专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]LDI光机系统及其遮光罩-CN201621272724.2有效
  • 王维娟 - 天津津芯微电子科技有限公司
  • 2016-11-25 - 2017-06-30 - G03F7/20
  • 本实用新型提供了一种LDI光机系统及其遮光罩,涉及光刻直写曝光机及投影显示的技术领域,其中,一种LDI光机系统遮光罩,包括第一腔体,第一腔体固设于聚焦组件安装底板之上,聚焦组件安装底板开设有通光孔,第一腔体通过通光孔连通外部,且第一腔体的一对侧壁开设有固定孔,并通过固定孔与大理石龙门固定,第一腔体至少开设有一个散热孔,散热孔平行且高于固定孔;第二腔体,第二腔体与第一腔体连通,并位于第一腔体中固定孔所在侧壁的邻侧壁,且第二腔体的一侧壁设置有若干激光器接线插板。解决了现有技术的LDI光机系统仅能实现部分避光不能有效防尘的技术问题,实现了LDI光机系统的有效避光和防尘。
  • ldi系统及其遮光
  • [实用新型]防尘装置、物镜及LDI光刻机防尘镜-CN201621281514.X有效
  • 刘宝金 - 天津津芯微电子科技有限公司
  • 2016-11-25 - 2017-06-30 - G03F7/20
  • 本实用新型提供了一种防尘装置、物镜及LDI光刻机防尘镜,涉及激光直接成像技术领域,包括成像防尘圈和防尘物镜,防尘物镜分为物镜防尘圈和防尘装置,防尘装置的防尘圈与物镜防尘圈连接。防尘装置包括防尘圈、防尘片和密封压圈,防尘片和密封压圈均装配在防尘圈的内部,密封压圈位于防尘圈内部的底层,防尘片位于密封压圈的上层。该技术方案解决了传统光刻机镜头存在的清洁过程繁琐,清洁后恢复防尘片困难的问题,从而简化了光刻机的清洁流程,节省了技术人员清洁后恢复防尘片的时间,从而提高了光刻机的生产效率。
  • 防尘装置物镜ldi光刻
  • [实用新型]防尘镜头、物镜及LDI光刻机防尘镜-CN201621282432.7有效
  • 姜浩斌 - 天津津芯微电子科技有限公司
  • 2016-11-25 - 2017-06-30 - G03F7/20
  • 本实用新型提供了一种防尘镜头、物镜及LDI光刻机防尘镜,涉及激光直接成像技术领域,包括成像镜筒和防尘物镜,防尘物镜分为物镜镜筒和防尘镜头,防尘镜头的镜筒与物镜镜筒连接。防尘镜头包括镜筒、镜片和密封圈,镜片和密封圈均装配在镜筒的内部,密封圈位于镜筒内部的底层,镜片位于密封圈的上层。该技术方案解决了传统光刻机镜头存在的清洁过程繁琐,清洁后恢复镜片困难的问题,从而简化了光刻机的清洁流程,节省了技术人员清洁后恢复镜片的时间,从而提高了光刻机的生产效率。
  • 防尘镜头物镜ldi光刻
  • [实用新型]微调系统以及空间光调制器微调系统-CN201621282433.1有效
  • 曹宁飞 - 天津津芯微电子科技有限公司
  • 2016-11-25 - 2017-06-30 - G03F7/20
  • 本实用新型提供了一种微调系统以及空间光调制器微调系统,涉及光刻技术领域,包括直线滑台装置、测角仪滑台装置与微调设备,直线滑台装置根据沿纵轴方向的运行幅度调节微调设备的位置,测角仪滑台装置根据相对于纵轴方向垂直的水平面,通过沿纵轴转动角度调节微调设备的位置;一种空间光调制器微调系统,包括直线滑台装置、测角仪滑台装置与空间光调制器,直线滑台装置根据沿纵轴方向的运行幅度调节空间光调制器的位置,测角仪滑台装置根据相对于纵轴方向垂直的水平面,通过沿纵轴转动角度调节空间光调制器的位置。能够使空间光调制器安装和设备的调试方便、简单,降低机加工的精度要求,减少机加工件费用。
  • 微调系统以及空间调制器
