专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]研磨头拉伸装置-CN202022619721.4有效
  • 力健中 - 泉芯集成电路制造(济南)有限公司
  • 2020-11-12 - 2021-08-27 - B24B37/34
  • 本实用新型的实施例提供了研磨头拉伸装置,涉及半导体设备技术领域,该研磨头拉伸装置,用于拉伸研磨头上的橡胶膜,研磨头拉伸装置包括气压产生器、分接气盘和抵持组件,气压产生器与分接气盘连接,用于向分接气盘供气,抵持组件与分接气盘连接,并用于与研磨头保持相对固定,分接气盘用于在气压产生器的作用下以预设压力施加在橡胶膜上。通过气压产生器向分接气盘供气,在抵持组件的限位作用下,分接气盘抵持在研磨头的表面,分接气盘用于在气压产生器的作用下以预设压力施加在橡胶膜上,从而实现对研磨头上的橡胶膜的拉伸作用。相较于现有技术,本实用新型避免了研磨头上机台进行拉伸,避免了机台时间的浪费,提升了整体效率。
  • 研磨拉伸装置
  • [发明专利]一种研磨方法-CN202010796632.9在审
  • 力健中 - 泉芯集成电路制造(济南)有限公司
  • 2020-08-10 - 2020-11-10 - B24B37/00
  • 本申请实施例提供了一种研磨方法,包括提供控片,控片具有待研磨表面,利用研磨垫对待研磨表面进行修饰,研磨垫和待研磨表面之间设置有强碱性质的研磨液。也就是说,在研磨垫和控片之间设置有强碱性质的研磨液,在对待研磨表面进行修饰的过程中,可以提高化学反应对待研磨表面的影响,利于对待研磨表面进行研磨,从而提高待研磨表面的平整度,减少待研磨表面的杂质,提高研磨效率,减少研磨次数,提高控片的回收效率,降低回收成本。
  • 一种研磨方法

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