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专利名称

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申请人
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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]含氟聚合性单体的蒸馏纯化法-CN201880096448.4有效
发明人：宫泽觉;仓本裕介;佐野明日香;滩野亮;秋叶进也;小林诚 -专利权人：中央硝子株式会社
申请日： 2018-09-25 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： C07C67/48 文献下载
摘要：本发明的式(1)所示的含氟聚合性单体的纯化方法的特征在于，含有作为阻聚剂的6‑叔丁基‑2,4‑二甲苯酚等酚系化合物A和2,2'‑亚甲基‑双(4‑甲基‑6‑叔丁基苯酚)等酚系化合物B进行蒸馏纯化。如果组合使用酚系化合物A和酚系化合物B，则即使为工业生产规模也可以格外抑制蒸馏中的低聚物化、聚合物化，能够有效地使含氟聚合性单体蒸馏纯化。
聚合单体蒸馏纯化

[发明专利]发光元件的制造方法-CN202180040366.X在审
发明人：兼子让;坂井田悠太;佐佐木佳子;佐野明日香 -专利权人：中央硝子株式会社
申请日： 2021-05-21 - 公布日： 2023-02-14 - 主分类号： G03F7/038 文献下载
摘要：本发明提供一种发光元件的制造方法，其能够以不使第一发光层产生损伤的方式制造具备第一发光层及形成在第一发光层上的隔堤的发光元件。本发明的发光元件的制造方法包括：基底元件准备工序，其中，准备在基材上配置有单色的第一发光层的基底元件；含氟树脂图案膜形成工序，其中，将光敏性树脂组合物以划分出所述基底元件的至少一部分区域的方式配置在所述基底元件上而形成含氟树脂图案膜，所述光敏性树脂组合物至少包含含氟树脂、溶剂及光聚合引发剂，所述含氟树脂包含由具有氟原子的烃组成的重复单元且具有交联部位；及烘烤工序，其中，通过以200℃以下的温度对所述含氟树脂图案膜进行烘烤而使其固化。
发光元件制造方法

[发明专利]光敏性树脂组合物、含氟树脂固化物的制备方法、含氟树脂、含氟树脂膜、隔堤及显示元件-CN201980078051.7在审
发明人：兼子让;宫泽觉;佐佐木佳子;佐野明日香;野村祐介 -专利权人：中央硝子株式会社
申请日： 2019-11-18 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： C08F8/00 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种具有良好的拒液性的光敏性树脂组合物。本发明的光敏性树脂组合物的特征在于，至少含有具有交联部位的含氟树脂、溶剂及光聚合引发剂，上述含氟树脂含有由具有氟原子的烃组成的重复单元。
光敏树脂组合固化制备方法显示元件

[发明专利]带图案膜基板的制造方法及含氟共聚物-CN201980034689.0在审
发明人：兼子让;青木贵志;野村祐介;佐佐木佳子;佐野明日香 -专利权人：中央硝子株式会社
申请日： 2019-05-23 - 公布日： 2021-01-12 - 主分类号： H05B33/10 文献下载
摘要：本发明的带图案膜基板的制造方法包含：对带图案膜基板进行UV臭氧清洗或氧等离子体清洗，得到第一带图案膜基板的清洗工序，其中，所述带图案膜基板是在基板上形成有具有图案的图案膜的带图案膜基板，上述图案膜含有具有特定重复单元的含氟共聚物；及加热上述第一带图案膜基板而得到第二带图案膜基板的加热工序。
图案膜基板制造方法共聚物

[发明专利]带图案膜基板的制造方法-CN201980034770.9在审
发明人：兼子让;青木贵志;野村祐介;佐佐木佳子;佐野明日香 -专利权人：中央硝子株式会社
申请日： 2019-05-23 - 公布日： 2021-01-08 - 主分类号： H05B33/10 文献下载
摘要：本发明的带图案膜基板的制造方法包含：对带图案膜基板进行UV臭氧清洗或氧等离子体清洗，得到第一带图案膜基板的清洗工序，其中，所述带图案膜基板在基板上形成有具有图案的图案膜；及加热上述第一带图案膜基板而得到第二带图案膜基板的加热工序，通过上述清洗工序，上述第一带图案膜基板的图案膜的接触角减小，通过上述加热工序，上述第二带图案膜基板的图案膜的接触角得到恢复。
图案膜基板制造方法

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