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[发明专利]处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法-CN201811250812.6有效
发明人：岩畑翔太;樋口鲇美;藤田惠理;藤谷佳礼;真野雅子;竹松佑介;奥谷洋介 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-10-25 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法。处理液供给装置包括：供给配管，其输送贮存处理液的处理液箱内的处理液，将从处理液箱输送的处理液供给至处理单元；返回配管，其与供给配管分支连接，使供给配管内的处理液返回处理液箱；第一加热单元，其对在供给配管中设定于比连接有返回配管的分支位置靠上游侧的上游侧被加热部分内的处理液进行加热；第二加热单元，其对在供给配管中设定于比分支位置靠下游侧的下游侧被加热部分内的处理液进行加热；冷却单元，其对设定于返回配管的被冷却部分内的处理液进行冷却；以及第一过滤器，其在比上游侧被加热部分靠上游侧夹装于供给配管，对处理液中的颗粒进行去除。
处理供给装置以及方法

[发明专利]衬底处理装置-CN201780057738.3有效
发明人：铃木达大;德利宪太郎;西村高志;结城嘉晓;玉置康人;宫路信行;平下友美;内田博章;奥谷洋介 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-06-08 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供抑制衬底的污染的技术。衬底处理装置具备：衬底保持部，其水平地保持衬底；处理液供给部，其向被保持于衬底保持部的衬底供给处理液；和受液部，其围绕衬底保持部的周围，并接收从衬底飞散的处理液。另外，受液部的内周面具有在被保持于衬底保持部的衬底侧露出的多个槽，多个槽各自的延伸方向包含铅垂方向的分量。因此，处理液的液滴易于在槽内合流并因自重而落下。
衬底处理装置

[发明专利]基板处理装置-CN201810077962.5有效
发明人： 奥谷洋介 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-01-26 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置，具备：第一供给配管，从第一分支部向第一药液喷嘴引导处理液；第一返回配管，从第一分支部向容器引导处理液；第一压力损失规定单元，以使第一供给配管内的压力损失大于第一返回配管内的压力损失的方式规定压力损失；以及第一喷出阀，在第一喷出执行状态和第一喷出停止状态之间进行切换，所述第一喷出执行状态是使第一返回配管内的压力损失大于第一供给配管内的压力损失，以使处理液从共用配管向第一供给配管流动的状态，所述第一喷出停止状态是使第一返回配管内的压力损失小于第一供给配管内的压力损失，以使处理液从共用配管向第一返回配管流动的状态。
处理装置