专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]发光器件-CN201110050775.6有效
  • 山崎舜平;坂田淳一郎;池田寿雄;中村康男;斋藤惠子 - 株式会社半导体能源研究所
  • 2004-10-08 - 2011-08-17 - H01L51/50
  • 本发明的目的是提供光的色纯度高而且光输出效率高的发光器件,其中采用溅射法在电致发光层上形成电极而不会损坏包含有机材料的层。本发明提供的发光器件包含:发射红光的第一发光元件;发射绿光的第二发光元件;发射蓝光的第三发光元件;和滤色片,其中滤色片包含选择性透射红光的第一着色层,选择性透射绿光的第二着色层,和选择性透射蓝光的第三着色层,其中第一至第三发光元件中的每一个具有第一电极、在第一电极上形成的电致发光层和在电致发光层上形成的第二电极,其中第一着色层形成于所述第一发光元件的第二电极上,其中第二着色层形成于所述第二发光元件的第二电极上,其中第三着色层形成于所述第三发光元件的第二电极上,其中所述电致发光层包括与第二电极接触的层,而且金属氧化物包含在与第二电极接触的层中,其中所述红光、绿光和蓝光各自从所述第二电极侧输出。
  • 发光器件
  • [发明专利]照明系统-CN201010586842.1有效
  • 坂田淳一郎 - 株式会社半导体能源研究所
  • 2006-10-17 - 2011-08-03 - H05B33/26
  • 本发明的目的在于提供一种照明系统,其使用提供有多个发光单元的叠置式发光元件并且甚至在使用长时间之后也几乎不引起发射颜色的改变。提供一种照明系统,其包括包含多个发光单元的第一发光元件;第二发光元件;第一控制装置,其控制第一发光元件的光发射;和第二控制装置,其控制第二发光元件的光发射,其中第一发光元件发射第一发射颜色和第二发射颜色的光,第一发射颜色是初始发射颜色,第二发射颜色是在随着时间改变之后的发射颜色,以及第二发光元件发射第二发射颜色的互补色的光。利用上述结构,可以抑制由于随着时间的改变而引起的色移。
  • 照明系统
  • [发明专利]半导体器件及其制造方法-CN201010248853.9有效
  • 山崎舜平;坂田淳一郎;细羽幸;西田惠里子 - 株式会社半导体能源研究所
  • 2010-08-06 - 2011-03-30 - H01L27/12
  • 本发明涉及半导体器件及其制造方法。本发明的一个目的是增加半导体器件的孔径比。在一个衬底上提供像素部分和驱动器电路。像素部分中的第一薄膜晶体管(TFT)包括:衬底上的栅极电极层;栅极电极层上的栅极绝缘层;栅极绝缘层上的氧化物半导体层;氧化物半导体层上的源极和漏极电极层;在栅极绝缘层、氧化物半导体层、源极和漏极电极层上的、与氧化物半导体层的一部分接触的保护性绝缘层;以及在保护性绝缘层上的像素电极层。所述像素部分具有光透射性质。此外,驱动器电路中的第二TFT的源极和漏极电极层的材料不同于第一TFT的源极和漏极电极层的材料。
  • 半导体器件及其制造方法
  • [发明专利]半导体装置及制造半导体装置的方法-CN201010248886.3有效
  • 山崎舜平;坂田淳一郎;细羽幸;高桥辰也 - 株式会社半导体能源研究所
  • 2010-08-06 - 2011-03-30 - H01L27/12
  • 本发明涉及半导体装置及制造半导体装置的方法。半导体装置包括一个衬底上方的驱动电路和像素,该驱动电路包括第一薄膜晶体管,该像素包括第二薄膜晶体管。第一薄膜晶体管包括第一栅电极层、栅极绝缘层、第一氧化物半导体层、第一氧化物导电层、第二氧化物导电层、与第一氧化物半导体层的一部分接触并且与第一氧化物导电层和第二氧化物导电层的外围和侧表面接触的氧化物绝缘层、第一源电极层以及第一漏电极层。第二薄膜晶体管包括第二栅电极层、第二氧化物半导体层、以及都使用透光材料形成的第二源电极层和第二漏电极层。
