“大田浩平”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果3个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]表面性状测定系统、表面性状测定方法、研磨装置以及研磨方法-CN202310447683.4在审
发明人：金马利文;大岛浩平;大田浩平 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2023-04-24 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明提供一种表面性状测定系统、表面性状测定方法、研磨装置以及研磨方法，不会损伤研磨垫并且不会降低研磨处理整体的生产率，能够精度良好地测定研磨垫的表面性状。表面性状测定系统(40)具备：光学测定装置(41)，该光学测定装置向旋转的研磨垫(2)的研磨面(2a)照射光，基于来自研磨面(2a)的反射光来测定研磨垫(2)的表面性状；罩部件(44)，该罩部件配置在光学测定装置(41)与研磨垫(2)之间；以及透明液供给线路(45)，该透明液供给线路与设置于罩部件(44)的注入口(44b)连结，通过注入口(44b)向研磨垫(2)上供给透明液，罩部件(44)在光和反射光的光路上具有光透过部(44a)。
表面性状测定系统方法研磨装置以及

[发明专利]基板处理装置及基板处理方法-CN202180089767.4在审
发明人： 大田浩平;高田畅行 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2021-11-09 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： B24B37/12 文献下载
摘要：抑制基板的被研磨面损伤，且使研磨率提高。基板处理装置包含：用于支承基板(WF)的工作台(100)；用于保持研磨垫(222)的垫保持器(226)，该研磨垫(222)用于研磨被工作台(100)支承的基板(WF)；用于在垫保持器(226)的周围供给研磨液的喷嘴(228)；及用于使垫保持器(226)旋转的垫旋转机构，垫保持器(226)具有：形成于保持研磨垫(222)的保持面(221‑2c)的中央部的排出孔(221‑2a)；及从排出孔(221‑2a)连通至垫保持器(226)外部的排出路(221‑2b)。
处理装置方法

[发明专利]手烘干装置-CN202210056270.9在审
发明人： 大田浩平;古泽雄大;中村一博;泷野文弥;入江恭亮 -专利权人： TOTO株式会社
申请日： 2022-01-13 - 公布日： 2022-07-19 - 主分类号： F04D25/08 文献下载
摘要：本发明提供一种使从吹出口出来的空气不是从吸入口而是从供手插入的开口漏出的可能性得以降低的手烘干装置。流路部具有：吸入流路，其与吸入口连接，供从吸入口吸入的空气流入；循环流路，其与吸入流路和第一吹出口连接，将从吸入流路流入的空气送往第一吹出口；以及排出流路，其与吸入流路和形成于烘干空间外的排出口连接，通过将从吸入流路流入的空气的一部分送往排出口，从而在烘干空间内产生负压。
烘干装置