个蚀刻孔的方法。所述方法包括以下步骤：(i)将热塑性第一聚合物层沉积到所述前侧表面上和每个孔中；(ii)回流所述第一聚合物；(iii)将所述晶片衬底暴露于受控的氧化等离子体；(iv)任选地重复步骤(i)至(iii)；(v)沉积可光成像的第二聚合物层；(vi)使用曝光和显影从这些孔的外周外侧的区域选择性地去除所述第二聚合物；以及(vii)平坦化所述前侧表面以提供用包含彼此不同的所述第一和第二聚合物的堵塞物填充的孔。每个堵塞物具有与所述前侧表面共面的相应上表面。
用于填充蚀刻方法

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共 3 条

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