  • 半导体装置制造方法
  • [发明专利]半导体装置及其制造方法-CN201010248865.1有效
  • 木村肇;坂田淳一郎;丰高耕平 - 株式会社半导体能源研究所
  • 2010-08-06 - 2011-03-30 - H01L27/12
  • 本发明的课题是提供提高像素部的开口率,并提高驱动电路部的特性的半导体装置。或者,本发明的课题是提供功耗小的半导体装置。或者,本发明的课题是提供能够控制阈值电压的半导体装置。本发明的一个方式是一种半导体装置,包括具有绝缘面的衬底、设置在衬底上的像素部、驱动像素部的驱动电路的至少一部分,构成像素部的晶体管及构成驱动电路的晶体管是顶栅底接触型晶体管,在像素部中,电极及半导体层具有透光性,驱动电路中的电极的电阻低于像素部中的晶体管所具有的所有电极的电阻。
  • 半导体装置及其制造方法
  • [发明专利]半导体装置-CN201010246753.2有效
  • 山崎舜平;坂田淳一郎;坂仓真之;及川欣聪;冈崎健一;丸山穗高 - 株式会社半导体能源研究所
  • 2010-08-04 - 2011-03-30 - H01L27/12
  • 本发明的课题之一是提高半导体装置的可靠性。本发明的一种方式是一种半导体装置,包括同一个衬底上的驱动电路部、显示部(也称为像素部),驱动电路部和显示部包括其半导体层使用氧化物半导体构成的薄膜晶体管、第一布线、第二布线,并且,薄膜晶体管包括与半导体层的边缘部相比其边缘部位于内侧的源电极层或漏电极层,并且,在驱动电路部中的薄膜晶体管中,利用栅电极层和导电层夹持半导体层,并且,第一布线和第二布线通过设置在栅极绝缘层中的开口中隔着氧化物导电层电连接。
  • 半导体装置
  • [发明专利]半导体装置的制造方法-CN201010222525.1有效
  • 山崎舜平;佐佐木俊成;坂田淳一郎;大原宏树 - 株式会社半导体能源研究所
  • 2010-07-02 - 2011-01-12 - H01L21/336
  • 本发明的课题之一是制造包括具有稳定的电特性的薄膜晶体管的可靠性高的半导体装置而提供。在包括将包括沟道形成区的半导体层设为氧化物半导体膜的薄膜晶体管的半导体装置的制造方法中,在形成氧化物半导体膜之前减少存在于栅极绝缘层内的水分等的杂质,然后为了提高氧化物半导体膜的纯度,并减少作为杂质的水分等进行加热处理(为了脱水化或脱氢化的加热处理)。然后,在氧气氛下缓冷。除了在栅极绝缘层及氧化物半导体膜中以外,还减少存在于以上下接触于氧化物半导体膜的方式设置的膜和氧化物半导体膜的界面的水分等杂质。
  • 半导体装置制造方法
  • [发明专利]半导体装置以及半导体装置的制造方法-CN201010194245.4有效
  • 佐佐木俊成;大原宏树;坂田淳一郎 - 株式会社半导体能源研究所
  • 2010-05-27 - 2010-12-01 - H01L21/34
  • 本发明的目的之一在于提供包括具有稳定的电特性的薄膜晶体管的高可靠性的半导体装置。另外,本发明的目的之一还在于以低成本高效地提供高可靠性的半导体装置。一种包括作为沟道形成区使用氧化物半导体层的薄膜晶体管的半导体装置的制造方法,其中在氮气氛下加热氧化物半导体层来将其低电阻化,以形成低电阻氧化物半导体层。另外,将在低电阻氧化物半导体层中的重叠于栅电极层的区域选择性地高电阻化来形成高电阻氧化物半导体区域。通过溅射法接触于该氧化物半导体层地形成氧化硅,以进行氧化物半导体层的高电阻化。
  • 半导体装置以及制造方法

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