专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]流路构件和液体喷射头-CN202211112963.1在审
  • 加藤雅隆 - 佳能株式会社
  • 2022-09-14 - 2023-03-21 - B41J2/01
  • 本申请涉及流路构件和液体喷射头。一种流路构件,包括:第一基板,其中,从第一表面形成流路;和第二基板,具有面向第一表面的第二表面;其中,通过第一表面和第二表面之间的粘接剂使第一基板和第二基板彼此粘接;其中,当从与第一表面正交的方向看时流路呈多边形;其中,流路包括在第一表面侧的第一部分和与第一部分连通的第二部分;其中,当从与第一表面正交的方向看时,第二部分的孔口面积大于第一部分的孔口面积;其中,粘接剂存在于第一部分和第二部分之间的台阶面上以及多边形的角顶处。
  • 构件液体喷射
  • [发明专利]液体喷射头-CN201910902145.3有效
  • 加藤雅隆;初井琢也;竹内创太;宇山刚矢;中洼亨;高桥知广 - 佳能株式会社
  • 2019-09-24 - 2022-02-11 - B41J2/01
  • 本公开涉及一种液体喷射头,液体喷射头设置有记录元件基板,并且记录元件基板包括:喷射口构件、包括压力产生元件阵列和电连接部分的电布线层、以及在前表面上包括喷射口构件和电布线层的硅基板。硅基板包括电连接部分从其突出的第一通孔和第二通孔。硅基板的后表面是(100)表面。第一通孔的开口的侧面中的沿着[110]方向延伸的侧面的延长线和第二通孔的开口的侧面中的沿着[110]方向延伸的侧面的延长线在与[110]方向正交的方向上彼此偏移。
  • 液体喷射
  • [发明专利]液体喷出头基板和液体喷出头-CN201810638283.0有效
  • 樋口广志;坂井稔康;加藤雅隆;上村贵之 - 佳能株式会社
  • 2018-06-20 - 2020-05-05 - B41J2/01
  • 提供液体喷出头基板和液体喷出头。液体喷出头基板配置有多个单元。各单元均包括:形成于支撑基板的第一面的压力产生元件;以及一对独立液室,该对独立液室以彼此相对的方式形成于压力产生元件的两侧,并且向支撑基板的第一面开口。液体喷出头基板在支撑基板中包括:第一共用液室,其与成对的独立液室中的位于一侧的多个独立液室连通;第二共用液室,其与成对的独立液室中的位于另一侧的多个独立液室连通;以及分隔壁,其使第一共用液室和第二共用液室彼此分离。
  • 液体喷出头基板
  • [发明专利]用于制造液体排出头的方法-CN201010205941.0有效
  • 加藤雅隆;早川和宏 - 佳能株式会社
  • 2010-06-17 - 2010-12-29 - B41J2/16
  • 本发明公开了一种制造液体排出头的方法,包括:设置在第一表面上具有绝缘层并在作为第一表面的背面的第二表面上具有带有多个开口的蚀刻掩模层的硅基板,其中,绝缘层被设置在从与开口相对的位置到与掩模层的相邻的开口之间的部分相对的位置的区域中;和通过蚀刻硅基板的硅部分以使得蚀刻的区域到达绝缘层的与开口相对的部分,形成孔,其中,设置在相邻的孔之间的硅壁被蚀刻,使得其第一表面侧的部分可比其第二表面侧的部分薄。
  • 用于制造液体出头方法
  • [发明专利]制造液体排出头的方法以及液体排出头-CN200510128605.X有效
  • 佐藤环树;柬理亮二;加藤雅隆 - 佳能株式会社
  • 2005-11-22 - 2006-06-07 - B41J2/16
  • 根据本发明,提供有一种能够进行高精度打印和记录及具有高可靠性的喷墨记录头、和一种制造该头的方法。本发明的喷墨记录头包括:元件基片,在其表面上形成墨水排出能量产生元件,并且其由硅制成;和薄且扁平的无机基片,其中在墨水排出能量产生元件的上方垂直布置的部分中形成墨水排出端口。此外,该头包括感光材料层,该感光材料层把元件基片粘结到无机基片上并且要构成形成墨水流动路径的壁,该墨水流动路径与墨水排出端口连通。无机基片层叠在设有感光材料层的元件基片上,并且此后设有墨水排出端口。
  • 制造液体出头方法以及

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