  • [实用新型]光刻机环境监测系统及其远程监控系统-CN201621282435.0有效
  • 付印凯 - 天津津芯微电子科技有限公司
  • 2016-11-25 - 2017-06-30 - G03F7/20
  • 本实用新型提供了一种光刻机环境监测系统及其远程监控系统,属于光刻机技术领域。本实用新型公开的一种光刻机环境监测系统,包括光源模块、聚焦模块、数字微镜模块、平台模块,以及信号采集模块、显示模块和环境模块,其中,光源模块、聚焦模块、数字微镜模块、平台模块分别环境模块相连接,环境模块与信号采集模块相连接,信号采集模块与显示模块相连接。通过环境模块直接采集存储的各模块的环境参数,由信号采集模块处理环境参数,显示在显示模块上,是用户可以直观的监测设备的运行状态,实现实时动态的监测光刻机各部件的运行状态,保证设备的运行和及时维修。
  • 光刻环境监测系统及其远程监控
  • [实用新型]定位系统以及曝光定位系统-CN201621282434.6有效
  • 张秀颖 - 天津津芯微电子科技有限公司
  • 2016-11-25 - 2017-06-30 - G03F9/00
  • 本实用新型提供了一种定位系统以及曝光定位系统,涉及曝光技术领域,包括横向滑道机构、纵向滑道机构、转动滑道机构;横向滑道机构通过沿横向的运行幅度,调节与固定定位目的物的位置;纵向滑道机构通过沿纵向的运行幅度,调节与固定所述定位目的物的位置;转动滑道机构通过转动角度,调节与固定所述定位目的物的位置。解决了现有技术中板面孔位置整体相对板子平移旋转导致的对位失败问题,能够在曝光时提高放板的准度与精度,使对位的准确率与成功率提高,且从硬件上改善上料放板易放偏的问题,无需软件编写。
  • 定位系统以及曝光
  • [发明专利]主动对焦机构、光路系统及激光直写光刻机-CN201611051328.1在审
  • 莫阳 - 天津津芯微电子科技有限公司
  • 2016-11-25 - 2017-05-31 - G03F7/20
  • 本发明提供了一种主动对焦机构、光路系统及激光直写光刻机,涉及光刻技术领域,本发明提供的一种主动对焦机构,包括分光模块、自动对焦模块、Z轴模块、XY轴载物平台,分光模块对自动对焦模块发出的光束进行分光,使光束通过Z轴模块投射至XY轴载物平台,XY轴载物平台用于放置曝光基底;XY轴载物平台包括位于水平方向的二维自由度,能够实现XY轴联动;Z轴模块具有与水平方向垂直的一维自由度,能够在Z轴方向上自由移动,实现对焦调节。通过主动对焦机构,可以解决曝光基底的翘曲和不平整的问题,并且可以解决不同厚度的基板的曝光问题。相对传统的对焦方式,本发明具有对焦时间短,精度高的优点,能够有效的提高了光刻机的产能和光刻质量。
  • 主动对焦机构系统激光光刻
  • [发明专利]基于FPGA图像压缩方法、装置及传输系统-CN201611061206.0在审
  • 施楠 - 天津津芯微电子科技有限公司
  • 2016-11-25 - 2017-03-15 - H04N19/42
  • 本发明提供了基于FPGA图像压缩方法、装置及传输系统,涉及图像处理的技术领域,其中,一种基于FPGA图像压缩方法,包括以下步骤接收图像数据,并将所述图像数据存储于空闲分区,同时将所述空闲分区标记为缓存分区;当所述缓存分区内的所述图像数据达到设定阈值时,将所述缓存分区标记为编码分区;对所述编码分区内的所述图像数据进行编码压缩以生成图像压缩数据,并将所述编码分区标记为待发送分区;根据发送指令将所述待发送分区内的所述图像压缩数据进行发送,解决现有图像数据不能实时无损传输的技术问题,实现了图像数据实时无损传输的技术效果。
  • 基于fpga图像压缩方法装置传输系统
  • [发明专利]LDI曝光设备以及系统-CN201611061210.7在审
