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- [实用新型]塑胶溅射镀膜设备-CN202220299999.4有效
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高佳
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东莞市峰谷纳米科技有限公司
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2022-02-15
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2022-09-23
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C23C14/35
- 本实用新型公开了塑胶溅射镀膜设备，包括结构主体，所述结构主体包括送料装置与溅射镀膜装置，所述溅射镀膜装置包括周转室、第一溅射室、第二溅射室、第三溅射室以及第四溅射室，所述周转室设于溅射镀膜装置的中间，所述第一溅射室、第二溅射室、第三溅射室以及第四溅射室依次围绕周转室而设置，所述第一溅射室的外部设有低压溅射机构，所述第二溅射室的外部设有第一磁控溅射机构、第二磁控溅射机构以及第三磁控溅射机构，所述第三溅射室的外部设有第四磁控溅射机构、电感耦合等离子光谱发生仪以及第五磁控溅射机构，所述第四溅射室的外部设有第一RF离子源清洗机构、第六磁控溅射机构以及第七磁控溅射机构。
- 塑胶溅射镀膜设备
- [发明专利]一种表面清洗氧化方法-CN202110247594.6在审
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高佳
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东莞市峰谷纳米科技有限公司
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2021-03-06
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2022-09-06
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B08B3/00
- 本发明是一种表面清洗氧化方法，包括以下步骤：S1、将待处理产品表面进行粗清洗，将粗清洗后的待处理产品吹干；S2、将粗清洗后待处理产品放置入真空腔中，对真空腔进行抽真空；S3、向真空腔内通入惰性气体，真空腔中真空度范围为5pa‑0.05pa，通入惰性气体速度范围为10‑5000sccm；S4、对石墨电极进行通电，通电电压范围为200‑5000v；S5、向真空腔中通入活性气体，通入活性气体的速度范围为10‑5000sccm；本发明中采用石墨电极作为靶源，对惰性气体与活性气体进行电离，解决了金属电极作为靶源对待处理产品表面清理造成表面沉积的问题，有效提升了待处理产品的表面达因值；采用惰性气体与活性气体同时对待处理产品表面进行清理，可使清洗后待处理产品表面洁净度达到99.9%。
- 一种表面清洗氧化方法
- [发明专利]一种电路板生产方法-CN202110247599.9在审
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高佳
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东莞市峰谷纳米科技有限公司
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2021-03-06
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2022-09-06
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H01L21/02
- 本发明是一种电路板生产方法，包括以下步骤：S1、将刻蚀电路板用晶圆表面进行粗清洗；S2、将粗清理后晶圆放置入真空腔中，对真空腔进行抽真空，真空腔中真空度范围为5pa‑2pa；S3、向真空腔内通入惰性气体，通入惰性气体速度范围为10‑5000sccm，对石墨电极进行通电，通电电压范围为200‑5000v；完成一次清洗；本发明中采用石墨电极作为靶源，对惰性气体与活性气体进行电离，解决了金属电极作为靶源对电路板表面清理造成损伤的问题，有效提升了电路板的表面达因值；采用惰性气体与活性气体同时对电路板表面进行清理，可使清理后电路板表面膜氧化率达到99.9%，对晶圆表面进行两次清理，确保晶圆的表面洁净度，提升了电路板的使用效果。
- 一种电路板生产方法
- [发明专利]一种表面氧化方法-CN202110247606.5在审
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高佳
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东莞市峰谷纳米科技有限公司
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2021-03-06
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2022-09-06
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C23C14/35
- 本发明是一种表面氧化方法，包括以下步骤：S1、将产品表面进行粗清理，将粗清理后产品吹干；S2、将粗清理后产品放置入真空腔中，真空腔中设置有隔离板，隔离板将真空腔分为溅射腔室与氧化腔室，对真空腔进行抽真空，真空腔中真空度范围为5pa‑0.05pa；S3、向溅射腔室内通入惰性气体，通入惰性气体速度范围为10‑5000sccm，向氧化腔室中通入活性气体及惰性气体，通入气体的速度范围为10‑5000sccm；本发明中采用石墨电极作为氧化靶源，对惰性气体与活性气体进行电离生成氧离子、氧化合物，产品在高速旋转前提下，先溅射后氧化实施；分步对完成溅射镀膜的产品表面进行氧化处理，可使镀膜的产品氧化率达到99.9%。
- 一种表面氧化方法
- [发明专利]溅射镀膜设备-CN202210136775.6在审
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高佳
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东莞市峰谷纳米科技有限公司
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2022-02-15
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2022-05-24
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C23C14/35
- 本发明公开了溅射镀膜设备，包括送料机构与溅射镀膜机构，溅射镀膜机构包括周转室、第一溅射腔室、第二溅射腔室、第三溅射腔室以及第四溅射腔室，周转室设于溅射镀膜机构的中间，而第一溅射腔室、第二溅射腔室、第三溅射腔室以及第四溅射腔室依次围绕周转室设置，第一溅射腔室的外部设有低压溅射装置，第二溅射腔室的外部设有第一磁控溅射装置、第二磁控溅射装置以及第三磁控溅射装置，第三溅射腔室的外部设有第四磁控溅射装置、电感耦合等离子光谱发生仪以及第五磁控溅射装置，第四溅射腔室的外部设有第一RF离子源清洗装置、第六磁控溅射装置以及第七磁控溅射装置。
- 溅射镀膜设备
- [实用新型]一种等离子表面清洁装置-CN202120481659.9有效
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高佳
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东莞市峰谷纳米科技有限公司
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2021-03-06
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2021-09-24
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H01J37/32
- 本实用新型是一种等离子表面清洁装置，包括主机体，所述主机体一侧设有真空泵组，所述主机体两端还设有惰性气体箱及活性气体箱，所述惰性气体箱与所述活性气体箱一侧分别设有高压电源及电控箱，所述惰性气体箱与所述活性气体箱通过管道与所述主机体相通，所述主机体内部中空形成腔体，本实用新型中采用石墨作为电极对活性气体与惰性气体进行电离，石墨电极与活性气体反应后生成气体，不会对被清洗半导体表面造成残留；被清洗零件以转动的方式进入不同氛围进行清洗，大幅度提升了清洗效果，而且结构简单，使用方便；被清洗零件可以转动，能够使被清洗零件的不同位置直面等离子体，确保零件表面被清洗干净。
- 一种等离子表面清洁装置
- [发明专利]一种等离子表面清洁装置-CN202110247600.8在审
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高佳
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东莞市峰谷纳米科技有限公司
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2021-03-06
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2021-05-18
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H01J37/32
- 本发明是一种等离子表面清洁装置，包括主机体，所述主机体一侧设有真空泵组，所述主机体两端还设有惰性气体箱及活性气体箱，所述惰性气体箱与所述活性气体箱一侧分别设有高压电源及电控箱，所述惰性气体箱与所述活性气体箱通过管道与所述主机体相通，所述主机体内部中空形成腔体，本发明中采用石墨作为电极对活性气体与惰性气体进行电离，石墨电极与活性气体反应后生成气体，不会对被清洗半导体表面造成残留；被清洗零件以转动的方式进入不同氛围进行清洗，大幅度提升了清洗效果，而且结构简单，使用方便；被清洗零件可以转动，能够使被清洗零件的不同位置直面等离子体，确保零件表面被清洗干净。
- 一种等离子表面清洁装置
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