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[发明专利]一种光谱仪测试方法及测试系统-CN202310831013.2在审
发明人：池志炜;吴波;程一丹;殷海玮 -专利权人： 上海复享光学股份有限公司
申请日： 2023-07-07 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： G01J3/28 文献下载
摘要：本发明涉及一种光谱仪测试方法，包括如下步骤：编写测试用例库，所述用例库包括但不限于指令验证、通讯协议解析、时序数据校验、软件开发工具包正常调用情况；接收输入的操作指令，所述操作指令包括执行操作指令、任务创建指令或自定义指令；基于所接收的操作指令创建新的任务或创建自定义指令；基于所接收的操作指令执行测试，查找得到用例库中相对应的用例，并将所得到的用例发送给光谱仪执行并接收所述光谱仪的反馈；根据所述光谱仪的反馈输出光谱仪测试结果。
一种光谱仪测试方法系统

[发明专利]衍射成像缺陷检测系统及其检测方法-CN202310808583.X在审
发明人：叶俊燚;石磊;赵茂雄;卢国鹏;隆军;殷海玮 -专利权人： 上海复享光学股份有限公司
申请日： 2023-07-03 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： G01N21/88 文献下载
摘要：本发明公开了一种衍射成像缺陷检测系统及其检测方法，基于大角度暗场衍射显微成像和明场显微成像技术，能同时获得明场显微图像和暗场衍射显微图像，对大面积衍射光波导面结构信息进行多角度的快速获取，再配以相应的图像处理算法进而完成缺陷的自动化定位，并判断缺陷类型，有助于衍射光波导缺陷检测的工业化应用，提高检测效率。本发明解决了衍射光波导缺陷检测的传统检测方法对环境要求苛刻、对算法要求复杂、成本高、不适宜大规模工业化推广应用的问题。
衍射成像缺陷检测系统及其方法

[发明专利]微结构样品检测设备及其检测方法-CN202310808581.0在审
发明人：隆军;赵茂雄;卢国鹏;胡松婷;王婷婷;殷海玮 -专利权人： 上海复享光学股份有限公司
申请日： 2023-07-03 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： G01N21/01 文献下载
摘要：本发明公开了一种微结构样品检测设备及其检测方法，包括：成像光路，成像光路具有用于放置微结构样品的载物台；扫场电机，用于沿着垂直于微结构样品的方向，对样品进行轴向移动，从而进行光场扫描；长工作距平行光路，用于以反射或透射方式将单束平行照明光投射至微结构样品上，平行光路包括扩束整形镜组、选区光阑和中继镜组，扩束整形镜组具有一入射端和出射端，入射端对准于光源，选区光阑对准于出射端，中继镜组包括同光轴设置的前透镜和后透镜，前透镜对准于选区光阑的光阑孔，后透镜对准于微结构样品，微结构样品的样品面与选区光阑为物像共轭且像方远心。本发明解决了现有的光场扫描检测方法存在检测的样品光学参数信息不准确的问题。
微结构样品检测设备及其方法

[发明专利]薄膜沉积设备腔室清洁工艺原位监测系统及方法-CN202310216478.7在审
发明人：陆祺峰;贺晓龙;沈唐尧;崔靖;殷海玮 -专利权人： 上海复享光学股份有限公司
申请日： 2023-03-07 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明公开了一种薄膜沉积设备的腔室清洁工艺原位监测系统及其方法，对诸如NF3或SF6等任意清洁气体都可以做腔室清洁的终点检测，不会受到气体种类的限制，在监测过程中，通过利用清洁气体产生的参考谱线强度随时间变化的修正系数对目标谱线的强度进行实时修正，能不受外部因素如射频电源偏压的漂移或者气体流量的抖动的影响，从而准确判定清洁终点，保障了镀膜工艺的重复性，延长腔室部件寿命，节约用户成本。本发明解决了现有的薄膜沉积设备腔室清洁是基于经验的固定时长的清洁，不能较好的把控清洁程度的问题。
薄膜沉积设备清洁工艺原位监测系统方法

[外观设计]超构透镜光学检测机-CN202330028216.9有效
发明人：陈冠沪;胡松婷;赵茂雄;卢国鹏;殷海玮 -专利权人： 上海复享光学股份有限公司
申请日： 2023-01-18 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： 10-05 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：超构透镜光学检测机。2.本外观设计产品的用途：用于微纳光子学中实空间多维光场表征的产品，用于分辨实空间光场强度、相位、偏振和频率等信息。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图1。
透镜光学检测

[发明专利]一种共焦角分辨光谱检测方法及装置-CN202211523750.8在审
发明人：洪少欣;周燕飞;贺晓龙;殷海玮;赵茂雄 -专利权人： 上海复享光学股份有限公司
申请日： 2022-11-30 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： G01N21/25 文献下载
摘要：本发明公开了一种共焦角分辨光谱检测方法及装置，装置包括构成显微共焦光路的聚光组件、数字微光学器件、空间滤波器和光谱检测设备，聚光组件在显微共焦光路上形成有待测样品实空间共轭面和动量空间共轭面，其特征在于：在样品动量空间共轭面设置有数字微光学器件阵列，通过数字微光学器件阵列的空间光调制，进行样品动量空间共轭面的光谱筛选，以保证光谱检测设备可以有选择地检测不同动量空间位置的光的光谱，从而实现对样品不同角度光谱的检测。
一种共焦角分辨光谱检测方法装置

