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- [发明专利]在四-、五-和六-配位体的金属配合物存在下氧化有机基质的方法及含有配合物的氧化催化剂-CN96199488.6无效
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L·弗拉斯;J-J·吉里德;F·普里;A·拉比昂;D·泰塔德;J-B·沃尔哈克;A·尼沃罗兹金
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埃尔夫·阿奎坦
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1996-11-15
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1999-02-03
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B01J31/18
- 通过在含有至少一种多配位含氮配体的金属配合物的催化剂存在下有机基质与选自氢过氧化物和/或过氧化氢的氧化剂接触使所述有机基质选择性氧化的方法,其特征在于所述金属配合物/过氧化物之摩尔比在1和10-10之间,温度低于120℃,所述金属配合物有通式[LxMyXu]zYq,其中M为处于氧化态的锰和铁原子,X为金属之间的桥,Y为抗衡离子,x和y≥1,0≤u≤3,z为金属配合物的电荷,q=z/Y的电荷,和L为下式的配体R1Ar1N-(CH2)r-NAr2R2,其中Ar1和Ar2为线性C1-C6碳链,与氮化杂环相连,R1和R2为氢或C1-C6烷基链,视具体情况而定与氮化杂环相连,2≤r≤4。
- 配位体金属配合在下氧化有机基质方法含有催化剂
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