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- [发明专利]光源装置-CN201010510483.1有效
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横田利夫;住友卓;安田幸夫
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优志旺电机株式会社
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2010-10-13
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2011-05-04
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G03F7/20
- 提供光源装置，在发光管内能以大立体角聚光光束，防止能量密度高的光束碰到发光管的壁。发光管(1)是凸型弯月形构造，作为聚光单元(31)起作用。从激光振荡部(2)放射的激光束通过聚光单元(31)在发光管(1)的内部以增大立体角的方式被聚光。由此形成高温等离子体状态，使得发光管发光。将发光管(1)的壁自身作为聚光单元，因而可增大聚光时的立体角，并且所聚光的光束不照射发光管(1)的壁，可防止发光管的加热或破损。作为聚光单元，只要是凸透镜、棒形透镜等可将光聚光的形状即可，也可使用其他，也可以设置多个聚光单元。并且，将聚光单元安装于发光管的内表面也可得到同样的效果。
- 光源装置
- [发明专利]光源装置-CN200910262666.3有效
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安田幸夫;住友卓;加藤雅规
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优志旺电机株式会社
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2009-12-25
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2010-07-07
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H01J65/00
- 本发明提供一种光源装置，对放电容器照射激光而放射放射光，利用通过放电容器遮蔽来自椭圆反射镜的反射光的反射光阻碍区域导入激光，使放射光不会衰减地在椭圆反射面确实反射，高效利用放射光。该光源装置具有内部封入有发光物质的放电容器(1)；在一方焦点(F1)配置放电容器(1)的椭圆反射镜(2)；及将聚光的激光由椭圆反射镜(2)的开口侧导入放电容器(1)的激光导入单元(3)，对放电容器(1)内的发光物质照射导入的激光，激发发光物质，由放电容器(1)放射放射光，放射光被椭圆反射镜(2)反射，成为反射光，激光导入单元(3)设在通过放电容器(1)遮蔽来自椭圆反射镜(2)的反射光的反射光阻碍区域(L1-L2)。
- 光源装置
- [发明专利]光源装置-CN200910266366.2有效
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安田幸夫;住友卓;加藤雅规
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优志旺电机株式会社
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2009-12-24
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2010-07-07
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F21S8/00
- 本发明提供一种光源装置，对放电容器照射激光而使放射光放射，利用通过放电容器遮蔽来自椭圆反射镜的反射光而未照射反射光的反射光非照射区域导入激光，使放射光未衰减地在椭圆反射面确实反射，高效利用放射光。该光源装置具有：在内部封入有发光物质，激光由椭圆反射镜(2)的开口侧聚光且被照射，激发发光物质而放射有放射光的放电容器(1)；在一方焦点上配置有放电容器(1)的椭圆反射镜(2)；以及放射光被椭圆反射镜(2)反射而成为反射光，改变该反射光的方向的平面镜(4)，在平面镜(4)上在通过放电容器(1)遮蔽来自椭圆反射镜(2)的反射光而未被照射反射光的反射光非照射区域(F1-F2)上设有导入激光的窗部(41)。
- 光源装置
- [发明专利]光源装置-CN200910260858.0有效
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住友卓
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优志旺电机株式会社
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2009-12-21
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2010-07-07
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G03F7/20
- 提供一种即使高温等离子体(LPP)沿着光轴方向连续地振动，也可以防止光源闪烁的光源装置。本发明的光源装置，具有：相对配置有一对电极(14、15)并且封入有放电介质的放电灯(1)以及向着一对电极(14、15)间照射能量束(8)的能量束照射单元，其特征为：上述能量束照射单元在对电极(14、15)供电而使放电灯(1)点灯时，向着形成在电极(15)的前端附近的辉点(61)照射能量束(8)。
- 光源装置
- [发明专利]曝光装置-CN200910173460.3有效
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住友卓;芜木清幸;横田利夫
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优志旺电机株式会社
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2009-09-18
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2010-05-26
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G03F7/20
- 一种曝光装置，用于制造半导体及液晶等，具备如下的光学系统：使用激光向放射紫外线等光的放电灯供给高能量的情况下，不会在放电容器上开孔，可以有效利用所产生的光。上述曝光装置具有：放射紫外线的光源；激光装置，用于向该光源射入供给能量的激光；椭圆反射镜，反射从该光源放射的紫外线；以及光学系统，使从配置在该椭圆反射镜的第1焦点上的该光源放射的光在该椭圆反射镜上反射，并经由包含准直透镜、积分透镜在内的光学元件照射被照射物，上述曝光装置的特征在于，为了从该椭圆反射镜的开口侧向该光源射入激光，在被该椭圆反射镜反射的光的光路中设置具有波长选择功能的光束分离器。
- 曝光装置
- [发明专利]光线治疗仪-CN200710085629.0有效
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森田明理;平本立躬;住友卓;木村诚;佐贺崇
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优志旺电机株式会社
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2007-03-01
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2007-10-03
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A61N5/06
- 提供可将副作用控制在某种程度以下且能取得良好治疗效果的光线治疗仪。光线治疗仪利用在UV－B光线的波长范围内有光谱的治疗用光照射患处，其特征在于，治疗用光的光谱至少在303nm以下的波长区域中是连续的，且其下限值在297nm以上的波长范围内。在该光线治疗仪中，包括：在300～315nm的波长范围内具有发光峰值、且放射具有在从该发光峰值到至少295nm的波长区域中连续的光谱的光源光的光源；和来自此光源的光源光入射后、放射出治疗用光的出光窗，上述出光窗放射出的治疗用光的波长具有下限值在297～303nm的波长范围内的光谱。
- 光线治疗
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