专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]太阳能板的固定结构-CN201020262088.1无效
  • 林冠男;吕芳毅;王逢伟;林祈廷;吴泉毅 - 绿能科技股份有限公司
  • 2010-07-13 - 2011-03-09 - F24J2/46
  • 本实用新型为一种太阳能板的固定结构,包括有二固定梁、四个第一耦合件、二支撑梁、及四个第二耦合件。其中,二固定梁平行固设于一太阳能板的背面,且每一固定梁上组设二个第一耦合件。而二支撑梁平行固设于一屋顶,且每一支撑梁上组设有二个第二耦合件。其中,第一耦合件是耦合固定于第二耦合件。因此,本实用新型由第一耦合件耦合固定于第二耦合件,适用于薄边框、或无边框的太阳能板,并且安装便利、省时省力,又成本低廉。
  • 太阳能固定结构
  • [发明专利]彩色滤光基板的制造方法-CN200710122778.X有效
  • 陈锦隆;吴泉毅 - 中华映管股份有限公司
  • 2007-07-09 - 2009-01-14 - G03F7/00
  • 本发明一种彩色滤光基板的制造方法,其步骤包括:提供一基板,该基板上包含一遮光层、一滤光层及一透明电极层;涂布一第一光阻层于该基板上;以及图案化该第一光阻层,以同时形成多数个间隔物与一隔离层。通过此方法,位于彩色滤光基板周缘的电极端子可被隔离层保护而避免被残留的洗剂腐蚀。并且,由于间隔物与隔离层可同时制作,因此,不需要增加额外的材料或方法。
  • 彩色滤光制造方法
  • [发明专利]薄膜晶体管-CN200710089749.8有效
  • 赖钦诠;吴泉毅;蔡依芸 - 中华映管股份有限公司
  • 2007-03-23 - 2008-09-24 - H01L29/786
  • 本发明公开了一种薄膜晶体管,其包括一基板、一栅极、一栅绝缘层、一半导体层、一欧姆接触层以及一源极与一漏极。其中,栅极配置于基板上,而栅绝缘层配置于基板上,并覆盖栅极。半导体层配置于栅绝缘层上,且位于栅极上方。半导体层包括一未掺杂非晶硅层与一第一未掺杂微晶硅层,其中第一未掺杂微晶硅层则配置于未掺杂非晶硅层上。另外,欧姆接触层配置于部分半导体层上,而源极与漏极则配置于欧姆接触层上。因此,本发明的薄膜晶体管具有较佳的品质控制及电性特性。
  • 薄膜晶体管
  • [发明专利]有机薄膜晶体管及其制造方法-CN200510127715.4有效
  • 冉晓雯;颜国锡;柯杰斌;吴泉毅 - 中华映管股份有限公司
  • 2005-12-02 - 2007-06-13 - H01L51/05
  • 一种有机薄膜晶体管,其包括基板、栅极、栅介电层、源极、漏极以及有机半导体层。栅极设置于基板上,而栅极具有一个顶面与两个侧壁。栅介电层全面且连续地覆盖基板与栅极的顶面与侧壁。源极设置于栅极顶面的栅介电层上且漏极设置于栅极旁的栅介电层上,或源极设置于栅极旁的栅介电层上且漏极设置于栅极顶面的栅介电层上。有机半导体层全面且连续地覆盖源极与漏极,其中位于侧壁上的有机半导体层是作为通道而电连接源极与漏极。此有机薄膜晶体管的结构可有效地提高元件操作特性与驱动能力。
  • 有机薄膜晶体管及其制造方法
  • [发明专利]薄膜晶体管的制作方法-CN200510117461.8有效
  • 吴泉毅;官永佳;吕佳谦;赖钦诠 - 中华映管股份有限公司
  • 2005-10-31 - 2007-05-09 - H01L21/336
  • 一种薄膜晶体管的制作方法,其包括下列步骤。首先,在基板上形成栅极。接着,在基板上形成栅绝缘层以覆盖栅极。再来,在栅绝缘层上与栅极上方形成图案化半导体层。然后,依序在图案化半导体层上形成第一导电层与第二导电层。接着,图案化第二导电层,同时使栅极上方两侧的第二导电层具有倾斜截面(taper profile),并暴露出第一导电层。继之,进行第一等离子处理工艺,使第二导电层的表面与倾斜截面处形成第一保护层。之后,移除未被第一保护层以及第二导电层覆盖的第一导电层,以形成源极/漏极。本发明可制作尺寸精细的源极/漏极,并可避免第二导电层的金属离子扩散至图案化半导体层而影响元件的电性。
  • 薄膜晶体管制作方法
  • [发明专利]薄膜晶体管及其制造方法-CN200510088797.6无效
  • 吴泉毅;赖钦诠;官永佳;戴伟仁 - 中华映管股份有限公司
  • 2005-08-02 - 2007-02-07 - H01L29/786
  • 一种薄膜晶体管,其包括基板、栅极、第一介电层、通道层、源极/漏极与第二介电层。栅极设置于基板上,而第一介电层覆盖住栅极与基板。通道层至少设置于栅极上方的第一介电层上。源极/漏极设置于通道层上,而源极/漏极包括第一阻挡层、导体层与第二阻挡层。第一阻挡层设置于导体层与通道层之间,且第一阻挡层与第二阻挡层包覆导体层。第二介电层覆盖住源极/漏极。基于上述,本发明的薄膜晶体管具有较为稳定的电性质量。此外,本发明亦披露一种薄膜晶体管的制造方法。
  • 薄膜晶体管及其制造方法
  • [发明专利]蚀刻设备与蚀刻工艺-CN200510079393.0有效
  • 戴伟仁;吴泉毅;曾美贵;徐名潭 - 中华映管股份有限公司
  • 2005-07-04 - 2007-01-10 - H01L21/3213
  • 本发明提出一种蚀刻设备,适于对铜或银进行蚀刻,其包括过氧化氢槽、氢氧化铵槽、水槽、蚀刻槽、配管系统以及温控装置。配管系统将过氧化氢槽、氢氧化铵槽、水槽连通于蚀刻槽。温控装置设置于过氧化氢槽、氢氧化铵槽以及蚀刻槽的周围,使其温度维持在室温以下且摄氏12度以上。本发明能够避免配管系统内部发生气栓现象,并且可以降低过氧化氢与氢氧化铵的挥发速率,使蚀刻液对铜或银薄层的蚀刻速率维持稳定。
  • 蚀刻设备工艺

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