  • 祝锁 - 天津津芯微电子科技有限公司
  • 2016-11-25 - 2017-01-25 - G03F7/20
  • 本发明提供了一种LDI曝光设备以及系统,涉及印制电路板图形转移技术领域,包括曝光台、真空抽滤装置与密闭装置;曝光台用于承载真空抽滤装置与密闭装置;真空抽滤装置用于抽去密闭装置内部的空气以达到预定真空度;密闭装置用于隔绝空气,保证密闭装置内的曝光目的物在曝光过程中处于真空状态;密闭装置由透光材料制成。通过制造真空的环境,使曝光目的物在曝光过程中处于真空的状态,提高了油墨中自由基的利用率,使自由基充分的引发油墨产生聚合反应,实现有效的改善油墨表面的聚合程度,达到明显提高油墨表面的光泽度,且设计结构简单,减少了曝光设备的造价。
  • ldi曝光设备以及系统
  • [实用新型]具有自动对焦功能的晶圆检测设备-CN201521042389.2有效
  • 莫阳;刘涛;王喜宝 - 天津津芯微电子科技有限公司
  • 2015-12-15 - 2016-09-07 - G01N21/956
  • 本实用新型涉及自动对焦晶圆检测设备,此设备中,在显微镜物镜和管镜中间安装分光棱镜,自动对焦光源从外围射出激光,经分光棱镜反射通过物镜聚焦在晶圆上,晶圆的反射光线返回到物镜后,分为两部分,一部分光束经分光棱镜和管镜成像在相机,另一部分光经分光棱镜反射到自动对焦探测器,通过参数设定及内部机构换算,精密移动平台根据结果上下移动,实现自动对焦,同时在相机中,会得到清晰的图像。本实用新型通过自动对焦,可解决透明或不透明板上的线条或图像检测问题,并且可解决不同厚度的基板的焦面的自动调节。对焦时间短,精度高,客观有效的提高检测精度和速度。
  • 具有自动对焦功能检测设备
  • [发明专利]激光器的控制方法、装置及光刻系统-CN201510937354.3在审
  • 郭艳艳;刘涛;杨振玲 - 天津津芯微电子科技有限公司
  • 2015-12-15 - 2016-02-17 - G05F1/67
  • 本发明实施例提供了一种激光器的控制方法、装置以及一种光刻系统,应用于光刻技术领域。该方法包括获取激光器的控制数据,所述控制数据包括所述激光器的状态功率值;对所述状态功率值进行数模转换,获得所述状态功率值对应的模拟电压;将所述模拟电压输出到激光器的功率控制接口,若所述状态功率值大于0且所述激光器的当前状态为关闭,则所述功率控制接口控制所述激光器以对应功率打开,若所述状态功率值等于0且所述激光器的当前状态为打开,则所述功率控制接口控制所述激光器关闭。该激光器的控制方法可以精确地控制激光器的工作功率。
  • 激光器控制方法装置光刻系统
  • [发明专利]一种多级调焦装置及方法-CN201510928932.7在审
  • 王维娟;刘涛;马强 - 天津津芯微电子科技有限公司
  • 2015-12-15 - 2016-02-17 - G03F7/207
  • 本发明提供了一种多级调焦装置及方法,属于激光直接成像技术领域,应用于激光成像系统,所述多级调焦装置包括:楔形棱镜组件、阶梯棱镜、第一动力机构及用于驱动楔形棱镜组件运动的第二动力机构,所述楔形棱镜组件包括第一棱镜组件和第二棱镜组件;所述第一动力机构用于驱动阶梯棱镜移动以使所述激光光束的焦面位于第一预设位置;所述第二动力机构用于驱动所述第一棱镜组件和第二棱镜组件相对移动以调节所述激光光束的焦面由第一预设位置变为第二预设位置,其中,所述第二预设位置与所述激光成像系统的像面重合。本发明实现了激光成像系统的焦面位置的粗调与微调,在保证焦面位置控制精度的基础上,增大了调焦范围,有效地满足了市场需求。
  • 一种多级调焦装置方法

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