专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]图像处理装置和图像处理方法-CN201080005297.0无效
  • 张小牤;吉田明子 - 夏普株式会社
  • 2010-02-08 - 2011-12-21 - H04N9/64
  • 本发明提供一种能够进行充分活用面板所具有的颜色再现能力的画像显示而不会使观看者感到不协调的感觉的图像处理装置。图像处理装置(101)包括:将输入数据(RGBin)转换成与液晶面板相应的RGB数据(RGBpanel)的色域转换处理部(110);计算权重系数(k)的权重系数计算部(140);对RGB数据(RGBpanel)实施加权处理的第一色域转换后数据加权处理部(112);对输入数据(RGBin)实施加权处理的输入数据加权处理部(150);和将加权处理后的数据相加而生成用于提供给液晶面板的RGB数据(RGBOUT)的输出用加法部(190)。权重系数计算部(140)基于xy色度图上的色度坐标、关于输入数据的颜色再现范围和以包含记忆色的方式形成的边界线的位置关系,求取权重系数(k)。
  • 图像处理装置方法
  • [发明专利]合成石英玻璃部件,光刻装置以及光刻装置的制造方法-CN200510004707.0无效
  • 吉田明子;小峰典男;神保宏树 - 株式会社尼康
  • 2001-03-28 - 2005-08-24 - C03C3/06
  • 提供合成石英玻璃部件,光刻装置以及光刻装置的制造方法。构成具有把400nm以下波长的光作为曝光光进行出射的曝光光源,形成了图形原像的调制盘,把从曝光光源输出的光照射到调制盘上的照射光学系统,把从调制盘输出的图像投影到感光基板上的投影光学系统,进行调制盘与感光基板的定位的对准系统的光刻装置。而且,用合成石英玻璃部件组成构成照射光学系统的合成石英玻璃部件,构成投影光学系统的合成石英玻璃部件以及调制盘中的至少一部分,这样的合成石英玻璃部件用ArF受激准分子激光器以0.1μJ/cm2.p~200mJ/cm2·p的能量密度进行了1×104脉冲照射时,照射后所测定的193.4nm中的损失系数为0.0050cm-1以下,所含有的氢分子浓度为1×1016分子/cm3~2×1018分子/cm3,而且紫外光照射前的损失系数为0.0020cm-1以下。
  • 合成石英玻璃部件光刻装置以及制造方法
  • [发明专利]石英玻璃元件和投影曝光装置-CN02801814.1有效
  • 小峰典男;吉田明子;神保宏树;藤原诚志 - 株式会社尼康
  • 2002-04-19 - 2003-12-24 - C03C3/06
  • 本发明的石英玻璃元件是其中当其组成被表示为SiOx时,x不小于1.85,不大于1.95,其中其所包含的氢分子的浓度不小于1×1016分子/cm3,不大于5×1018分子/cm3,并且其中用1×104个ArF准分子激光脉冲、平均一个脉冲能量密度为2mJ/cm2照射结束之前立即测得的吸收系数A,与用该ArF准分子激光照射停止之后600秒的第二吸收系数B之间的差A-B,不大于0.002cm-1。当将该石英玻璃元件应用于投影曝光装置中的照明光学系统和/或投影光学系统时,能够实现均匀曝光,同时减小掩模原版表面以及晶片上曝光区域中的照度改变。
  • 石英玻璃元件投影曝光装置
  • [发明专利]合成石英玻璃部件,光刻装置以及光刻装置的制造方法-CN01800713.9无效
  • 吉田明子;小峰典男;神保宏树 - 株式会社尼康
  • 2001-03-28 - 2002-08-21 - C03C3/06
  • 提供合成石英玻璃部件,光刻装置以及光刻装置的制造方法。构成具有把400nm以下波长的光作为曝光光进行出射的曝光光源,形成了图形原像的调制盘,把从曝光光源输出的光照射到调制盘上的照射光学系统,把从调制盘输出的图像投影到感光基板上的投影光学系统,进行调制盘与感光基板的定位的对准系统的光刻装置。而且,用合成石英玻璃部件组成构成照射光学系统的合成石英玻璃部件,构成投影光学系统的合成石英玻璃部件以及调制盘中的至少一部分,这样的合成石英玻璃部件用ArF受激准分子激光器以0.1μJ/cm2.p~200mJ/cm2·p的能量密度进行了1×104脉冲照射时,照射后所测定的193.4nm中的损失系数为0.0050cm-1以下,所含有的氢分子浓度为1×1016分子/cm3~2×1018分子/cm3,而且紫外光照射前的损失系数为0.0020cm-1以下。
  • 合成石英玻璃部件光刻装置以及制造方法

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