专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种应用于有机物料沤肥的加温设备-CN202121920391.0有效
  • 李康磊;曾云霞;陈真;于彦明;王振;李震军;李德忠;谢修鸿 - 长春大学
  • 2021-08-17 - 2022-02-18 - C05F17/90
  • 本实用新型公开了一种应用于有机物料沤肥的加温设备,涉及沤肥设备技术领域,解决了沤肥加工中由于温度不够,造成沤肥周期长,沤肥效率低的问题。现提出以下方案:包括箱体和安装在箱体外壁的控制面板,所述箱体的顶部固定安装有进料管,所述箱体的顶部内壁固定安装有电机,所述电机的输出端连接有传动机构,所述传动机构的一侧设有转杆,所述转杆的外圈固定连接有搅拌杆。本实用新型具有对秸秆自动粉碎和混合,减少人工参与的工作量,对秸秆混合物充分混合,并在沤肥加工中通过能量的转换利用,提高太阳能利用效果,减少沤肥投入的电力成本,提高沤肥作业效率,缩短周期,适合就地使用。
  • 一种应用于有机物料沤肥加温设备
  • [实用新型]设备温度控制系统以及屏柜-CN202021849273.0有效
  • 王小龙;于彦明;明亮;王海龙;高飞 - 神华新能源有限责任公司;国华(哈密)新能源有限公司
  • 2020-08-28 - 2021-04-16 - G05D23/19
  • 本实用新型公开了一种设备温度控制系统以及屏柜,涉及温度控制技术领域,该降温系统包括:温度检测装置、降温装置、电压调节装置以及温度控制器,所述温度控制器用于用于根据所述设备的温度与预设阈值的比较结果来控制所述电压调节装置输出相应的工作电压给所述降温装置,以使所述降温装置在所述工作电压下对所述设备进行降温。本实用新型的有益效果是:能够根据设备的温度来自动调整降温装置的运行功率,能够在设备温度过高的第一时间启动降温装置,实现屏柜内设备温度过高后自动降温的效果,能够大大降低服务器、交换机因温度过高而导致死机的事故发生。
  • 设备温度控制系统以及
  • [实用新型]水域救援衣-CN201520066566.4有效
  • 于彦明 - 于彦明
  • 2015-01-30 - 2015-07-29 - B63C9/093
  • 本实用新型涉及一种水域救援衣,包括有连体的上衣和裤子,所述上衣包括有前身、后身、和衣袖;其特征在于,所述衣袖袖口处设置有手套,所述手套与所述衣袖连为一体,所述裤子裤口处设置有筒靴,所述筒靴与所述裤子连为一体,所述上衣领口处设置有帽子,所述帽子与所述上衣连为一体,所述帽子帽檐处设置有防水罩,所述防水罩与所述帽子连为一体,所述前身正中位置设置有一纵向开口,所述开口处设置有防水拉链,所述前身和后身里面设置有内衬层,所述前身左右胸部与所述内衬层之间各设置有泡沫板,所述后身与所述前身相对的位置也设置有泡沫板。本实用新型结构简单,穿着舒适方便,具有很好的防水性和防护性。
  • 水域救援
  • [发明专利]一种激光损伤光学元件过程的记录方法及其装置-CN201410228431.3有效
  • 刘阳;王毕艺;于彦明 - 中国人民解放军总参谋部第五十四研究所
  • 2014-05-27 - 2014-09-17 - G01M11/02
  • 本发明涉及一种激光对光学元件损伤过程的动态记录方法及其装置,可用于激光加工、光学元件的检测、激光与物质相互作用的机理分析等领域。本发明为:将与辐照激光同轴的He-Ne激光投射于受试光学元件中成像点A;采用表面记录相机和功能记录相机采集点A处的表面成像,并设置第一补光光源和第二补光光源投射光线至A,分别对表面记录相机和功能记录相机的成像进行补光;第二补光光源与光学元件之间的光路上设置分辨率板。采用表面记录相机采集光学元件表面点A处的表面图像进行记录并分析光学元件的形貌损伤程度,采用功能记录相机采集经点A反射的分辨率板图像并分析光学元件的功能损伤程度。本发明适用于对激光损伤光学元件的过程进行动态记录。
  • 一种激光损伤光学元件过程记录方法及其装置

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