[发明专利]光谱仪调试方法及辅助装置-CN202211609995.2在审
发明人：贺晓龙;王婷婷;雷雨;胡松婷;崔靖;石磊;殷海玮 -专利权人： 上海复享光学股份有限公司
申请日： 2022-12-12 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： G01J3/28 文献下载
摘要：本发明涉及一种光谱仪调试方法及辅助装置，该调试方法包括步骤：提供分光镜，将该分光镜与待调试光谱仪的主光轴呈一定夹角地设置于待调试光谱仪的入口处；提供光源，利用光源沿主光轴的方向向待调试光谱仪发射入射光，该入射光经分光镜分光后打入待调试光谱仪，并由待调试光谱仪反射回分光镜形成一反射光；提供光谱检测设备，在调试待调试光谱仪的过程中，检测反射光的光谱强度，观察各波段光谱强度变化情况，以光谱强度越强、像面重合度越高为原则针对性调试待调试光谱仪，直至各波段的光谱强度值达到预设标准。本发明调试简单、快速，且调试精确度高，可支持多种入射光源，能够更全面地实现光谱仪的像面重合优化。
光谱仪调试方法辅助装置

[发明专利]光栅衍射效率检测系统及其检测方法-CN202211687493.1在审
发明人：赵茂雄;卢国鹏;隆军;贺晓龙;胡松婷;石磊;殷海玮 -专利权人： 上海复享光学股份有限公司
申请日： 2022-12-27 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： G01M11/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种光栅衍射效率检测系统及其检测方法，包括：一承台，承台的上方可转动地安装有样品台；入射组件，包括对准于样品台的光源、设置于光源的出光光路上的光束调制器和设置于光束调制器的出光光路上的偏振调制器；透镜组件，对准于待测微纳光栅及其衍射光束；第一成像透镜，设置于透镜组件的出光光路上；分束器，设置于第一成像透镜的出光光路上；第一光电探测装置，设置于分束器的反射光路上；第二光电探测装置，分束器的透射光路上设置有第二成像透镜，第二光电探测装置设置于第二成像透镜的出光光路上。本发明解决了传统宏观的光栅衍射效率测量方案无法对微纳尺度衍射光栅的微观区域进行衍射效率的检测的问题。
光栅衍射效率检测系统及其方法

[实用新型]光斑大小可变的平行光发生器-CN202320109576.6有效
发明人：卢国鹏;王婷婷;赵茂雄;殷海玮 -专利权人： 上海复享光学股份有限公司
申请日： 2023-01-20 - 公布日： 2023-04-21 - 主分类号： G02B27/09 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种光斑大小可变的平行光发生器，包括：用于形成宽光束的准直透镜，所述准直透镜具有相对的第一侧和第二侧，所述准直透镜的第一侧设置有用于连接光源的光纤接口，所述光纤接口对准于所述准直透镜的第一侧；用于调节所述宽光束的光斑大小的光阑，设置于所述准直透镜的第二侧且对准于所述准直透镜的第二侧；缩束透镜组件，设置于所述光阑的远离所述准直透镜的一侧且对准于所述光阑的光阑孔；校正透镜，设置于所述缩束透镜组件的输出光路。本实用新型解决了现有的平行光发生器存在光斑大小无法根据需要调节，且适配波段范围有限，无法覆盖紫外至近红外波段的问题。
光斑大小可变平行发生器

[发明专利]离轴数字全息中1级和0级谱分离的角度调节装置及方法-CN202211572439.2在审
发明人：隆军;胡松婷;赵茂雄;卢国鹏;贺晓龙;殷海玮 -专利权人： 上海复享光学股份有限公司
申请日： 2022-12-08 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： F16M11/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种离轴数字全息中1级和0级谱分离的角度调节装置及方法，包括：套设于旋转轴上且可拆卸地安装于平台上的底座，底座可绕旋转轴转动；安装于底座的顶端且呈横向设置的轴杆；套设安装于轴杆上且可绕轴杆转动的连接件；安装于连接件远离轴杆一端的固定板；安装于固定板远离连接件一侧的镜片。本发明将角度的调节分为2个独立的方向，互不干扰，以精准地控制镜片的倾斜姿态，从而能够方便地调节1级谱的位置，以最大程度利用全息干涉测量中的频域空间。
数字全息分离角度调节装置方法

