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[发明专利]清洗水枪-CN201410374751.X在审
发明人：樊文斌;严均华;王从刚;丁弋;朱也方 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2014-07-31 - 公布日： 2014-12-24 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明涉及半导体湿法清洗领域，具体涉及一种清洗水枪，通过拆除现有技术水枪原直线形喷头，接口按处原水枪螺纹进行设计，喷嘴中端在原有基础上进行加长设计，减少水枪在狭小空间接触研磨盘和研磨垫的可能性，喷头采用多孔式花洒装置，并且在靠近喷头位置处按一定角度向内曲折，方便水流快速，均匀，小冲击力的冲洗晶圆表面，同时本发明所提供的水枪还可简单的调整水流速度和喷洒面积，结构简单，操作方便，成本也较低，适合大范围推广使用。
清洗水枪

[发明专利]嵌入式锗硅结构的制造方法-CN201310213628.5有效
发明人：丁弋;张明华;方精训;严均华 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2013-05-31 - 公布日： 2013-10-09 - 主分类号： H01L21/336 文献下载
摘要：本发明公开了一种嵌入式锗硅结构的制造方法包括在FinFET结构上沉积一层氮化硅；涂布一层光刻胶，经过光刻刻蚀，刻穿多晶硅两侧的氮化硅；在露出的FinFET结构的单晶硅上制作出孔洞；在该孔洞上，利用外延法形成嵌入式锗硅结构；刻蚀去除多余的氮化硅。本发明提供的嵌入式锗硅结构的制造方法简单易行，与现有技术相比，不会改变Fin结构的形状，可以在Fin结构上形成均一的锗硅，且具备锗硅尺寸大小的可控性。
嵌入式结构制造方法