专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]用于光学器件的载体布置-CN202310349897.8在审
  • 沃尔夫冈·泽希;达维德·阿尔马什;曼努埃尔·阿斯克万登 - 奥普托图尼瑞士股份公司
  • 2023-04-04 - 2023-10-17 - G02B7/00
  • 用于光学器件的载体布置,包括第一载体和第二载体,其围绕第一轴线相对彼此可旋转,第一轴线由第一轴承装置限定,其中第一轴承装置布置在第一载体和第二载体之间,包括至少一个销、优选两个销,具有纵轴,其中销布置成其纵轴基本平行于第一轴线,其中销的第一部分附接到第一载体上,销的第二部分可移动地布置在第二载体的缺口中、或其中销的第一部分附接到第二载体,销的第二部分可移动地布置在第一载体的缺口中,缺口包括至少两个支撑面,其设计为使得销的第二部分在两个圆周部分被缺口支撑,载体布置进一步包括预加载元件,其设计用于对销施加预紧力。
  • 用于光学器件载体布置
  • [发明专利]用于光学元件的载体设备-CN202310182003.0在审
  • 斯蒂芬·斯莫尔卡;曼努埃尔·阿斯克万登;沃尔夫冈·泽希 - 奥普托图尼瑞士股份公司
  • 2023-03-01 - 2023-09-05 - G02B7/00
  • 本发明涉及一种用于承载光学元件的载体设备,包括:限定平面的平台,基座,弹簧结构,将平台连接至基座,以便实现平台相对于基座绕至少第一轴线的倾斜,第一轴线平行于所述平面延伸,第一磁体和第一线圈,其中第一磁体连接至平台且第一线圈连接至基座,或者其中第一磁体连接至基座且第一线圈连接至平台,并且其中第一磁体平行于所述平面进行磁化,其中第一线圈包括面对第一磁体的第一线圈段,使得流经第一线圈段的电流产生沿相对于所述平面在88°至92°范围内的角度的方向的洛伦兹力,使得引致平台的倾斜,并且其中平台、基座、第一磁体和第一线圈段布置在平行于所述平面延伸的共同延伸平面中。
  • 用于光学元件载体设备
  • [发明专利]光学器件及用于光学器件的调试器-CN202211573534.4在审
  • 曼努埃尔·阿斯克万登 - 奥普托图尼瑞士股份公司
  • 2022-12-08 - 2023-06-13 - G02B3/14
  • 教导了一种光学器件,其包括包围内部空间(3)的容器(2),其中内部空间(3)填充有透明液体(4),并且容器(2)包括透明底部(5)和面向所述底部(5)、透明且可弹性变形的膜(6),使得液体(4)布置在膜(6)与底部(5)之间,圆周透镜成型元件(10)连接至膜(6),使得透镜成型元件(10)的圆周边缘限定膜(6)的中心区域(8),使得光通过中心区域(8)和底部(5)穿过容器(2),其中透镜成型元件(10)可变形并包括多个致动点(11),其中在每个致动点(11),透镜成型元件(10)相对于透明底部(5)通过支承装置(12)可移动地安装,并且至少一个致动点(11)相对于透明底部(5)可位移。
  • 光学器件用于调试
  • [发明专利]包括被动温度补偿的光学设备-CN202080008431.6有效
  • 曼纽尔·阿施万登;罗马·帕特谢德;斯蒂芬·斯莫尔卡;克里斯多夫·兰宁 - 奥普托图尼瑞士股份公司
  • 2020-01-08 - 2023-05-26 - G02B3/14
  • 一种光学设备(1),包括:第一折射元件(10),其被配置为折射入射光(L),其中所述第一折射元件(10)包括第一折射率(n1(T))和用于接收所述入射光的波前(W)的第一表面S1(T);第二折射元件(11),其被配置为折射来自所述第一折射元件(10)的光,其中所述第二折射元件(11)被布置为与所述第一折射元件(10)相邻,使得在所述第一折射元件(10)和所述第二折射元件(11)之间形成第二表面(S2(T)),光能够经由所述第二表面(S2(T))从所述第一折射元件(10)传递到所述第二折射元件(11),并且其中所述第二折射元件(11)包括第二折射率(n2(T))和第三表面(S3(T)),所述第三表面(S3(T))用于透射来自所述第一折射元件(10)并穿过所述第二折射元件(11)的光,以及其中,所述折射率(n1(T)、n2(T))和所述表面(S1(T)、S2(T)、S3(T))的形状被调整为使得当所述光学设备的温度(T)位于预定义温度范围内时,经透射的光的波前(W')的形状与所述光学设备的所述温度无关。
  • 包括被动温度补偿光学设备

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