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专利名称
农业 化学；冶金 建筑 机械工程 区域搜索
主分类
A 农业
B 作业；运输
C 化学；冶金
D 纺织；造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]双面抛光设备和抛光方法-CN201610244328.7有效
  • 和田昌树;赤盐典彦;依田辽介 - 不二越机械工业株式会社
  • 2016-04-19 - 2020-01-10 - B24B29/02
  • 提供了一种双面抛光设备和抛光方法，该双面抛光设备能够令人满意地执行高硬度材料的抛光。使上表面板旋转的第一旋转轴具有筒形，竖直地延伸，并且具有固定至其上端的卡箍；使太阳齿轮旋转的第二旋转轴可旋转地插入穿过筒形的第一旋转轴并竖直地延伸，并且具有固定至其上端的小齿轮；太阳齿轮具有筒形并且可旋转地支撑在第一旋转轴的上端部分的外侧，并具有形成在内周部上的内齿和与托架啮合的形成在外周部上的外齿；并且空隙部形成在第一旋转轴的上部处，并且在该空隙部中布置有行星齿轮，该行星齿轮与设置在用于驱动太阳齿轮的第二旋转轴上的小齿轮和太阳齿轮的内齿啮合，并且将第二旋转轴的旋转传递至太阳齿轮。
  • 双面抛光设备方法
  • [发明专利]供双面研磨装置的研磨垫用的修整装置和修整方法-CN201610531125.6有效
  • 原光广;依田辽介 - 不二越机械工业株式会社
  • 2016-07-07 - 2019-10-25 - B24B53/12
  • 本发明涉及供双面研磨装置的研磨垫用的修整装置和修整方法，以便提供能够均匀修整研磨垫的修整装置的修整方法。修整装置包括第一修整磨石(51)和第二修整磨石(52)，它们通过在抵靠在对应的研磨垫(17)和(18)上的同时沿上研磨板(12)和下研磨板(14)的径向移动来磨削研磨垫(17)和(18)，其中，第一修整磨石(51)和第二修整磨石(52)被设置为具有：内侧区域部(P)；外侧区域部(Q)；以及中间区域部(R)，其中，内侧区域部(P)和外侧区域部(Q)中的每一个沿研磨板(12)和(14)的周向延伸的长度比中间区域部(R)沿研磨板的周向延伸的长度长。
  • 双面研磨装置修整方法
  •  1 
  • 共 3 条
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