[发明专利]原位等离子体工艺制程监测系统及其监测方法-CN202211623712.X在审
发明人：陆祺峰;贺晓龙;沈唐尧;崔靖;殷海玮;方源 -专利权人： 上海复享光学股份有限公司
申请日： 2022-12-16 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明公开了一种原位等离子体工艺制程监测系统及其监测方法，针对不同材质的刻蚀膜层所含的元素，根据NIST数据库获取各元素对应特征谱线的标准波长和强度信息以建立不同刻蚀膜层所对应的模拟光谱库，并将测得的等离子体光谱与模拟光谱库内的模拟光谱初步匹配。对匹配成功的光谱线，从测得的等离子体光谱中提取像素‑强度信息，对峰位拟合得到峰位中心像素值，结合模拟光谱库中已匹配的模拟光谱的标准波长值拟合得到新的光谱仪波长与像素之间的色散关系函数，最后根据新的色散关系函数对反射光谱进行处理以获得准确的反射光波长，进而在对等离子体实时监控中，实现光谱仪的实时波长定标，准确得到反射光波长并准确计算刻蚀速率和刻蚀深度。
原位等离子体工艺监测系统及其方法

[发明专利]大相位梯度微型透镜检测系统及检测方法-CN202211687164.7在审
发明人：赵茂雄;陈劭虎;卢国鹏;隆军;贺晓龙;胡松婷;殷海玮;石磊 -专利权人： 上海复享光学股份有限公司
申请日： 2022-12-27 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： G01M11/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种大相位梯度微型透镜检测系统，包括：供样品设置的样品光路；用以与该样品光路形成干涉的参考光路；用于获取该样品光路的第一光束与该参考光路的第二光束的干涉图案并对该干涉图案进行傅里叶变换形成频谱空间分布图的探测器；设在该参考光路上并用于调制该第二光束的波前调制组件，使得该频谱空间分布图完全在该探测器的额定频谱空间范围内。本发明可以在不改变探测器的情况下，实现更大数值孔径微型透镜的检测。
相位梯度微型透镜检测系统方法

[发明专利]光谱仪杂散光校正方法-CN202211687176.X在审
发明人：贺晓龙;王婷婷;胡松婷;崔靖;殷海玮 -专利权人： 上海复享光学股份有限公司
申请日： 2022-12-27 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： G01J3/28 文献下载
摘要：发本明涉及一种光谱仪杂散光校正方法，包括步骤：将具有已知强度分布的m个连续光谱射入待校正光谱仪中，利用所述待校正光谱仪测得所述m个连续光谱的实际光谱强度分布，其中，m为大于等于1的自然数；利用压缩感知算法以所述m个实际光谱强度求解所述待校正光谱仪的杂散光矩阵，所述杂散光矩阵的维度为n×n(n为预设的自然数，且m＜n)。本发明调试简单、快速，且调试精确度高，可支持多种入射光源，能够更全面地实现光谱仪的像面重合优化。本发明利用远小于杂散光校正矩阵信号维度的有限波段光谱即可快速计算出杂散光校正矩阵，大大减少了测试所需的光谱采样率，降低了设备成本，提高了测量效率，并保证了校正精度。
光谱仪散光校正方法

[发明专利]等离子体工艺制程监测方法及其监测系统-CN202211641013.8在审
发明人：陆祺峰;沈唐尧;贺晓龙;崔靖;殷海玮;方源 -专利权人： 上海复享光学股份有限公司
申请日： 2022-12-20 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： H01J37/244 文献下载
摘要：本发明涉及一种等离子体工艺制程监测方法及其监测系统，包括：将电动光阑装置安装于入射狭缝与光学探头之间；在刻蚀时，实时采集光源的光谱信号，调节透光孔的尺寸，使光谱信号的像素响应值控制在像素饱和阈值范围内；将光谱信号通过傅里叶变换转换成频域信号；通过寻峰算法结合窗函数对频域光谱信号进行频域滤波；将滤波后的频域信号通过傅里叶逆变换转换成时域信号；从时域信号中提取出特定波长反射光的干涉信号；计算出刻蚀速率和当前刻蚀深度；在当前刻蚀深度等于预设刻蚀终点深度时，发送到达刻蚀终点的提醒信息。本发明能够避免光谱信号过曝，通过将背景光信号滤去以获取更准确的刻蚀速率和刻蚀深度，提高等离子体工艺制程监测的准确性。
等离子体工艺监测方法及其系统

[发明专利]用于测量有机发光材料的方法、计算设备和计算机存储介质-CN202010650983.9有效
发明人：范灵杰;李政红;卢国鹏;石磊;殷海玮 -专利权人： 上海复享光学股份有限公司
申请日： 2020-07-08 - 公布日： 2022-03-11 - 主分类号： G01N21/25 文献下载
摘要：本公开涉及一种用于测量有机发光材料的方法、计算设备和计算机存储介质。该方法包括：将待测有机发光材料组件放置在光谱仪的样品台上；使得入射光以预定角度从待测有机材料层远离衬底的一侧照射待测有机材料层；旋转光谱仪的探测装置，以便扫描测量经由棱镜发出的各个角度的光强；以及基于经由扫描测量而获得的非偏振光谱信息与对照非偏振光谱信息之间的比较，确定待测有机发光材料组件中的偶极子分布取向信息，偶极子分布取向信息至少包括偶极子的竖直分布信息和偶极子水平分布信息，对照非偏振光谱信息是经由叠加p偏振光谱信息和s偏振光谱信息而生成的。本公开能够精准衡量有机发光材料的发光特性。
用于测量有机发光材料方法计算设备计算机存储介质

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